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2014磁控溅射镀膜技术文献综述论文.doc,磁控溅射镀膜技术文献综述摘要因现代科技发展的需求，真空镀膜技术得到了迅猛发展。镀膜技术可改变工件表面性能，提高工件的耐磨损、抗氧化、耐腐蚀等性能，延长工件使用寿命，具有很高的经济价值。
磁控溅射法2.1磁控溅射基本原理磁控溅射法薄膜材料综述磁控溅射是20世纪70年代迅速发展起来的一种高速溅射技术。.对许多材料，利用磁控溅射的方式溅射速率达到了电子术蒸发的水平，而且在溅射金属时还可避免二次电子轰击而使基板保持冷态，这...
东莞南玻工程玻璃有限公司广东东莞523000[摘要]本文综合分析了当前磁控溅射的镀膜技术发展情况，并对该项镀膜技术实践应用，进行了有效性地研究，以能够全面了解与掌握磁控溅射的镀膜技术，将磁控溅射的镀膜技术各项功能优势充分应用在相应的行业领域当中，为广大镀膜玻璃生产企业...
射频溅射时，采用高频射频电源（13.56MHz），分别将靶材和真空室的其他部分耦合在电源的两极，衬底处于靶材对应的位置，与靶材间距为5cm，射频磁控溅射时放电的过程（工作气体为Ar1）无光放电打开射频电源及电流显示器，即会有十毫安以下以下的电流...
中国期刊网,期刊,杂志,读者服务,电子杂志,论文,文库,期刊网,电子刊[导读]国内外正在不断扩大应用磁控溅射技术的范围，促使磁控溅射现已发展成为镀膜工业生产中一项最关键的技术，但同时磁控溅射中的靶材也显现出一些不足。
微颗粒表面磁控溅射镀膜研究.俞晓正.【摘要】：在粉体颗粒表面镀薄膜可显著增强其应用功效。.磁控溅射沉积作为一种高质量的镀膜方法,也逐渐被应用于粉体颗粒表面镀膜。.本论文根据磁控溅射及粉体颗粒的特点,设计并研制了一套微颗粒磁控溅射镀膜...
磁控溅射法的铜薄膜膜层结构均匀、致密，性能良好，薄膜与基材附着牢固。在铜薄膜的工艺参数中，气体压强、溅射功率、镀膜时间、基底温度等对薄膜性能有重要影响。本实验采用射频磁控溅射法在涤纶
摘要：磁控溅射作为一种低温高速溅射技术，是新型的纺织品表面改性方法。介绍了纺织品表面镀膜的常用方法，概括了磁控溅射的基本原理，综述了应用磁控溅射技术抗菌、导电、电磁屏蔽、抗紫外线、防水透湿等功能纺织品的研究现状，探讨了该技术在纺织品染色过程中的应用，最后对磁...
离子束辅助中频非平衡磁控溅射Ti-N-C膜的研究,非平衡磁控溅射,中频孪生靶,离子束辅助沉积,Ti-N-C薄膜,体结构。本文首先对Ti-N-C膜系的硬质膜的性能、以及检测手段进行了综述。在此基础上,采用离子束辅助中频非平衡磁控溅射技术制...
磁控溅射镀膜机的结构设计及CIGS薄膜均匀性研究—硕士毕业论文下载.磁控溅射镀膜机的结构设计及CIGS薄膜均匀性研究.论文目录.摘要.第1-5页.abstract.
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摘要：磁控溅射作为一种低温高速溅射技术，是新型的纺织品表面改性方法。介绍了纺织品表面镀膜的常用方法，概括了磁控溅射的基本原理，综述了应用磁控溅射技术抗菌、导电、电磁屏蔽、抗紫外线、防水透湿等功能纺织品的研究现状，探讨了该技术在纺织品染色过程中的应用，最后对磁...
离子束辅助中频非平衡磁控溅射Ti-N-C膜的研究,非平衡磁控溅射,中频孪生靶,离子束辅助沉积,Ti-N-C薄膜,体结构。本文首先对Ti-N-C膜系的硬质膜的性能、以及检测手段进行了综述。在此基础上,采用离子束辅助中频非平衡磁控溅射技术制...
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