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本论文利用自主研制的室温常压脉冲等离子体射流技术,通过简便高效、成本低廉的无掩膜版化扫描处理方法,针对柔性透明导电薄膜以及柔性微超级电容器在微纳时所面临的新型高质量方法短缺的问题,实现了银纳米线柔性透明导电薄膜的微焊接、图案化
本发明涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种光刻掩膜版的制造方法。背景技术在集成电路制造领域，光刻技术被用来将图案从包含电路设计信息的光刻掩膜版上转移到晶圆(wafer)上，其中的光刻掩膜版(mask)，也称为光刻版、掩膜版或者光罩，是一种对于曝光光线具有透光性的平板，其上具有对于...
新一代高通量薄膜及原位表征技术研发获进展.材料对于推动生产力发展和社会进步起着举足轻重的作用。.关键材料的研发周期更是直接决定了...
;简单的说，光刻就是用照相复印的方法，将掩膜版上之图形精确地复印到涂在硅片表面的光致抗蚀剂（Photoresist）（下面统称光刻胶）上面，然后在光刻胶的保护下对硅片进行离子注入，刻蚀，薄膜淀积等各种工艺。
掩膜版：光刻工艺“底片”。掩膜版是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩膜版按用途分类可分为铬版、干版、液体凸版和菲林，上游主要包括图形设计、光掩膜设备及材料行业，下游主要包括IC制造及封装、平面显示和印制线路板等...
喷墨打印电致发光薄膜及器件方法的研究.刘会敏.【摘要】：有机电致发光显示器(OLED)具有质量轻薄、广视角、色彩明亮、画面响应速度快、能耗低及可柔性等优势,被认为是二十一世纪最受瞩目的新兴技术之一。.实现全彩色和大面积平板显示器是OLED...
中图分类号：TP212论文编号：102870515-S105学科分类号：080202硕士学位论文磁控溅射薄膜压力传感器...3.2膜片受力后的位移云图22图3.3外圈电阻栅丝几何形状24图3.4电阻膜图形26图3.5平膜片排版图26图3.6电阻图形掩膜板27图3.7电极图形掩...
本论文采用底栅顶接触的TFT器件结构,在SiO2/p-Si衬底上利用磁控溅射法ZnO薄膜作为器件的有源层,以重掺杂p型硅衬底作为器件的栅极,利用掩膜板蒸镀法形成Al电极图案作为器件的源漏电极,从而出完整的TFT器件。
论文|玻璃基光刻铬掩膜板的膜系研究会议|ITO靶材在溅射过程中结瘤行为的研究报纸|防眩光是汽车膜最重要的性能
本论文利用自主研制的室温常压脉冲等离子体射流技术,通过简便高效、成本低廉的无掩膜版化扫描处理方法,针对柔性透明导电薄膜以及柔性微超级电容器在微纳时所面临的新型高质量方法短缺的问题,实现了银纳米线柔性透明导电薄膜的微焊接、图案化
本发明涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种光刻掩膜版的制造方法。背景技术在集成电路制造领域，光刻技术被用来将图案从包含电路设计信息的光刻掩膜版上转移到晶圆(wafer)上，其中的光刻掩膜版(mask)，也称为光刻版、掩膜版或者光罩，是一种对于曝光光线具有透光性的平板，其上具有对于...
新一代高通量薄膜及原位表征技术研发获进展.材料对于推动生产力发展和社会进步起着举足轻重的作用。.关键材料的研发周期更是直接决定了...
;简单的说，光刻就是用照相复印的方法，将掩膜版上之图形精确地复印到涂在硅片表面的光致抗蚀剂（Photoresist）（下面统称光刻胶）上面，然后在光刻胶的保护下对硅片进行离子注入，刻蚀，薄膜淀积等各种工艺。
掩膜版：光刻工艺“底片”。掩膜版是微电子制造过程中的图形转移工具或母版，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩膜版按用途分类可分为铬版、干版、液体凸版和菲林，上游主要包括图形设计、光掩膜设备及材料行业，下游主要包括IC制造及封装、平面显示和印制线路板等...
喷墨打印电致发光薄膜及器件方法的研究.刘会敏.【摘要】：有机电致发光显示器(OLED)具有质量轻薄、广视角、色彩明亮、画面响应速度快、能耗低及可柔性等优势,被认为是二十一世纪最受瞩目的新兴技术之一。.实现全彩色和大面积平板显示器是OLED...
中图分类号：TP212论文编号：102870515-S105学科分类号：080202硕士学位论文磁控溅射薄膜压力传感器...3.2膜片受力后的位移云图22图3.3外圈电阻栅丝几何形状24图3.4电阻膜图形26图3.5平膜片排版图26图3.6电阻图形掩膜板27图3.7电极图形掩...
本论文采用底栅顶接触的TFT器件结构,在SiO2/p-Si衬底上利用磁控溅射法ZnO薄膜作为器件的有源层,以重掺杂p型硅衬底作为器件的栅极,利用掩膜板蒸镀法形成Al电极图案作为器件的源漏电极,从而出完整的TFT器件。
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