发表服务
玻璃基光刻铬掩膜板的膜系研究,光掩膜,膜系设计,磁控溅射,刻蚀。本文从理论和实验两个方面研究了玻璃基光刻铬掩膜板的膜系设计以及其在真空环境中的。以光学薄膜设计中的隐含规律为基础,采...
此外，胶体球自组装单层薄膜掩膜版的形貌经过修饰后，使得纳米阵列结构的周期和宽高比等形貌参数具有可调控性，拓展了纳米阵列在表面增强拉曼光谱方面的研究应用，为化学以及生物医学检测器件的发展打下了坚实的基础。
摘要：1光掩模玻璃基板的定义及种类1.1光学掩模板的定义及分类1.1.1光学掩模板的定义光学掩模板,又称光掩模板,掩模板,掩膜版,光掩膜,光刻掩膜版,光罩等,在薄膜,塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构,是微电子制造中光刻工艺所使用的...
掩膜版（Photomask），又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。掩膜版是芯片制造过程中的图形“底片”，用于转移高精密电路设计，承载了图形设计和工艺技术等知识...
组合薄膜技术作为材料基因组核心技术之一经历了三个发展阶段，即共磁控溅射技术、阵列掩膜板技术和组合激光分子束外延技术。目前，组合薄膜生长往往采用往复平行位移掩膜板的方式，这样不可避免造成累积误差，直接影响到薄膜过程中组分控制的精度。
本论文利用自主研制的室温常压脉冲等离子体射流技术,通过简便高效、成本低廉的无掩膜版化扫描处理方法,针对柔性透明导电薄膜以及柔性微超级电容器在微纳时所面临的新型高质量方法短缺的问题,实现了银纳米线柔性透明导电薄膜的微焊接、图案化
新一代高通量薄膜及原位表征技术研发获进展.材料对于推动生产力发展和社会进步起着举足轻重的作用。.关键材料的研发周期更是直接决定了...
掩膜版：光刻工艺“底片”，国产替代步伐加快.掩膜版（Photomask）又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。.掩膜版用于下游电子元器件制造业批量生产，是...
组合薄膜技术作为材料基因组核心技术之一经历了三个发展阶段，即共磁控溅射技术，阵列掩膜板技术和组合激光分子束外延技术。目前，组合薄膜生长往往采用往复平行位移掩膜板的方式，这样不可避免造成累积误差，直接影响到薄膜过程中组分控制的精度。
如精细金属掩膜蒸镀技术、光刻技术、直接图案化技术等，仍存在掩膜版成本高、化学污染、颜色串扰、薄膜不均匀等难题。因此，发展一种低成本、颜色均匀、环境友好的图案化技术势在必行。近日，华南理工大学马於光教授、顾成...
玻璃基光刻铬掩膜板的膜系研究,光掩膜,膜系设计,磁控溅射,刻蚀。本文从理论和实验两个方面研究了玻璃基光刻铬掩膜板的膜系设计以及其在真空环境中的。以光学薄膜设计中的隐含规律为基础,采...
此外，胶体球自组装单层薄膜掩膜版的形貌经过修饰后，使得纳米阵列结构的周期和宽高比等形貌参数具有可调控性，拓展了纳米阵列在表面增强拉曼光谱方面的研究应用，为化学以及生物医学检测器件的发展打下了坚实的基础。
摘要：1光掩模玻璃基板的定义及种类1.1光学掩模板的定义及分类1.1.1光学掩模板的定义光学掩模板,又称光掩模板,掩模板,掩膜版,光掩膜,光刻掩膜版,光罩等,在薄膜,塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构,是微电子制造中光刻工艺所使用的...
掩膜版（Photomask），又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。掩膜版是芯片制造过程中的图形“底片”，用于转移高精密电路设计，承载了图形设计和工艺技术等知识...
组合薄膜技术作为材料基因组核心技术之一经历了三个发展阶段，即共磁控溅射技术、阵列掩膜板技术和组合激光分子束外延技术。目前，组合薄膜生长往往采用往复平行位移掩膜板的方式，这样不可避免造成累积误差，直接影响到薄膜过程中组分控制的精度。
本论文利用自主研制的室温常压脉冲等离子体射流技术,通过简便高效、成本低廉的无掩膜版化扫描处理方法,针对柔性透明导电薄膜以及柔性微超级电容器在微纳时所面临的新型高质量方法短缺的问题,实现了银纳米线柔性透明导电薄膜的微焊接、图案化
新一代高通量薄膜及原位表征技术研发获进展.材料对于推动生产力发展和社会进步起着举足轻重的作用。.关键材料的研发周期更是直接决定了...
掩膜版：光刻工艺“底片”，国产替代步伐加快.掩膜版（Photomask）又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。.掩膜版用于下游电子元器件制造业批量生产，是...
组合薄膜技术作为材料基因组核心技术之一经历了三个发展阶段，即共磁控溅射技术，阵列掩膜板技术和组合激光分子束外延技术。目前，组合薄膜生长往往采用往复平行位移掩膜板的方式，这样不可避免造成累积误差，直接影响到薄膜过程中组分控制的精度。
如精细金属掩膜蒸镀技术、光刻技术、直接图案化技术等，仍存在掩膜版成本高、化学污染、颜色串扰、薄膜不均匀等难题。因此，发展一种低成本、颜色均匀、环境友好的图案化技术势在必行。近日，华南理工大学马於光教授、顾成...
发表服务