当韧性金属(如Cu、Ni和Al)与某些液态金属(如Bi和Ga)接触时,在异常低的应力水平下发生晶间破坏,这种现象被称为 液态金属致脆 (LME)。数十年的研究致力于理解潜在的微观机制,球差校正扫描透射电子显微镜(AC-STEM)的发展解决了一般晶界(GBs)的结构问题,导致在原子尺度上对一些经典的晶间解离系统进行重新评价。Al-Ga体系是LME晶间结构的典型例子,Ga穿透前沿的原子结构仍然不稳定。原位透射电镜显示,液态Ga沿着Al多晶界迅速渗透,形成Ga多吸附层。从理论到实验都进行了大量的研究,不同方法的理论计算预测了不同的偏析行为。已有研究表明,Al-Ga界面可能包含多层,一层固定在Al表面,另一层是Ga层且顶部结合较差,而这种多层结构是由GB结构决定的,但是界面原子结构仍难以捉摸,目前尚不清楚有序的Ga层是否存在于普通的GBs中。
福州大学的研究人员 揭示了Al普通晶界内富集Ga后的原子结构,阐明了以GB为核心的无序Ga层组成,并通过动态蒙特卡罗和分子动力学模拟进一步验证 。相关论文以题为“The interfacial structure underpinning the Al-Ga liquid metal embrittlement: disorder vs. order gradients”发表在Scripta Materialia。
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用圆盘打孔机从Al多晶箔(纯度为,晶粒尺寸约为5μm,厚度为100μm)打孔一个3mm的圆盘,圆盘厚度由磨床减少至约25μm,然后立刻转移至110 的热板上,在对磨表面放置Ga颗粒(纯度),进行自发渗透。
研究发现未渗透Ga和含Ga的AlGBs均具有较高的弯曲度,说明Ga的渗透并没有改变GBs的自由度(DOFs)。在Ga渗透的铝晶界内发现了一种具有有序梯度的新形态结构。在渗透前沿的复合层至少由三层组成,其中两层有序地附着在每个铝晶粒表面,第三层在中间,Ga含量表现出递减的次序。混合MC/MD模拟验证了这种有趣的分离行为。
图1 未渗透(a)和Ga渗透(b) Al样品的HAADF图像,GBs用白色箭头指明;(c)放大了Ga渗透GB的HAADF图像;(d, e)元素分布图证实了Ga在晶界的富集;(f)在(c)的GB上取EDS线扫描图
图2 (a) 曲线型Al晶界;(b) 晶界边缘渗透后的HAADF图;(c) 线扫描结果;(d) 无序Ga层的HRTEM图;(e; f) 混合MC/MD仿真模型
图3 (a)GB中分解出的多层;(b) 放大的HAADF图以及线扫描结果;(c) 模拟渗透Ga的晶界原子结构;(d) Ga原子二维平均密度分布和无序参数分布
多层结构可以从高度有序的双分子层过渡到无序层,Ga吸附层将这两种结构特征整合在一个复合层中。这些结果表明,具有多层吸附(2层及以上)的结构可能导致界面脱粘。导致LME产生的根本原因不是界面有序,而是GB核中较弱的原子间相互作用。总的来说,本文揭示了Ga渗透Al通用GBs中复杂的、但普遍存在的界面分离结构,具有有序梯度,这丰富了研究者们对表层结构的认识。(文:破风)