发表服务
摘要：.近年来磁控溅射技术的应用日趋广泛,在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用。.随着对具有各种新型功能的薄膜需求的增加,相应的磁控溅射技术也获得进一步的发展。.本文将介绍磁控溅射技术的发展,以及闭合磁场非平衡溅射、高速率溅射及自溅射...
【摘要】：近年来,随着新材料的开发,尤其是薄膜材料的发展和应用,带动磁控溅射沉积技术的飞速发展,在科学研究领域和工业生产中有着不可替代的重要作用。本文主要介绍了磁控溅射沉积技术的工艺过程及其发展情况,各种主要磁控溅射镀膜技术的特点,并介绍磁控溅射技术在各个领域的主要应用。
UniversityJune2010东北大学硕士学位论文摘要磁控溅射镀膜机基片膜厚的均匀性分析摘要基片膜厚均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要因素，磁控溅射镀膜是最常用的薄膜方法之一，针对磁控溅射镀膜技术的膜厚均匀性的...
增硬玻璃磁控溅射DLC薄膜SiC缓冲层【摘要】：每年有大量的建筑幕墙玻璃,显示面板玻璃和汽车玻璃由于表面划伤、磨损而报废。类金刚石(DLC)薄膜材料具有高硬度,低摩擦系数等优异的性能,能有效的提高玻璃在、使用、物流等过程中的划伤问题,提高成品率。
【摘要】：在粉体颗粒表面镀薄膜可显著增强其应用功效。磁控溅射沉积作为一种高质量的镀膜方法,也逐渐被应用于粉体颗粒表面镀膜。本论文根据磁控溅射及粉体颗粒的特点,设计并研制了一套微颗粒磁控溅射镀膜设备;采用实验与理论分析相结合的方法,对在粉体颗粒表面磁控溅射镀金属薄膜和...
【摘要】：电磁场形状及其对各种带电粒子的约束情况对磁控溅射行为有着非常显著的影响。本文利用物理场耦合分析软件comsol3．2a计算磁控溅射电磁场分布,并且计算了单个带电粒子的运动情况。在此基础上,利用PIC方法计算了带电粒子束流在电磁场中的运动情况、空间分布以及空间电荷效应对电场...
磁控溅射法镁基羟基磷灰石涂层的研究.【摘要】：医用镁合金因具有优异的机械性能和良好的细胞相容性,使其在生物降解材料的应用中受到广泛的关注。.但镁及其合金在含有氯离子的生物环境中腐蚀速率快,且腐蚀产物氢气可产生皮下气肿,故医用镁合金...
摘要采用磁控双靶反应共溅射技术出了(Ti0.5Al0.5)N耐磨硬质薄膜,其显微硬度高于35GPa,摩擦系数小于0.18。实验结果表明当N2流量较低时,(Ti,Al)N薄膜结构和性能随N2流量变化明显;当N2流量较高时,薄膜结构和性能变化缓慢。等离子体发射光谱仪(PEM)对磁控...
硕士论文开题报告—《磁控溅射法涂层导体缓冲层薄膜》摘要第1-7页Abstract第7-11页第1章绪论第11-28页·超导材料简介第11-12页
陈晨;;矩形平面磁控溅射靶磁场的优化设计[A];TFC'13全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集[C];2013年6袁渊明;弥谦;潘婷;;磁场强度对磁约束磁控溅射源工作状态的影响[A];2010年西部光子学学术会议摘要…
摘要：.近年来磁控溅射技术的应用日趋广泛,在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用。.随着对具有各种新型功能的薄膜需求的增加,相应的磁控溅射技术也获得进一步的发展。.本文将介绍磁控溅射技术的发展,以及闭合磁场非平衡溅射、高速率溅射及自溅射...
【摘要】：近年来,随着新材料的开发,尤其是薄膜材料的发展和应用,带动磁控溅射沉积技术的飞速发展,在科学研究领域和工业生产中有着不可替代的重要作用。本文主要介绍了磁控溅射沉积技术的工艺过程及其发展情况,各种主要磁控溅射镀膜技术的特点,并介绍磁控溅射技术在各个领域的主要应用。
UniversityJune2010东北大学硕士学位论文摘要磁控溅射镀膜机基片膜厚的均匀性分析摘要基片膜厚均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要因素，磁控溅射镀膜是最常用的薄膜方法之一，针对磁控溅射镀膜技术的膜厚均匀性的...
增硬玻璃磁控溅射DLC薄膜SiC缓冲层【摘要】：每年有大量的建筑幕墙玻璃,显示面板玻璃和汽车玻璃由于表面划伤、磨损而报废。类金刚石(DLC)薄膜材料具有高硬度,低摩擦系数等优异的性能,能有效的提高玻璃在、使用、物流等过程中的划伤问题,提高成品率。
【摘要】：在粉体颗粒表面镀薄膜可显著增强其应用功效。磁控溅射沉积作为一种高质量的镀膜方法,也逐渐被应用于粉体颗粒表面镀膜。本论文根据磁控溅射及粉体颗粒的特点,设计并研制了一套微颗粒磁控溅射镀膜设备;采用实验与理论分析相结合的方法,对在粉体颗粒表面磁控溅射镀金属薄膜和...
【摘要】：电磁场形状及其对各种带电粒子的约束情况对磁控溅射行为有着非常显著的影响。本文利用物理场耦合分析软件comsol3．2a计算磁控溅射电磁场分布,并且计算了单个带电粒子的运动情况。在此基础上,利用PIC方法计算了带电粒子束流在电磁场中的运动情况、空间分布以及空间电荷效应对电场...
磁控溅射法镁基羟基磷灰石涂层的研究.【摘要】：医用镁合金因具有优异的机械性能和良好的细胞相容性,使其在生物降解材料的应用中受到广泛的关注。.但镁及其合金在含有氯离子的生物环境中腐蚀速率快,且腐蚀产物氢气可产生皮下气肿,故医用镁合金...
摘要采用磁控双靶反应共溅射技术出了(Ti0.5Al0.5)N耐磨硬质薄膜,其显微硬度高于35GPa,摩擦系数小于0.18。实验结果表明当N2流量较低时,(Ti,Al)N薄膜结构和性能随N2流量变化明显;当N2流量较高时,薄膜结构和性能变化缓慢。等离子体发射光谱仪(PEM)对磁控...
硕士论文开题报告—《磁控溅射法涂层导体缓冲层薄膜》摘要第1-7页Abstract第7-11页第1章绪论第11-28页·超导材料简介第11-12页
陈晨;;矩形平面磁控溅射靶磁场的优化设计[A];TFC'13全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集[C];2013年6袁渊明;弥谦;潘婷;;磁场强度对磁约束磁控溅射源工作状态的影响[A];2010年西部光子学学术会议摘要…
发表服务