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文献类型：学位论文作者郑亚忠文献子类硕士导师步扬关键词光刻机，工件台，位置测量，平面光栅尺Lithographytools,Waferstage,Positionmeasurement,Planegratingencoder其他题名StudyonthePositionMeasurementTechniqueofWaferStage...
NIKON光刻机的对准优化设计论文.doc,大漠天下原创作品,原创力文档版权提供，违者必究，PAGE\*MERGEFORMAT46PAGE\*MERGEFORMAT46PAGE\*MERGEFORMATPAGE\*MERGEFORMAT1本科毕业设计(论文)论文题目：关于...
微电子工艺——光刻工艺学生姓名电子科学与技术指导教师二O一三光刻工艺南京信息工程大学电子工程系，南京摘要：光刻(photoetching)是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺，在此之后，晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。.被...
论文:摘要：微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。本文通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战，揭示下一代光刻设备的发展潜力，通过比较浸没式光刻、极紫外光刻机和电子束曝光机的开发现状和特点，预言将来利用极紫外光刻机、电子束...
跟大家分享几款一直使用的英文文献网站.OpenAccessLibrary（OALib）.的论文度存量足有了400多万篇，包括数学、化学、计算机、人文、工程、生物、材料、医学和人文科学等领域，所有论文免费下载。.这个网站的一大好处就是可以直接在线预览，不用下载…
按所用光源，光刻机经历了五代产品的发展最初的两代光刻机采用汞灯产生的436nmg-line和365nmi-line作为光刻光源，可以满足0.8-0.35微米制程芯片的生产。最早的光刻机采用接触式光刻，即掩模贴在硅片上进行光刻，容易产生污染，且掩模寿…
外文文献数据库（NSTL）.简单介绍：外文文献反映了世界各国科学技术的先进水平，及时报道了国际重要科研成果和科研动向，是科研人员研究新课题、推出新成果的重要情报源。.万方数据与NSTL合作，将NSTL的外文期刊及外文会议论文文献数据库资源与万方数据...
ASML公司光学光刻技术最新进展2002年9月微细技术M1CROFABRICA＇I、IoNT’ECHNoLOGYNo3Sep．2002文章编号：1003—8213（2002）03－0008—04ASML公司光学光刻技术最新进展张强，胡松，姚汉民，刘业异（中国科学院光电技术研究所，成都610209）摘要：荷…
论文简介了光刻技术发展的最新动态并详述了主流的ArF浸没式双工件台光刻机发展现状,在此基础上确立本论文的研究对象.对ArF浸没式双工件台光刻机中步进扫描运动模型进行研究:在简述双工件台光刻机步进扫描运动机理的基础上,研究了其运动坐标系,运动中的
光刻机是集成电路制造的核心装备，其技术水平决定了集成电路的集成度，关乎摩尔定律的生命力。王向朝研究员谈光刻机难在哪儿（视频来自中国激光微信公众号“五分钟光学”专栏）光刻机是迄今为止人类所能制造的最精密的装备。
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