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论文采用射频磁控溅射法在单晶Si（100）衬底上了Terfenol-D磁致伸缩薄膜；并进行了真空热处理，研究了真空热处理工艺参数对Terfenol-D薄膜结构、相关磁学性能的影响等问题，获得了最佳的薄膜工艺。.研究结果表明：在磁控溅射法Terfenol-D薄膜...
高功率脉冲磁控溅射技术的特点及其研究班级：机械工程学院材料1301学号：03350130104作者：程乾坤摘要：本论文主要介绍高功率脉冲磁控溅射技术的主要特点以及目前的研究状况和未来的发展…
2磁控溅射靶材应用现状问题及其解决方法.2.1靶材利用率普遍不高.在进行平面磁控溅射时，因为正交电磁场会作用溅射离子，所以在溅射当中，溅射靶材将会出现冲蚀不均匀的现象，进而降低溅射靶材的实际利用率，导致仅约为30％。.目前，通过改善磁控...
磁控溅射镀膜宋爽核122011011723指导老师：王合英2013-5-24【摘要】本实验根据气体辉光放电和磁场约束电子运动的原理，运用真空系统和磁控溅射镀膜技术，测量了基片加热温度和真空度变化的关系，溅射气压、溅射功率和溅射速率的关系...
论文的第六章作为全文的总结，归纳概括了对磁控溅射旋转圆柱阴极靶系统关键技术研究的结论，以及对未来工作的展望。5第二章研究的理论基础旋转靶磁控溅射技术是基于传统的二级磁控溅射发展而来的，因此他们有着共同的磁控技术的理论基础。
基体温度对离子镀TiN膜性能的影响[J].金属学报.1996,32(12):1270-1274[9]陈宝清.离子镀及溅射技术[M].北京：国防工业出版社，1990：233-235射频反应磁控溅射氧化铬薄膜技术及性能北京科技大学学报，2005.27(2)：205-212[11]高鹏,徐军等.溅射靶功率对
磁控溅射技术是近年来新兴的一种材料表面镀膜技术,该技术实现了金属、绝缘体等多种材料的表面镀膜,具有高速、低温、低损伤的特点.利用磁控溅射技术进行超细粉体的表面镀膜处理,不但能有效提高超细粉体的分散性,大大提高镀层与粉体之间的结合力,还能赋予
本文的研究目的之一是在普通钠钙玻璃基底上采用射频磁控溅射技术内层TiO2薄膜,外层ZnO薄膜,功能层为W03薄膜,从而构成TiO2-WO3-ZnO光致变色玻璃。通过单因素变量分析得到适宜膜系生长的溅射参数,并采取SEM、XRD、紫外-可见分光光度计、傅立叶-红外...
直流磁控溅射研究进展.doc,直流磁控溅射研究进展?65?石永敬1’2，龙思远1，王杰2，潘复生3（1重庆大学机械学院，重庆400044；2重庆硅酸盐研究所，重庆401120；3重庆大学材料学院，重庆400044）摘要直流磁控溅射是重要的物理气相沉积技术，广泛应用在工业生产和科学研究中。
而磁控溅射制得的Al膜的性能指标则比电子束蒸发的指标优越。实践证明，磁控溅射方法的Al薄膜的综合性能优于电子束蒸发，所以在生产实践中绝大多数采用磁控溅射沉积半导体电极材料，这也是半导体行业中薄膜行业的发展方向。
论文采用射频磁控溅射法在单晶Si（100）衬底上了Terfenol-D磁致伸缩薄膜；并进行了真空热处理，研究了真空热处理工艺参数对Terfenol-D薄膜结构、相关磁学性能的影响等问题，获得了最佳的薄膜工艺。.研究结果表明：在磁控溅射法Terfenol-D薄膜...
高功率脉冲磁控溅射技术的特点及其研究班级：机械工程学院材料1301学号：03350130104作者：程乾坤摘要：本论文主要介绍高功率脉冲磁控溅射技术的主要特点以及目前的研究状况和未来的发展…
2磁控溅射靶材应用现状问题及其解决方法.2.1靶材利用率普遍不高.在进行平面磁控溅射时，因为正交电磁场会作用溅射离子，所以在溅射当中，溅射靶材将会出现冲蚀不均匀的现象，进而降低溅射靶材的实际利用率，导致仅约为30％。.目前，通过改善磁控...
磁控溅射镀膜宋爽核122011011723指导老师：王合英2013-5-24【摘要】本实验根据气体辉光放电和磁场约束电子运动的原理，运用真空系统和磁控溅射镀膜技术，测量了基片加热温度和真空度变化的关系，溅射气压、溅射功率和溅射速率的关系...
论文的第六章作为全文的总结，归纳概括了对磁控溅射旋转圆柱阴极靶系统关键技术研究的结论，以及对未来工作的展望。5第二章研究的理论基础旋转靶磁控溅射技术是基于传统的二级磁控溅射发展而来的，因此他们有着共同的磁控技术的理论基础。
基体温度对离子镀TiN膜性能的影响[J].金属学报.1996,32(12):1270-1274[9]陈宝清.离子镀及溅射技术[M].北京：国防工业出版社，1990：233-235射频反应磁控溅射氧化铬薄膜技术及性能北京科技大学学报，2005.27(2)：205-212[11]高鹏,徐军等.溅射靶功率对
磁控溅射技术是近年来新兴的一种材料表面镀膜技术,该技术实现了金属、绝缘体等多种材料的表面镀膜,具有高速、低温、低损伤的特点.利用磁控溅射技术进行超细粉体的表面镀膜处理,不但能有效提高超细粉体的分散性,大大提高镀层与粉体之间的结合力,还能赋予
本文的研究目的之一是在普通钠钙玻璃基底上采用射频磁控溅射技术内层TiO2薄膜,外层ZnO薄膜,功能层为W03薄膜,从而构成TiO2-WO3-ZnO光致变色玻璃。通过单因素变量分析得到适宜膜系生长的溅射参数,并采取SEM、XRD、紫外-可见分光光度计、傅立叶-红外...
直流磁控溅射研究进展.doc,直流磁控溅射研究进展?65?石永敬1’2，龙思远1，王杰2，潘复生3（1重庆大学机械学院，重庆400044；2重庆硅酸盐研究所，重庆401120；3重庆大学材料学院，重庆400044）摘要直流磁控溅射是重要的物理气相沉积技术，广泛应用在工业生产和科学研究中。
而磁控溅射制得的Al膜的性能指标则比电子束蒸发的指标优越。实践证明，磁控溅射方法的Al薄膜的综合性能优于电子束蒸发，所以在生产实践中绝大多数采用磁控溅射沉积半导体电极材料，这也是半导体行业中薄膜行业的发展方向。
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