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自动控制系统是真空感应CVI／CVD系统的一个重要组成部分，直接影响产品的质量和产量。.目前，我国真空感应冶炼过程控制技术落后、自动化水平低，已成为制约真空感应炉发展的一个瓶颈。.特别是近几年来，随着工控技术的发展，集散型(分布式)计算机控制...
本论文首先分析了石墨烯CVD控制系统的结构及原理，确定了系统的硬件组成，并利用WinCCV6.0组态软件以及Step7编程软件分别设计了系统的上位机监控界面和PLC系统控制程序，完成了系统的软硬件设计。然后采用系统辨识方法建立了石墨烯CVD气体压力...
其中，化学气相沉积法（CVD）可以出单层、高质量、大面积的石墨烯，是目前石墨烯最有效、也是最具研究价值的方法。.本文根据化学气相沉积法石墨烯的工艺流程和要求，完成了石墨烯CVD生长系统的设计，压力控制系统模型的建立以及压力控制...
石墨烯CVD生长机理及其控制的理论研究.袁清红丁峰.【摘要】：大规模地高质量的大片石墨烯是实现石墨烯实际应用的重要前提。.目前,使用过渡金属催化的化学气相沉积(CVD)法被认为是高质量石墨烯最具前景的方法。.[1]这主要是因为,一方面,该...
Seminar1化学气相沉积(CVD)原理及其薄膜程士敏.研究员Seminar(CVD)2008.05.27CVD原理定义气态物种输运沉积过程热力学和动力学CVD技术分类CVD薄膜CVD技术的优缺点孟广耀，化学气相淀积与无机新材料，北京：科学出版社，1984气态源液态源固态源...
该论文对设计CVD生长系统、提高生长可控性、高质量二维材料及理解相关材料机理等具有指导意义。.CVD生长化合物二维材料示意图及其中涉及的关键难题.CVD生长二维材料研究展望.该论文第一作者为清华-伯克利深圳学院2017级博士生唐磊和2018级博士生...
化学气相沉积(cvd)原理及其薄膜.研究员Seminar(CVD)2008.05.27CVD原理定义气态物种输运沉积过程热力学和动力学CVD技术分类CVD薄膜CVD技术的优缺点气态源液态源固态源前驱物气体气相输运反应沉积衬底托架卧式反应器衬底立式反应器CVD...
广东工业大学硕士学位论文CVD法碳纳米管的催化剂的工艺姓名：萧国强申请学位级别：硕士专业：化学工程指导教师：邓淑华2003.3.1摘要／碳纳米管是1991年被发现的碳家族的新成员，他们可以看作是二维的石墨烯片层卷积的结果，是由六边形碳原子围成的无缝、中空管体．直径在几…
关键词：薄膜，PVD，CVD，镀膜工艺薄膜工艺包括薄膜方法的选择基体材料的选择及表面处理薄膜条件的选择和薄膜结构、性能与工艺参数的关系等物理气相沉积（PVD）这种薄膜方法相对于下面…
CVD生长化合物二维材料示意图及其中涉及的关键难题CVD生长二维材料研究展望该论文第一作者为清华-伯克利深圳学院2017级博士生唐磊和2018级博士生谭隽阳，论文作者还包括2019级博士生农慧雨。论文通讯作者为成会明院士和刘碧录副教授。
自动控制系统是真空感应CVI／CVD系统的一个重要组成部分，直接影响产品的质量和产量。.目前，我国真空感应冶炼过程控制技术落后、自动化水平低，已成为制约真空感应炉发展的一个瓶颈。.特别是近几年来，随着工控技术的发展，集散型(分布式)计算机控制...
本论文首先分析了石墨烯CVD控制系统的结构及原理，确定了系统的硬件组成，并利用WinCCV6.0组态软件以及Step7编程软件分别设计了系统的上位机监控界面和PLC系统控制程序，完成了系统的软硬件设计。然后采用系统辨识方法建立了石墨烯CVD气体压力...
其中，化学气相沉积法（CVD）可以出单层、高质量、大面积的石墨烯，是目前石墨烯最有效、也是最具研究价值的方法。.本文根据化学气相沉积法石墨烯的工艺流程和要求，完成了石墨烯CVD生长系统的设计，压力控制系统模型的建立以及压力控制...
石墨烯CVD生长机理及其控制的理论研究.袁清红丁峰.【摘要】：大规模地高质量的大片石墨烯是实现石墨烯实际应用的重要前提。.目前,使用过渡金属催化的化学气相沉积(CVD)法被认为是高质量石墨烯最具前景的方法。.[1]这主要是因为,一方面,该...
Seminar1化学气相沉积(CVD)原理及其薄膜程士敏.研究员Seminar(CVD)2008.05.27CVD原理定义气态物种输运沉积过程热力学和动力学CVD技术分类CVD薄膜CVD技术的优缺点孟广耀，化学气相淀积与无机新材料，北京：科学出版社，1984气态源液态源固态源...
该论文对设计CVD生长系统、提高生长可控性、高质量二维材料及理解相关材料机理等具有指导意义。.CVD生长化合物二维材料示意图及其中涉及的关键难题.CVD生长二维材料研究展望.该论文第一作者为清华-伯克利深圳学院2017级博士生唐磊和2018级博士生...
化学气相沉积(cvd)原理及其薄膜.研究员Seminar(CVD)2008.05.27CVD原理定义气态物种输运沉积过程热力学和动力学CVD技术分类CVD薄膜CVD技术的优缺点气态源液态源固态源前驱物气体气相输运反应沉积衬底托架卧式反应器衬底立式反应器CVD...
广东工业大学硕士学位论文CVD法碳纳米管的催化剂的工艺姓名：萧国强申请学位级别：硕士专业：化学工程指导教师：邓淑华2003.3.1摘要／碳纳米管是1991年被发现的碳家族的新成员，他们可以看作是二维的石墨烯片层卷积的结果，是由六边形碳原子围成的无缝、中空管体．直径在几…
关键词：薄膜，PVD，CVD，镀膜工艺薄膜工艺包括薄膜方法的选择基体材料的选择及表面处理薄膜条件的选择和薄膜结构、性能与工艺参数的关系等物理气相沉积（PVD）这种薄膜方法相对于下面…
CVD生长化合物二维材料示意图及其中涉及的关键难题CVD生长二维材料研究展望该论文第一作者为清华-伯克利深圳学院2017级博士生唐磊和2018级博士生谭隽阳，论文作者还包括2019级博士生农慧雨。论文通讯作者为成会明院士和刘碧录副教授。
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