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316L不锈钢和钛合金表面DLC（Ni）薄膜的与性能研究.【摘要】：316L不锈钢和T钛合金由于其良好的力学性能以及较低的成本,广泛应用于海洋领域,但是在海水环境,316L不锈钢和T钛合金很容易受到摩擦从而加剧腐蚀,导致大量的财产损失。.目前,磁控溅射是...
论文|铬含量及摩擦条件对掺铬DLC膜摩擦磨损性能的影响论文|用于OLED封装的类金刚石薄膜的研究论文|高气压DBD等离子体功能材料及其性能研究论文|Ti6A14V合金及其改性层的冲击磨损行为研究
磁控溅射类金刚石（DLC）薄膜及其结构和性能研究材料是人类可以利用的物质，一般是指固体。而材料学是研究材料的或工艺、材料结构与材料性能三者之间的相互关系的科学。涉及的理论包括固体物理学，材..
类金刚石（DLC）多层薄膜残余应力调控及其机械性能研究.徐照英.【摘要】：类金刚石(DLC)薄膜由于具有高硬度和弹性模量、低摩擦系数、优异的耐磨损性和耐腐蚀性等优异性能,而成为具有广泛应用前景的保护膜及耐磨材料。.多年的研究发现DLC薄膜中存在很...
DLC薄膜和检测技术综述DLC薄膜和检测技术综述.doc,文献综述DLC薄膜的和检测技术综述学院光电学院学科光学工程学号1101210021姓名薛俊2013年6月18日前言20世纪70年代初,Aisenberg[1]和E.Gspenc[2]分别次采用离子束...
经过DLC镀膜,刀具的切削寿命得到显著延长。所有刀具在切削玻璃纤维增强复合材料后均呈现磨粒磨损形貌,涂层刀具的磨损除了磨粒磨损外还存在薄膜剥落失效现象。相比于单层无掺杂含氢DLC薄膜,DLC多层交替复合薄膜与刀具的结合强度、耐磨性能明显占
本文作者用真空蒸发离子束辅助镀膜的方法了DLC薄膜,测试了其摩擦学性能,并对DLC薄膜的表面形貌对其摩擦学行为的影响进行了研究。1实验部分基体材料分别选用<47mm,厚016mm,表面粗糙度为Ra012μm的弹簧钢片(CK101)以及<3mm,表面粗糙度为Ra5517nm的Ti6Al4V球。
非平衡磁控溅射结合电弧离子镀掺杂DLC硬质膜性能研究,硬质膜,DLC,非平衡磁控溅射,电弧离子镀,霍尔离子源。将非平衡磁控溅射和电弧离子镀工艺相结合,并使用霍尔离子源辅助,了过渡层为Cr、掺杂Ti和N的DLC薄膜。对DLC薄膜...
DLC薄膜被认为是一种优异的金属材料表面防护涂层，后来逐渐应用于陶瓷、玻璃表面。直至2004年研究人员才首次进行橡胶材料表面DLC镀膜技术研究[4]。橡胶材料主要由C和H组成，与碳质薄膜能够良好结合，这为橡胶表面DLC薄膜提供了研究基础。
l：学位论文第二章磁过滤｜｛｝j极弧等离了休镀膜设籍的砷『发第二章磁过滤阴极弧等离子体镀膜设备的研发2．1两套磁过滤阴极弧等离子体镀膜设备介绍2．1．1引言真空弧等离子体沉积是一种理想的薄膜技术，它具有很高的沉积速率、很高的
316L不锈钢和钛合金表面DLC（Ni）薄膜的与性能研究.【摘要】：316L不锈钢和T钛合金由于其良好的力学性能以及较低的成本,广泛应用于海洋领域,但是在海水环境,316L不锈钢和T钛合金很容易受到摩擦从而加剧腐蚀,导致大量的财产损失。.目前,磁控溅射是...
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磁控溅射类金刚石（DLC）薄膜及其结构和性能研究材料是人类可以利用的物质，一般是指固体。而材料学是研究材料的或工艺、材料结构与材料性能三者之间的相互关系的科学。涉及的理论包括固体物理学，材..
类金刚石（DLC）多层薄膜残余应力调控及其机械性能研究.徐照英.【摘要】：类金刚石(DLC)薄膜由于具有高硬度和弹性模量、低摩擦系数、优异的耐磨损性和耐腐蚀性等优异性能,而成为具有广泛应用前景的保护膜及耐磨材料。.多年的研究发现DLC薄膜中存在很...
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经过DLC镀膜,刀具的切削寿命得到显著延长。所有刀具在切削玻璃纤维增强复合材料后均呈现磨粒磨损形貌,涂层刀具的磨损除了磨粒磨损外还存在薄膜剥落失效现象。相比于单层无掺杂含氢DLC薄膜,DLC多层交替复合薄膜与刀具的结合强度、耐磨性能明显占
本文作者用真空蒸发离子束辅助镀膜的方法了DLC薄膜,测试了其摩擦学性能,并对DLC薄膜的表面形貌对其摩擦学行为的影响进行了研究。1实验部分基体材料分别选用<47mm,厚016mm,表面粗糙度为Ra012μm的弹簧钢片(CK101)以及<3mm,表面粗糙度为Ra5517nm的Ti6Al4V球。
非平衡磁控溅射结合电弧离子镀掺杂DLC硬质膜性能研究,硬质膜,DLC,非平衡磁控溅射,电弧离子镀,霍尔离子源。将非平衡磁控溅射和电弧离子镀工艺相结合,并使用霍尔离子源辅助,了过渡层为Cr、掺杂Ti和N的DLC薄膜。对DLC薄膜...
DLC薄膜被认为是一种优异的金属材料表面防护涂层，后来逐渐应用于陶瓷、玻璃表面。直至2004年研究人员才首次进行橡胶材料表面DLC镀膜技术研究[4]。橡胶材料主要由C和H组成，与碳质薄膜能够良好结合，这为橡胶表面DLC薄膜提供了研究基础。
l：学位论文第二章磁过滤｜｛｝j极弧等离了休镀膜设籍的砷『发第二章磁过滤阴极弧等离子体镀膜设备的研发2．1两套磁过滤阴极弧等离子体镀膜设备介绍2．1．1引言真空弧等离子体沉积是一种理想的薄膜技术，它具有很高的沉积速率、很高的
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