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离子束刻蚀和镀膜的应用22222016.10.11解决具有特殊要求零件的问题如薄壁、细长轴等低刚度零件。.切削是在由机床、夹具、刀具和零件等工艺系统各环节所构成的机械工艺系统中进行的,零件的误差主要取决于零件和刀具在切削成形...
玻璃表面化学刻蚀及对镀膜的影响研究.【摘要】：玻璃是一种具有较高透明度、高硬度和良好化学稳定性的无机非金属材料。.近年来,结合表面处理技术的发展,玻璃表面处理与改性渐渐成为玻璃研究的热点。.本文将化学刻蚀与镀膜处理相结合对玻璃表面进行...
首先，在K9基底上进行第一次镀膜，将下层膜系和中间谐振腔层镀好；其次，按上述方法对中间层进行刻蚀，获得具有一定楔角的楔形谐振腔层；最后，配合第二次镀膜，即可完成线性渐变滤光片的。.图2为离子束刻蚀过程示意图.图3为楔形谐振腔层各个...
常州信息职业技术学院学生毕业设计（论文）报告设计（论文）题目：二氧化硅薄膜的与应用分析常州信息职业技术学院电子与电气工程学院毕业设计论文毕业设计（论文）任务书专业班级姓名一、课题名称：二氧化硅薄膜的与应用分析二、主要研究内容：1、对二氧化硅的物理、化学...
磁控溅射镀膜原理及工艺.ppt,在高压作用下Ar原子电离成为Ar+离子和电子，产生等离子辉光放电，电子在加速飞向基片的过程中，受到垂直于电场的磁场影响，使电子产生偏转，被在靠近靶表面的等离子体区域内，电子以摆线的方式沿着靶表面前进，在运动过程中不断与Ar原子发生碰撞，电离...
溅射比蒸镀和工作真空低一个数量级,所以膜层的含气量要比蒸镀高。蒸镀不适用于高溶点材料,如钼,钨。因为溶点高,蒸发太慢,而溅射的速度比蒸镀快很多。溅射不适用于低硬度材料,如非金属材料。溅射不适用于非导电…
磁控溅射原理详细介绍.ppt.第一部分真空镀膜基础第一部分真空镀膜基础1.1气体与固体的相互作用气体与固体相互作用后的结合，主要是通过物理吸附和化学吸附来实现的。.一个气相原子入射到基体表面，能否被吸附，是物理吸附还是化学吸附，是一个...
刻蚀阶段，对扩散阶段在硅片侧表面形成的pn结进行清除，防止电池片短路。镀膜阶段，在形成PN结的一面镀一层氮化硅薄膜，俗称减反射膜，可以减小光线反射，同时在表面产生钝化作用，减小少子在表面的复合，增加效率，镀膜后的硅片成蓝色。
国内外磁控溅射靶材的研究进展陈海峰，薛莹洁（陕西科技大学机电工程学院，西安710021）要：磁控溅射以溅射温度低、沉积速率高的特点而被广泛应用于各种薄膜制造中，如单层或复合薄膜、磁性或超导薄膜以及有一定用途的功能性薄膜等，在科学领域...
4.学位论文陈明磁控溅射过程中溅射产额及靶材刻蚀的模拟计算研究2007磁控溅射是一种物理气相沉积技术,已被广泛地应用于各种薄膜的.它主要包括溅出粒子(原子或分子)的产生和输运以及输运到基片的粒子在基片上的扩散、聚集、生长成膜两大微观过程
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刻蚀阶段，对扩散阶段在硅片侧表面形成的pn结进行清除，防止电池片短路。镀膜阶段，在形成PN结的一面镀一层氮化硅薄膜，俗称减反射膜，可以减小光线反射，同时在表面产生钝化作用，减小少子在表面的复合，增加效率，镀膜后的硅片成蓝色。
国内外磁控溅射靶材的研究进展陈海峰，薛莹洁（陕西科技大学机电工程学院，西安710021）要：磁控溅射以溅射温度低、沉积速率高的特点而被广泛应用于各种薄膜制造中，如单层或复合薄膜、磁性或超导薄膜以及有一定用途的功能性薄膜等，在科学领域...
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