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低损耗光学薄膜的反应磁控溅射工艺探索及机理研究.中国科技人学硕士学位论文中文摘要摘要为了满足工业上对高质量光学薄膜日益增长的需求，减少薄膜的光损耗显得尤为重要。.本论文通过研究反应磁控溅射工艺对薄膜光损耗的影响以及存在的机理...
磁控溅射法ZnO薄膜的制各和光学性能研究1．5本文主要研究内容本论文研究的内容是：通过XRD衍射谱分析了溅射功率、衬底温度、氧氩气体流量比、工作气压对薄膜晶粒大小，取向性等结构的影响；采用控制变量法，依次改变各主要参数，找出制各
分类号：——UDC：编号：——磁控溅射二氧化钛薄膜及其光学特性研究PropertiesOpticalPropertiesTi02ThinFilmsManufacturedMagnetronSputtering学位授予单位及代码：论文起止时间：2011．11—2012．12申请学位级别：研究生：筮主螳长春理工大学硕士学位论文原创性声明本人郑重声明：所呈交的硕士学位...
☆论王志信一首民歌改编曲的创作手☆享食惠生鲜农产品电子商务企业战☆基于IPA模式的百色市尚品宫自助☆服务业的发展影响因素分析-论文☆永磁同步电机直接速度控制策略仿☆射频溅射法LaTiO3薄膜的光学☆基于单片机的智能窗帘控制系统设...
溅射沉积ZnO薄膜结构和光学性能研究.docx,溅射沉积ZnO薄膜结构和光学性能研究摘要ZnO是一种重要的Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体材料，因其优异的光学、电学性质而得到广泛的应用，因而ZnO薄膜的和研究具有重要意义。本文采用磁控溅射法ZnO...
也将会造成多层薄膜时各层之间的污染。2．3磁控溅射薄膜2．3．1基片的准备由于磁控溅射所的薄膜是溅射在基片上，如若基片的表层清洗不干净，则生长的薄膜将会不均匀，且附着力减小极易从基片上脱落。
硅薄膜的及光学性能研究_硕士论文范文摘要：本文采用磁控溅射技术，通过改变溅射功率了系列非晶硅薄膜，并研究了薄膜的光学性能。结果发现，随着溅射功率的提高，硅薄膜生长速率线性增加。红外光谱测试表明，硅薄膜中含有...
本论文采用磁控溅射法In2Se3薄膜。.研究了溅射功率、衬底温度、工作气压、退火条件对薄膜相结构、成分、微观形貌和厚度的影响,实现了对薄膜透过率和光学带隙的调控。.研究结果表明：.1.溅射功率对薄膜的成分有显著影响,功率超过80W才能出成分...
MoS2薄膜及其光电性能研究.二硫化钼是独具代表性的n型半导体，比起零带隙的石墨烯，其具有1.2eV~1.8eV的可调带隙，因此在电子学器件（如光电探测器、场效应晶体管）上具有优势。.同时，与具有三维体结构的传统半导体硅相比，二维结构的二硫化...
Cu薄膜直流磁控溅射正交试验法光学性能电学性能本文关键词：Cu纳米薄膜的及其光电性能研究更多相关文章：Cu薄膜直流磁控溅射正交试验法光学性能电学性能【摘要】：纳米Cu膜因较低的电阻率,逐渐代替Al成为互联材料。Cu薄膜的...
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