发表服务
优秀博士学位论文—《光学薄膜技术中的基片与薄膜热力学匹配问题研究》摘要第1-6页abstract第6-15页第1章引言第15-41页1.1课题研究的背景及意义第15-16页
实验发现,双材料悬臂梁结构在薄膜基片过程中,在基片的两侧均产生接近GPa的残余应力。残余应力的主要部分包括因薄膜与基底热膨胀系数差异导致的温度残余应力和由Si到SiO2转化过程引入的本征应力。
YBCO薄膜的微观结构与性能的研究,YBCO,超导薄膜,结构分析。本论文的目的是研究基片对薄膜结构和性能的影响关系,采用倒筒靶直流溅射技术在在LaAlO3(100)和R-平面的蓝宝石（A...
物理气相沉积法是一种较为简单的薄膜方法，具有耗材少、所成膜致密均匀并且所成膜可以和基片紧密的结合在一起、无污染等特点，该方法被广泛应用于冶金、材料、机械、电子、光学、航天等领域，而且还被用来并发现一些具有新的特殊性能的薄膜。
【摘要】：电阻式薄膜应变片是一种基于应变电阻效应或压阻效应的应变测量元件,广泛用于建筑、医疗、电子等领域。本论文作者以钨钛合金作为研究对象,采用直流磁控溅射法在非晶基片上钨钛薄膜敏感栅,通过沉积时间控制膜厚以改善商业化产品的不足,以期高应变灵敏系数。
劳技军,韩增虎,胡晓萍,李,杨春生;基片温度对Cr薄膜微结构和力学性能的影响[J];电子显微学报;2002年05期7金鑫;李远程;邓坤;陈宇翔;李伟;;基片温度对掺磷a-Si:H薄膜光电性能的影响[J];实验科学与技…
介电可调BMN薄膜及变容管研究-材料科学与工程专业论文.docx,万方数据万方数据独创性声明本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作及取得的研究成果。据我所知，除了文中特别加以标注和致谢的地方外，论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果，也不包含...
近日，华南师范大学先进光电子研究院先进材料研究所陈德杨副研究员在氧化物薄膜领域取得了重要研究进展，实现了突破基片限制获得外延氧化物薄膜中的应变工程，相关成果以通讯作者在Cell姊刊《Matter》上发表题为“Strainengineeringofepitaxialoxideheterostructuresbeyondsubstratelimitations”的研究论文...
粒子在基片上凝结、成核、长大、成膜。物理气相沉积技术中最为基本的两种方法就是蒸发法和溅射法，另外还有离子束和离子助等等方法。蒸发法相对溅射法具有一些明显的优点，包括较高的沉积速度，相对较高的真空度，以及由此导致的较高的薄膜质址等。
薄膜的激光为波长为248nm的KrF激光器，脉冲宽度为25ns，激光频率为5Hz，激光能量为300mJ。基片温度为700℃，真空腔的本底真空为5X10-4Pa，靶材和基片的距离为50mm。沉积薄膜的氧压分别设定为0.3Pa、1Pa、4Pa、16Pa。最终出的薄膜厚度
优秀博士学位论文—《光学薄膜技术中的基片与薄膜热力学匹配问题研究》摘要第1-6页abstract第6-15页第1章引言第15-41页1.1课题研究的背景及意义第15-16页
实验发现,双材料悬臂梁结构在薄膜基片过程中,在基片的两侧均产生接近GPa的残余应力。残余应力的主要部分包括因薄膜与基底热膨胀系数差异导致的温度残余应力和由Si到SiO2转化过程引入的本征应力。
YBCO薄膜的微观结构与性能的研究,YBCO,超导薄膜,结构分析。本论文的目的是研究基片对薄膜结构和性能的影响关系,采用倒筒靶直流溅射技术在在LaAlO3(100)和R-平面的蓝宝石（A...
物理气相沉积法是一种较为简单的薄膜方法，具有耗材少、所成膜致密均匀并且所成膜可以和基片紧密的结合在一起、无污染等特点，该方法被广泛应用于冶金、材料、机械、电子、光学、航天等领域，而且还被用来并发现一些具有新的特殊性能的薄膜。
【摘要】：电阻式薄膜应变片是一种基于应变电阻效应或压阻效应的应变测量元件,广泛用于建筑、医疗、电子等领域。本论文作者以钨钛合金作为研究对象,采用直流磁控溅射法在非晶基片上钨钛薄膜敏感栅,通过沉积时间控制膜厚以改善商业化产品的不足,以期高应变灵敏系数。
劳技军,韩增虎,胡晓萍,李,杨春生;基片温度对Cr薄膜微结构和力学性能的影响[J];电子显微学报;2002年05期7金鑫;李远程;邓坤;陈宇翔;李伟;;基片温度对掺磷a-Si:H薄膜光电性能的影响[J];实验科学与技…
介电可调BMN薄膜及变容管研究-材料科学与工程专业论文.docx,万方数据万方数据独创性声明本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作及取得的研究成果。据我所知，除了文中特别加以标注和致谢的地方外，论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果，也不包含...
近日，华南师范大学先进光电子研究院先进材料研究所陈德杨副研究员在氧化物薄膜领域取得了重要研究进展，实现了突破基片限制获得外延氧化物薄膜中的应变工程，相关成果以通讯作者在Cell姊刊《Matter》上发表题为“Strainengineeringofepitaxialoxideheterostructuresbeyondsubstratelimitations”的研究论文...
粒子在基片上凝结、成核、长大、成膜。物理气相沉积技术中最为基本的两种方法就是蒸发法和溅射法，另外还有离子束和离子助等等方法。蒸发法相对溅射法具有一些明显的优点，包括较高的沉积速度，相对较高的真空度，以及由此导致的较高的薄膜质址等。
薄膜的激光为波长为248nm的KrF激光器，脉冲宽度为25ns，激光频率为5Hz，激光能量为300mJ。基片温度为700℃，真空腔的本底真空为5X10-4Pa，靶材和基片的距离为50mm。沉积薄膜的氧压分别设定为0.3Pa、1Pa、4Pa、16Pa。最终出的薄膜厚度
发表服务