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等离子体束溅射镀膜机中等离子体束在磁场与电场的共同作用下,形成了从等离子体源到真空室中的被引出、输运、溅射等的一系列过程。在成功研制出等离子体束溅射镀膜机后,对真空室内的电场与磁场应用COMSOLMultiphysics电磁模块进行了有限元分析,得出了在这种与已有方案都不同的结构中电场与...
1.本实用新型涉及镀膜机技术领域，具体为一种等离子体蒸发镀膜机。背景技术：2.镀膜机是一种在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法，镀膜机应用领域较为广泛，所以就会使用到专门的一...
对外济贸易大学高级理硕士EMBA哟位论文论文题目:保定天成赛利涂层技术有限公司真空签离子纳米镀膜项目可行性研究主题词:可行性研究合资合作金属表型材料技本研究生姓名:苏维利导师姓名:林汉肚论文起止时间:2004年5月至11月前言合资合作项目需
等离子体镀膜设备中国市场蕴藏的商机图表：中国行业产品价格走势三、所属行业需求的地区差异五、服务发展趋势三、企业竞争优势分析等离子体镀膜设备三、日本行业对我国的启示第四章行业市场分析12.1.3行业投资资金用途分析
离子束溅射源特性及其镀膜工艺研究(光学工程专业优秀论文)光学工程是一门历史悠久而又年轻的学科。它的发展表征着人类文明的进程。它的理论基础——光学，作为物理学的主干学科经历了漫长而曲折的发展道路..
详细技术经济指标如下：TGN卷绕等离子真空镀膜机项目技术经济指标表序号名称单位数值备注项目总投资万元15000.001.1建设投资万元9873.541.2流动资金万元5126.46年销售收入（正常年份）万元25760.00普慧投资研究中心（51cir
更多相关参考论文设计文档资源请访问/lzj781219本论文中样品采用中科院沈阳科学仪器厂JGP350型磁控溅射镀膜机，真空抽气系统由机械泵（前级泵）和分子泵（主泵）组成，极限真空度可达2.010-4Pa。
基于本中心RF500型镀膜机,采用流体动力学方法建立了一种自洽的无碰撞射频直流偏压等离子体鞘层动力学模型。模型中考虑了极板直流负偏压对离子运动的影响,这使得该模型能够在不同偏压条件下模拟射频鞘层内各参量的时空演化。另外,与其他一些研究者所采取的假设不同,在该模型中,认为鞘层...
镀膜室内无需发生放电，因此能在高真空中镀膜。且膜质高，是可靠的镀膜方法。4.ECR溅射（ECRSputtering）2.4GHz的微波、8.75×10-2T的磁场造就了电子回旋加速共鸣的条件，使其发生强烈放电。等离子和基板之间放置靶材，通过负偏压能产生溅射。5.
基团碰撞，成膜热丝CVD原理简介PECVD：载板为阳极，参与等离子体放电；等离子体浸没，绕镀严重有等离子体轰击热丝CVD：载板无电位，不参与气体的分解。生成基团辐射状发散，绕镀可忽略镀膜柔和，无等离子体轰击HWCVDVs.
等离子体束溅射镀膜机中等离子体束在磁场与电场的共同作用下,形成了从等离子体源到真空室中的被引出、输运、溅射等的一系列过程。在成功研制出等离子体束溅射镀膜机后,对真空室内的电场与磁场应用COMSOLMultiphysics电磁模块进行了有限元分析,得出了在这种与已有方案都不同的结构中电场与...
1.本实用新型涉及镀膜机技术领域，具体为一种等离子体蒸发镀膜机。背景技术：2.镀膜机是一种在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离，并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法，镀膜机应用领域较为广泛，所以就会使用到专门的一...
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基团碰撞，成膜热丝CVD原理简介PECVD：载板为阳极，参与等离子体放电；等离子体浸没，绕镀严重有等离子体轰击热丝CVD：载板无电位，不参与气体的分解。生成基团辐射状发散，绕镀可忽略镀膜柔和，无等离子体轰击HWCVDVs.
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