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微电子工艺——光刻工艺学生姓名电子科学与技术指导教师二O一三光刻工艺南京信息工程大学电子工程系，南京摘要：光刻(photoetching)是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺，在此之后，晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。.被...
光刻工艺的研究论文.doc,毕业设计（论文）报告题目光刻工艺的研究系别专业液晶显示技术与应用班级学生姓名学号指导教师2012年3月光刻工艺的研究PAGEiv光刻工艺的研究摘要：在平面晶体管和集成电路生产中，要进行多次的光刻，以实现选择性扩散和金属膜布线的目的。
无掩模光刻技术及其曝光方案研究.摘要光刻技术是集成电路制造的核心技术，它的刻蚀线宽在半导体技术节点的推动下不断缩小，同时掩模板的成本和制作周期大幅增加，导致光刻生产的流程复杂且成本高昂。.近年来一些无需掩模板的光刻技术飞速发展...
摘要是毕业论文的重要组成部分，主要是对论文内容进行简单的介绍。虽然我们看到的摘要都是在论文开头部分，但实际写作中都是在正文完成后才写的。当然，由于毕业论文不仅仅是用来“毕业”的，也是一篇学术论文，特…
光刻图形转移技术适合不知如何写光刻方面的相关专业大学硕士和本科毕业论文以及关于中国14纳米芯片光刻机论文开题报告范文和相关职称论文写作参考文献资料下载。免费关于光刻论文范文，与光刻有关论文写作参考文献资料。
纳米压印光刻技术原理与实验研究.华中科技大学硕士学位论文摘要本文介绍了纳米压印光刻技术的原理并进行了相关的实验研究，目的在于研究采用纳米压印光刻技术三维微结构的工艺，以促进此项技术更快的走向广泛的实际应用。.本文首先介绍了纳米...
提供下一代光刻技术——压印光刻文档免费下载，摘要:第43卷第3期月机械工程学报MECHANICALENGINEERINGURNAL0FM虢2007V01．43No．32007年3CHINESEJO下一代光刻技术——压印光刻丁玉成刘红忠卢秉恒李涤尘（西安交通大学机械制造系统工程国家重点实验室
这次更新主要是对@感悟2016用户回答（甘棕松的研究成果真能用于高端光刻机的制造么？.-感悟2016的回答-知乎.https://）的一些回复。.@感悟2016对“熟悉微纳的应该知道，类似Gan的这种激光直写技术最大的缺点就是曝光效率极低的问题。.因此根本不...
【摘要】：衍射特性是光波重要物理属性之一。受衍射影响，传统光学方法难以在亚波长尺度下操控光波的传输、聚焦和成像。随着现代科学技术发展，光电子器件、显微、光学光刻、光存储等领域不断向更小尺寸、更高分辨力、更高密度方向发展。
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无掩模光刻技术及其曝光方案研究.摘要光刻技术是集成电路制造的核心技术，它的刻蚀线宽在半导体技术节点的推动下不断缩小，同时掩模板的成本和制作周期大幅增加，导致光刻生产的流程复杂且成本高昂。.近年来一些无需掩模板的光刻技术飞速发展...
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纳米压印光刻技术原理与实验研究.华中科技大学硕士学位论文摘要本文介绍了纳米压印光刻技术的原理并进行了相关的实验研究，目的在于研究采用纳米压印光刻技术三维微结构的工艺，以促进此项技术更快的走向广泛的实际应用。.本文首先介绍了纳米...
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【摘要】：衍射特性是光波重要物理属性之一。受衍射影响，传统光学方法难以在亚波长尺度下操控光波的传输、聚焦和成像。随着现代科学技术发展，光电子器件、显微、光学光刻、光存储等领域不断向更小尺寸、更高分辨力、更高密度方向发展。
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