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磁控溅射旋转圆柱阴极靶关键技术的研究与结构设计KeyTechnologyStructureDesignCylindricalRotatingCathodeTargetMagnetronSputtering教授2012磁控溅射旋转圆柱阴极靶（简称旋转靶）自发明至今，已经被广泛的应用于工业化大面积功能...
磁控溅射靶磁场的模拟优化设计.发布时间：2019/5/22来源：《基层建设》2019年第5期作者：崔新礼.[导读]摘要：本文基于磁控溅射的磁场分布水平和磁场强度在镀膜性能与质量上影响与价值分析，结合磁控靶材的结构及其磁场的计算方法和步骤的探讨，以及...
磁控溅射矩形靶磁场的优化设计.pdf.核工业西南物理研究院,四川成都610041)磁控溅射靶材的利用率在降低生产成本中起着重要作用。正交的靶电磁场能显著地延长电子的运动路程,增加同工作气体分子的碰撞几率,提高等离子体密度,使磁控溅射速率数量级的...
磁控溅射镀膜机的结构设计及CIGS薄膜均匀性研究.【摘要】：铜铟镓硒薄膜太阳电池(CuIn1-xGaxSe2solarcells,简称CIGS)是一种新型清洁的太阳电池,其成本低,性能稳定,抗辐射能力强,转换效率高,光谱响应范围宽,是当下最有发展前途的太阳电池之一。.2010年德国太阳能...
本篇论文共76页，点击这进入下载页面。.更多论文.磁约束磁控溅射源的关键技术研究.常规关系在翻译中的语用转换.教育政策问题研究.红外玻璃的模压制造研究.唐诗中典故的英译.红外探测材料电阻温度特性的研究.谷氨酰胺和耐力训练对大鼠抗氧化水.
磁控溅射SiC薄膜表面形貌演化行为研究真空退火处理前后的SiC薄膜表面形貌分析000真空环境下经过1退火处理的SiC薄膜AFM三维图像。.溅射条件同为100Pa溅射气压、溅射时间为1我们可以看出，退火前薄膜呈颗粒状生长，薄膜结构致密，晶粒较为均匀且细小...
磁控溅射旋转圆柱阴极靶关键技术的研究与结构设计.doc,磁控溅射旋转圆柱阴极靶关键技术的研究与结构设计磁控溅射旋转圆柱阴极靶关键技术的研究与结构设计KeyTechnologyandStructureDesignofCylindricalRotatingCathodeTargetfor...
中国期刊网,期刊,杂志,读者服务,电子杂志,论文,文库,期刊网,电子刊[导读]国内外正在不断扩大应用磁控溅射技术的范围，促使磁控溅射现已发展成为镀膜工业生产中一项最关键的技术，但同时磁控溅射中的靶材也显现出一些不足。
第19页.·磁控溅射卷绕镀膜机控制系统的应用现状.第19-20页.·课题研究的目的和意义.第20页.·本论文的主要工作.第20-22页.第2章运行监控系统软件总体设计.第22-33页.
闭合场非平衡磁控溅射离子镀实时监控系统的软件设计学科名称：检测技术与自动化装置导师姓名：强（教授）签名：作者姓名：签名：答辩日期：2005本文主要论述在LabVIEW编程环境下，设计并实现UDP（UniformDepositionPlasma）实时监控...
磁控溅射旋转圆柱阴极靶关键技术的研究与结构设计KeyTechnologyStructureDesignCylindricalRotatingCathodeTargetMagnetronSputtering教授2012磁控溅射旋转圆柱阴极靶（简称旋转靶）自发明至今，已经被广泛的应用于工业化大面积功能...
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第19页.·磁控溅射卷绕镀膜机控制系统的应用现状.第19-20页.·课题研究的目的和意义.第20页.·本论文的主要工作.第20-22页.第2章运行监控系统软件总体设计.第22-33页.
闭合场非平衡磁控溅射离子镀实时监控系统的软件设计学科名称：检测技术与自动化装置导师姓名：强（教授）签名：作者姓名：签名：答辩日期：2005本文主要论述在LabVIEW编程环境下，设计并实现UDP（UniformDepositionPlasma）实时监控...
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