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东北大学硕士学位论文多弧离子镀膜过程中几个参数的研究姓名：谢元华申请学位级别：硕士专业：流体机械及工程指导教师：徐成海20040201东北大学硕士学位论文摘要多弧离子镀膜过程中几个参数的研究多弧离子镀是在真空电弧和离子镀技术基础上发展起来的一门镀膜技术。
多弧离子镀设备中阴级电弧藕发源(靶)的真空电弧放电其工作电流一般为60～100A或更高些，工作电压约20V，电弧电流集中在靶面的阴极弧斑上，斑点面积很小，电流密度很高。在无外加磁场的情况下，阴极孤斑在靶面上的运动是无规则的，其颠簸运动速度达每秒几米，由于这种无规则的运动，若斑…
多弧离子镀设备与技术研究进展多弧离子镀设备一般比较简单，整个设备主要由真空镀膜室、弧源、真空获得系统、偏压源等几大部分组成。弧源是多弧离子镀设备的关键部件，现在国内一般使用小弧源，直径为60～80mm，厚度为直径的1/2。
多弧离子镀设备中阴极电弧蒸发源（靶）的放电工作电流一般为60-120A或更高些，工作电压约20V，电弧电流集中在靶面的阴极弧斑上，斑点面积很小，电流密度很高。在无外加磁场的情况下，阴极弧斑在靶面上的运动是无规则的，其颠簸运动速度达每秒几米，由于这种无规则的运动，若斑点移到蒸发...
多弧离子镀膜设备行业数据深度调研分析与发展战略规划报告报告编号：RH-5491562021年版交付时间：1-3个工作日表现形式：文字分析、数据比较、统计图表。服务方式：E-mail发送电子版（Word版+Pdf版）、特快专递纸介版报告。电子邮件：baogao@
真空真空镀膜机行业最长见的镀膜技术有电阻蒸发镀膜,多弧离子镀膜,磁控溅射镀膜,也是日常最常用的镀膜技术,三种镀膜技术,各自有各自的优势,像电阻蒸发镀膜技术一般镀熔点低,易汽化的膜材,多弧离子镀膜技术的对工件材料就是要求比较的严格,而磁控溅射镀膜技术几乎什么材料都能,应用非常...
磁控溅射和多弧离子镀的根本差异是什么啊？磁控溅射的磁场主要是用来电子，保持辉光效应持续存在，多弧离子镀的磁场主要是为了控制弧斑点的移动，使靶材被均匀利用，这样理解对吗？磁控溅射溅射出来的主要是原子，而离子镀经过离化后到达基本附近的主要是离子，这样的理解对不？
物理气相沉积氮化铬涂层的及其摩擦学性能研究,CrN涂层,磁过滤阴极真空弧源,多弧离子镀,滑动摩擦,摩擦磨损。磁过滤阴极真空弧源沉积(FCVA)是一种优良的涂层物理气相沉积技术,有着其它镀膜形式不可比拟的优点：如高的离化率,高的...
9）离子束溅射。在高真空下，利用离子束溅射镀膜，是非等离子体状态下的成膜过程。靶接地电位也可；10）吸气溅射。利用对溅射粒子的吸气作用，除去不纯物气体，能获得纯度高的薄膜。3.离子镀膜离子镀膜技术是美国Sandia公司的D.M.Mattox于1963年首先
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多弧离子镀设备中阴级电弧藕发源(靶)的真空电弧放电其工作电流一般为60～100A或更高些，工作电压约20V，电弧电流集中在靶面的阴极弧斑上，斑点面积很小，电流密度很高。在无外加磁场的情况下，阴极孤斑在靶面上的运动是无规则的，其颠簸运动速度达每秒几米，由于这种无规则的运动，若斑…
多弧离子镀设备与技术研究进展多弧离子镀设备一般比较简单，整个设备主要由真空镀膜室、弧源、真空获得系统、偏压源等几大部分组成。弧源是多弧离子镀设备的关键部件，现在国内一般使用小弧源，直径为60～80mm，厚度为直径的1/2。
多弧离子镀设备中阴极电弧蒸发源（靶）的放电工作电流一般为60-120A或更高些，工作电压约20V，电弧电流集中在靶面的阴极弧斑上，斑点面积很小，电流密度很高。在无外加磁场的情况下，阴极弧斑在靶面上的运动是无规则的，其颠簸运动速度达每秒几米，由于这种无规则的运动，若斑点移到蒸发...
多弧离子镀膜设备行业数据深度调研分析与发展战略规划报告报告编号：RH-5491562021年版交付时间：1-3个工作日表现形式：文字分析、数据比较、统计图表。服务方式：E-mail发送电子版（Word版+Pdf版）、特快专递纸介版报告。电子邮件：baogao@
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磁控溅射和多弧离子镀的根本差异是什么啊？磁控溅射的磁场主要是用来电子，保持辉光效应持续存在，多弧离子镀的磁场主要是为了控制弧斑点的移动，使靶材被均匀利用，这样理解对吗？磁控溅射溅射出来的主要是原子，而离子镀经过离化后到达基本附近的主要是离子，这样的理解对不？
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9）离子束溅射。在高真空下，利用离子束溅射镀膜，是非等离子体状态下的成膜过程。靶接地电位也可；10）吸气溅射。利用对溅射粒子的吸气作用，除去不纯物气体，能获得纯度高的薄膜。3.离子镀膜离子镀膜技术是美国Sandia公司的D.M.Mattox于1963年首先
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