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光刻机/曝光机（英语：MaskAligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。可以分为两种，分别是模板与图样大小一致的ContactAligner，光刻时模板紧贴晶圆；以及利用类似投影机原理…
按所用光源，光刻机经历了五代产品的发展最初的两代光刻机采用汞灯产生的436nmg-line和365nmi-line作为光刻光源，可以满足0.8-0.35微米制程芯片的生产。最早的光刻机采用接触式光刻，即掩模贴在硅片上进行光刻，容易产生污染，且掩模寿命较短。
NIKON光刻机的对准优化设计论文.doc,大漠天下原创作品,原创力文档版权提供，违者必究，PAGE\*MERGEFORMAT46PAGE\*MERGEFORMAT46PAGE\*MERGEFORMATPAGE\*MERGEFORMAT1本科毕业设计(论文)论文题目：关于...
本篇论文的目的是探讨并研究针对目前半导体製程过程中,包含涂佈光阻(Coating),曝光(Exposure),与显影(Developer),烘烤(Baking)等过程中,所产生的Defect种类,产生原因的探讨并加以的区分,而且利用一些实验手法去减少产生Defect的现象发生.例如利用Exhaust的改变,製程程式的设定,HardwareModify等等均可改善...
1、上海微电子光刻机在全球属于什么水平？-云+社区-腾讯云光刻机市场几乎被荷兰ASML、日本尼康和佳能、中国上海微电子设备集团四家所垄断。而在这里面，又分为三个档次，荷兰ASML垄断了高端光刻机市场份额，日本尼康和佳能处于中端但...
光学光刻技术进展投影光刻机主要包括投影光刻物镜、光学对准系统、照明系统和步进扫描系统等四大单元技术。.这四大单元技术与光刻机基本功能和主要技术指标密切相关，也是光刻机的主要技术难点，能否在这四大单元技术上有所突破是提高光刻机整机...
重庆大学硕士学位论文用于紫外光刻的聚焦光学系统的研究姓名：王强申请学位级别：硕士专业：光学工程指导教师：张流强20070420重庆大学硕士学位论文中文摘要摘要光学光刻技术一直是微技术的主流技术之一，是近来世界各国研究的重点。
无掩模光刻技术及其曝光方案研究.摘要光刻技术是集成电路制造的核心技术，它的刻蚀线宽在半导体技术节点的推动下不断缩小，同时掩模板的成本和制作周期大幅增加，导致光刻生产的流程复杂且成本高昂。.近年来一些无需掩模板的光刻技术飞速发展...
中国光刻机开发50年，为什么还落后国际7代以上？,光刻机,半导体设备,微电子,半导体,光刻文|AI财经社唐煜编辑|赵艳秋本文由《财经天下》周刊旗下账号AI财经社原创出品，未经许可，任何渠道、平台请勿转载。
中科院研究员澄清5nm光刻机技术为误读，国产水平在180nm,光刻机,中科院,半导体,纳米技术,纳米仿生研究文|AI财经社唐煜编辑|赵艳秋近日，有关“新型5nm超高精度激光光刻方法”论文的通讯作者、中科院研究员、博士生导师刘前在接受媒体采访时澄清，这一技术与高端光刻机采用的极紫外...
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无掩模光刻技术及其曝光方案研究.摘要光刻技术是集成电路制造的核心技术，它的刻蚀线宽在半导体技术节点的推动下不断缩小，同时掩模板的成本和制作周期大幅增加，导致光刻生产的流程复杂且成本高昂。.近年来一些无需掩模板的光刻技术飞速发展...
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