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TiN薄膜的磁控溅射法及其光学性能研究.杨志远.【摘要】：在TiN薄膜的基本物理性能的基础上,本文提出具有低辐射和阳光控制的设想的TiN镀膜玻璃。.本文采用反应磁控溅射法TiN薄膜,并分别在沉积时间、工作总压、溅射功率、氮气分压、基底温度...
直流磁控溅射超导TiN薄膜，陈志平，曹春海，在室温下，采用直流磁控溅射在高阻硅上生长了TiN薄膜，分别设定溅射功率、溅射气压以及N2和Ar的气体流量比为单一变量，获得了不同
磁控溅射TiN薄膜及其性能研究.付淑英.【摘要】：以直流反应磁控溅射方法在Si(111)基底上薄膜TiN.研究发现:在保持其他工艺参数不变的条件下,溅射气压在0.3～1.3Pa范围内,薄膜的主要成分是(111)择优取向的立方相TiN.当溅射气压为0.5Pa时,沉积的薄膜膜层致密...
反应磁控溅射法TiN薄膜的研究.【摘要】：TiN是第一个产业化并广泛应用的硬质薄膜材料,有关它的研究一直十分活跃,已成为国内外硬质涂层研究的热点。.由于其具有较高的硬度和耐磨性能、独特的金黄色、低电阻率以及阻挡扩散层性质,在刀具、模具...
期刊论文[1]双脉冲磁控溅射峰值靶电流密度对TiN薄膜结构与力学性能的影响[J].时惠英,杨超,蒋百灵,黄蓓,王迪.金属学报.2018(06)[2]薄膜应力测量方法及影响因素研究进展[J].马一博,陈牧,颜悦,刘伟明,韦友秀,张晓锋,李佳明.航空材料学报.2018(01)
论文查重优惠论文查重开题分析单篇购买文献互助用户中心Cr12MoV钢表面磁控溅射TiB_2-TiN薄膜的摩擦磨损性能来自钛学术喜欢0阅读量：53作者：田琨，许晓静，范真，辛喜玲，陈丹，于春杭，盛新兰展开摘要：采用磁控溅射...
南昌大学硕士学位论文磁控溅射法氮化钛薄膜及其结构与电性能研究姓名：刘倩申请学位级别：硕士专业：精密仪器及机械指导教师：刘莹20090508摘要氮化钛是过渡金属氮化物，它由离子键、金属键和共价键混合而成，它具有高强度、高硬度、耐高温、耐酸碱侵蚀、耐磨损以及良好的导电...
磁控溅射超薄TiN薄膜电极-化学计量比接近1：1的TiN薄膜工艺简单,价格低廉,具有良好的导电性和较大的功函数(～4.7eV),因此成为当前微电子工业中的主流电极材料,广泛应用于动态随机存储器(DRAM)和场效应晶体管(FET)等...
TiN薄膜因具有高硬度、高耐磨性和化学稳定性而广泛应用于机械刀具和模具的耐磨防护涂层.通常，TiN薄膜采用离子镀和磁控溅射等物理气相沉积方法，其力学和腐蚀性能取决于膜结构，而膜结构又与工艺密切相关.尽管TiN薄膜一直占据着主导位置，但由于TiN在高于500℃时会快速氧…
磁控溅射氮化钛薄膜及其结构与导电性能的研究-本文采用直流反应磁控溅射法在P型Si(111)基底上TiN_x薄膜。在反应溅射镀膜过程中影响薄膜结构与性能的因素很多,如溅射电流、气体流量、溅射总气压、基底温度和基底偏压等。本文分别研究了溅...
TiN薄膜的磁控溅射法及其光学性能研究.杨志远.【摘要】：在TiN薄膜的基本物理性能的基础上,本文提出具有低辐射和阳光控制的设想的TiN镀膜玻璃。.本文采用反应磁控溅射法TiN薄膜,并分别在沉积时间、工作总压、溅射功率、氮气分压、基底温度...
直流磁控溅射超导TiN薄膜，陈志平，曹春海，在室温下，采用直流磁控溅射在高阻硅上生长了TiN薄膜，分别设定溅射功率、溅射气压以及N2和Ar的气体流量比为单一变量，获得了不同
磁控溅射TiN薄膜及其性能研究.付淑英.【摘要】：以直流反应磁控溅射方法在Si(111)基底上薄膜TiN.研究发现:在保持其他工艺参数不变的条件下,溅射气压在0.3～1.3Pa范围内,薄膜的主要成分是(111)择优取向的立方相TiN.当溅射气压为0.5Pa时,沉积的薄膜膜层致密...
反应磁控溅射法TiN薄膜的研究.【摘要】：TiN是第一个产业化并广泛应用的硬质薄膜材料,有关它的研究一直十分活跃,已成为国内外硬质涂层研究的热点。.由于其具有较高的硬度和耐磨性能、独特的金黄色、低电阻率以及阻挡扩散层性质,在刀具、模具...
期刊论文[1]双脉冲磁控溅射峰值靶电流密度对TiN薄膜结构与力学性能的影响[J].时惠英,杨超,蒋百灵,黄蓓,王迪.金属学报.2018(06)[2]薄膜应力测量方法及影响因素研究进展[J].马一博,陈牧,颜悦,刘伟明,韦友秀,张晓锋,李佳明.航空材料学报.2018(01)
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南昌大学硕士学位论文磁控溅射法氮化钛薄膜及其结构与电性能研究姓名：刘倩申请学位级别：硕士专业：精密仪器及机械指导教师：刘莹20090508摘要氮化钛是过渡金属氮化物，它由离子键、金属键和共价键混合而成，它具有高强度、高硬度、耐高温、耐酸碱侵蚀、耐磨损以及良好的导电...
磁控溅射超薄TiN薄膜电极-化学计量比接近1：1的TiN薄膜工艺简单,价格低廉,具有良好的导电性和较大的功函数(～4.7eV),因此成为当前微电子工业中的主流电极材料,广泛应用于动态随机存储器(DRAM)和场效应晶体管(FET)等...
TiN薄膜因具有高硬度、高耐磨性和化学稳定性而广泛应用于机械刀具和模具的耐磨防护涂层.通常，TiN薄膜采用离子镀和磁控溅射等物理气相沉积方法，其力学和腐蚀性能取决于膜结构，而膜结构又与工艺密切相关.尽管TiN薄膜一直占据着主导位置，但由于TiN在高于500℃时会快速氧…
磁控溅射氮化钛薄膜及其结构与导电性能的研究-本文采用直流反应磁控溅射法在P型Si(111)基底上TiN_x薄膜。在反应溅射镀膜过程中影响薄膜结构与性能的因素很多,如溅射电流、气体流量、溅射总气压、基底温度和基底偏压等。本文分别研究了溅...
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