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2014磁控溅射镀膜技术文献综述论文.doc,磁控溅射镀膜技术文献综述摘要因现代科技发展的需求，真空镀膜技术得到了迅猛发展。镀膜技术可改变工件表面性能，提高工件的耐磨损、抗氧化、耐腐蚀等性能，延长工件使用寿命，具有很高的经济价值。
高功率脉冲磁控溅射技术沉积硬质涂层研究进展--优秀毕业论文参考文献可..2013年12广东工业大学学报JournalGuangdongUniversityVol．30No．4December2013收稿日期：20131118基金项目：国家自然科学基金资助项目（51275095、U1201245）；珠江科技新星项目（2011J2200036...
东莞南玻工程玻璃有限公司广东东莞523000[摘要]本文综合分析了当前磁控溅射的镀膜技术发展情况，并对该项镀膜技术实践应用，进行了有效性地研究，以能够全面了解与掌握磁控溅射的镀膜技术，将磁控溅射的镀膜技术各项功能优势充分应用在相应的行业领域当中，为广大镀膜玻璃生产企业...
本篇论文共76页，点击这进入下载页面。.更多论文.磁约束磁控溅射源的关键技术研究.常规关系在翻译中的语用转换.教育政策问题研究.红外玻璃的模压制造研究.唐诗中典故的英译.红外探测材料电阻温度特性的研究.谷氨酰胺和耐力训练对大鼠抗氧化水.
中国期刊网,期刊,杂志,读者服务,电子杂志,论文,文库,期刊网,电子刊[导读]国内外正在不断扩大应用磁控溅射技术的范围，促使磁控溅射现已发展成为镀膜工业生产中一项最关键的技术，但同时磁控溅射中的靶材也显现出一些不足。
近年来磁控溅射技术的应用日趋广泛,在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用。.随着对具有各种新型功能的薄膜需求的增加,相应的磁控溅射技术也获得进一步的发展。.本文将介绍磁控溅射技术的发展,以及闭合磁场非平衡溅射、高速率溅射及自溅射、中频及...
磁控溅射旋转圆柱阴极靶关键技术的研究与结构设计KeyTechnologyStructureDesignCylindricalRotatingCathodeTargetMagnetronSputtering教授2012磁控溅射旋转圆柱阴极靶（简称旋转靶）自发明至今，已经被广泛的应用于工业化大面积功能...
硕士学位论文基于磁控溅射Cu膜的铝合金不锈钢低温钎焊研究LOWTEMPERATURESOLDERINGALUMINUMALLOYSTAINLESSSTEELBASEDCOPPERMAGNETRON...
采用高功率脉冲磁控溅射技术（Highpowerpulsedmagnetronsputtering,HPPMS）的氮化钛（TiN）薄膜因其具有的众多优良性能,在工业领域中得到了广泛应用。但在TiN薄膜表面改性工件的实际应用中,研究者及生产者经常发现,薄膜沉积刚完成时...
另一方面国际上涂层技术正朝着大面积、复合和高表面质量方向发展,鉴于此本论文首先进行了阴极弧与磁控溅射技术的复合研究,从复合源技术研究入手,解决矩形阴极弧源大面积燃烧和可控烧蚀问题,并将其与中频磁控溅射复合,从而实现大面积...
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高功率脉冲磁控溅射技术沉积硬质涂层研究进展--优秀毕业论文参考文献可..2013年12广东工业大学学报JournalGuangdongUniversityVol．30No．4December2013收稿日期：20131118基金项目：国家自然科学基金资助项目（51275095、U1201245）；珠江科技新星项目（2011J2200036...
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近年来磁控溅射技术的应用日趋广泛,在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用。.随着对具有各种新型功能的薄膜需求的增加,相应的磁控溅射技术也获得进一步的发展。.本文将介绍磁控溅射技术的发展,以及闭合磁场非平衡溅射、高速率溅射及自溅射、中频及...
磁控溅射旋转圆柱阴极靶关键技术的研究与结构设计KeyTechnologyStructureDesignCylindricalRotatingCathodeTargetMagnetronSputtering教授2012磁控溅射旋转圆柱阴极靶（简称旋转靶）自发明至今，已经被广泛的应用于工业化大面积功能...
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采用高功率脉冲磁控溅射技术（Highpowerpulsedmagnetronsputtering,HPPMS）的氮化钛（TiN）薄膜因其具有的众多优良性能,在工业领域中得到了广泛应用。但在TiN薄膜表面改性工件的实际应用中,研究者及生产者经常发现,薄膜沉积刚完成时...
另一方面国际上涂层技术正朝着大面积、复合和高表面质量方向发展,鉴于此本论文首先进行了阴极弧与磁控溅射技术的复合研究,从复合源技术研究入手,解决矩形阴极弧源大面积燃烧和可控烧蚀问题,并将其与中频磁控溅射复合,从而实现大面积...
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