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武汉理工大学硕士学位论文ITO靶材的及其性能研究姓名：郭伟申请学位级别：硕士专业：复合材料学指导教师：王为民20090501武汉理工大学硕士学位论文摘要ITO铟锡氧化物（IndiumTinOxide）薄膜是一种n型半导体陶瓷薄膜，具有导电性好（电阻率10地．cm），对可见光透明（透过…
ITO靶材及烧结机理研究.彭祥.【摘要】：氧化铟锡(ITO)薄膜被广泛应用在平板显示器及其他的元器件上。.ITO薄膜主要是通过使用ITO靶材利用磁控溅射法得到。.基于此,具备优异性能ITO靶材的是具有重要意义的。.本文对ITO的结构,ITO薄膜、ITO靶材及...
浅谈增强磁控镀膜靶材利用率.时间：2015-11-01作者：孟怡敏张珮珮李静.摘要：本文根据进口磁控镀膜玻璃生产线使用、维护经验，详细论述了通过调整阴极靶材磁场，如何有效增强靶材利用率。.论文关键词：靶材,利用率,磁控溅射,磁场.有些国产单室磁控...
国内外磁控溅射靶材的现状和发展趋势.pdf,第39卷第4期金属材料与冶金工程V01．39No．42011年8月METALMATERIALSAND201lMETALLURGYENGINEERINGAug国内外磁控溅射靶材的现状及发展趋势术储志强(湖南省冶金材料研究所，湖南...
射频溅射时，采用高频射频电源（13.56MHz），分别将靶材和真空室的其他部分耦合在电源的两极，衬底处于靶材对应的位置，与靶材间距为5cm，射频磁控溅射时放电的过程（工作气体为Ar1）无光放电打开射频电源及电流显示器，即会有十毫安以下以下的电流...
3楼:Originallypostedbycaoxinjiangat2013-05-0209:51:09哦，实验数据只是用相关软件转换一下，应该不算篡改数据吧？那写SCI论文的时候直接在文章中标明自己用的是Co靶材就行了吧？主要就是觉得跟标准卡片对照时会不会有影响？
第27卷第1期粉末治金技术Vol27,No.12009年2月PowderMetallurgyTechnologyFeb.2009文獻W和WTi合金靶材的应用及其技术王庆相范志康西安理工大学材料科学与工程学院,西安710048摘
《半导体材料靶材专题分析报告(82页)》论文报告下载，研究报告、论文资料每年为数千个企事业和个人提供专业化服务；量身定制你需要的行业分析的资料和报告相信我们！企业客户遍及全球，提供部门、生产制造企业、物流企业、快消品行业专业化咨询服务；个人客户可以提供各类经济...
靶材磁场和溅射深度对应表表1,套靶的利用率提高了约11%,有些国产单室磁控溅射设备的厂家采用补焊的方法来延长不锈钢靶的寿命,这是因为磁场强度大的区域二次电子和离子密度大.
ITO的全称是氧化铟锡，是由不同比例的铟、锡和氧组成的。ITO和ITO溅射靶的物质是一样的，后者实际上是氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合形成的黑灰色陶瓷半导体。ITO溅射靶材的制作方法目前，ITO靶材的成型方法主要有四种，每种方法在具体应用中各有优势。
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ITO的全称是氧化铟锡，是由不同比例的铟、锡和氧组成的。ITO和ITO溅射靶的物质是一样的，后者实际上是氧化铟和氧化锡粉末按一定比例混合形成的黑灰色陶瓷半导体。ITO溅射靶材的制作方法目前，ITO靶材的成型方法主要有四种，每种方法在具体应用中各有优势。
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