发表服务
光学光刻中英文外文文献翻译.外文文献翻译完整版字数4366(含：英文原文及中文译文)文献出处：Hongfei,Xiaoping.TemperatureControlSystemMulti-closedLoopsLithographyProjectionLens[J].ChineseJournalMechanicalEngineering,2009,22(2):207-213.中文译文用于光刻投影镜头的多闭环…
湖南文理学院芙蓉学院毕业设计(论文)外文资料翻译1.外文资料翻译译文；2.外文原文。指导教师评语：签名：附件1：外文资料翻译译文光刻投影镜头多闭环温度控制系统国家重点实验室，数字制造装备与工艺，华中科技大学,武汉430074，中国大学天华学院，上海师范大学，上海201815，中国2008…
本篇论文的目的是探讨并研究针对目前半导体製程过程中,包含涂佈光阻(Coating),曝光(Exposure),与显影(Developer),烘烤(Baking)等过程中,所产生的Defect种类,产生原因的探讨并加以的区分,而且利用一些实验手法去减少产生Defect的现象发生.例如利用Exhaust的改变,製程程式的设定,HardwareModify等等均可改善...
光刻工艺的研究论文.doc,毕业设计（论文）报告题目光刻工艺的研究系别专业液晶显示技术与应用班级学生姓名学号指导教师2012年3月光刻工艺的研究PAGEiv光刻工艺的研究摘要：在平面晶体管和集成电路生产中，要进行多次的光刻，以实现选择性扩散和金属膜布线的目的。
NIKON光刻机的对准优化设计论文.doc,大漠天下原创作品,原创力文档版权提供，违者必究，PAGE\*MERGEFORMAT46PAGE\*MERGEFORMAT46PAGE\*MERGEFORMATPAGE\*MERGEFORMAT1本科毕业设计(论文)论文题目：关于...
重庆大学硕士学位论文用于紫外光刻的聚焦光学系统的研究姓名：王强申请学位级别：硕士专业：光学工程指导教师：张流强20070420重庆大学硕士学位论文中文摘要摘要光学光刻技术一直是微技术的主流技术之一，是近来世界各国研究的重点。
光刻分为正性光刻和负性光刻两种基本工艺，区别在于两者使用的光刻胶的类型不同。负性光刻使用的光刻胶在曝光后会因为交联而变得不可溶解，并会硬化，不会被溶剂洗掉，从而该部分硅片不会在后续流程中被腐蚀掉，负性光刻光刻胶上的图形与掩模版上图形相反。
光刻机的核心是镜头和光源，这是长春光机研究对象。国产最先进的光刻机是长春光机和上海微电子联合研制的。5、国产光刻机的希望--上海微电子光刻机分为前道光刻机，比如ASML这种，还有后道光刻机，比如上海微电子。
（光学专业优秀论文）激光干涉光刻技术光学真正形成一门科学，应该从建立反射定律和折射定律的时代算起，这两个定律奠定了几何光学的基础。17世纪，望远镜和显微镜的应用大大促进了几何光学的发展。光的本性（..
本着对我国光刻机技术领域尽一份力量的初衷，作者在半年多的时间里（新冠疫情期间）夜以继日的工作，精雕细琢，完成了《集成电路与光刻机》的撰写。.本书介绍了集成电路与光刻机的发展历程；重点介绍了光刻机整机、分系统与曝光光源的主要功能...
光学光刻中英文外文文献翻译.外文文献翻译完整版字数4366(含：英文原文及中文译文)文献出处：Hongfei,Xiaoping.TemperatureControlSystemMulti-closedLoopsLithographyProjectionLens[J].ChineseJournalMechanicalEngineering,2009,22(2):207-213.中文译文用于光刻投影镜头的多闭环…
湖南文理学院芙蓉学院毕业设计(论文)外文资料翻译1.外文资料翻译译文；2.外文原文。指导教师评语：签名：附件1：外文资料翻译译文光刻投影镜头多闭环温度控制系统国家重点实验室，数字制造装备与工艺，华中科技大学,武汉430074，中国大学天华学院，上海师范大学，上海201815，中国2008…
本篇论文的目的是探讨并研究针对目前半导体製程过程中,包含涂佈光阻(Coating),曝光(Exposure),与显影(Developer),烘烤(Baking)等过程中,所产生的Defect种类,产生原因的探讨并加以的区分,而且利用一些实验手法去减少产生Defect的现象发生.例如利用Exhaust的改变,製程程式的设定,HardwareModify等等均可改善...
光刻工艺的研究论文.doc,毕业设计（论文）报告题目光刻工艺的研究系别专业液晶显示技术与应用班级学生姓名学号指导教师2012年3月光刻工艺的研究PAGEiv光刻工艺的研究摘要：在平面晶体管和集成电路生产中，要进行多次的光刻，以实现选择性扩散和金属膜布线的目的。
NIKON光刻机的对准优化设计论文.doc,大漠天下原创作品,原创力文档版权提供，违者必究，PAGE\*MERGEFORMAT46PAGE\*MERGEFORMAT46PAGE\*MERGEFORMATPAGE\*MERGEFORMAT1本科毕业设计(论文)论文题目：关于...
重庆大学硕士学位论文用于紫外光刻的聚焦光学系统的研究姓名：王强申请学位级别：硕士专业：光学工程指导教师：张流强20070420重庆大学硕士学位论文中文摘要摘要光学光刻技术一直是微技术的主流技术之一，是近来世界各国研究的重点。
光刻分为正性光刻和负性光刻两种基本工艺，区别在于两者使用的光刻胶的类型不同。负性光刻使用的光刻胶在曝光后会因为交联而变得不可溶解，并会硬化，不会被溶剂洗掉，从而该部分硅片不会在后续流程中被腐蚀掉，负性光刻光刻胶上的图形与掩模版上图形相反。
光刻机的核心是镜头和光源，这是长春光机研究对象。国产最先进的光刻机是长春光机和上海微电子联合研制的。5、国产光刻机的希望--上海微电子光刻机分为前道光刻机，比如ASML这种，还有后道光刻机，比如上海微电子。
（光学专业优秀论文）激光干涉光刻技术光学真正形成一门科学，应该从建立反射定律和折射定律的时代算起，这两个定律奠定了几何光学的基础。17世纪，望远镜和显微镜的应用大大促进了几何光学的发展。光的本性（..
本着对我国光刻机技术领域尽一份力量的初衷，作者在半年多的时间里（新冠疫情期间）夜以继日的工作，精雕细琢，完成了《集成电路与光刻机》的撰写。.本书介绍了集成电路与光刻机的发展历程；重点介绍了光刻机整机、分系统与曝光光源的主要功能...
发表服务