发表服务
论文:摘要：微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。本文通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战，揭示下一代光刻设备的发展潜力，通过比较浸没式光刻、极紫外光刻机和电子束曝光机的开发现状和特点，预言将来利用极紫外光刻机、电子束...
如果这些问题解决得好，就有可能实现DUV光刻机下从40nm、50nm到14nm的突破，那我们依次来谈一谈。提到光刻胶，大家的第一反应可能是日本和的半导体贸易摩擦，日本一卡，就只能退步，可见光刻胶等光刻材料的重要性。
光刻机是集成电路制造的核心装备，其技术水平决定了集成电路的集成度，关乎摩尔定律的生命力。王向朝研究员谈光刻机难在哪儿（视频来自中国激光微信公众号“五分钟光学”专栏）光刻机是迄今为止人类所能制造的最精密的装备。
中科院这套光刻机使用的365nm光源就能制造出22nm工艺的芯片，未来通过多重曝光等手段可以制造出10nm以下的芯片，技术上很牛，但是对于它的期望不要太高，这种光刻机跟现在的ASML体系的光刻机不一样，用于大规模生产的话需要改变工艺流程，所以真正用于...
本论文重点针对65nm逻辑MOS电路实际生产中各道工艺对关键尺寸测量的方法和重要性予以阐述和研究。通过实际的案例，说明OCD测量在各工艺制程中扮演的角色，并通过数据追踪和分析，重点研究和分析了通过OCD测量帮助工艺工程师及时判断并解决工艺制程中发生的问题，从而降低缺陷，提…
在整个光刻工艺中，光刻机是核心要素，光刻胶则是实现精细图形集成电路的关键材料。光刻工艺的发展主要依靠光源波长的不断缩小，从g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）再到如今的极紫外（EUV，13.5nm），集成电路的制程工艺在不断进步，光刻胶也随之不断更新换代。
中国光刻机开发50年，为什么还落后国际7代以上？,光刻机,半导体设备,微电子,半导体,光刻文|AI财经社唐煜编辑|赵艳秋本文由《财经天下》周刊旗下账号AI财经社原创出品，未经许可，任何渠道、平台请勿转载。
友情提醒，不看完文章就评论，见即删。29日，大家的朋友圈被”国产光刻机“刷屏，不明所以的吃瓜群众从一开始的“厉害了，我的国”，迅速反转到指责中国科学院光电技术研究所（以下称光电所）经费。那么，这台自主研发的超分辨光刻装备到底是真牛还是吹牛？
中国芯片制造迈出一大步！中科院造出最强紫外超分辨光刻机通常情况下，想要用光刻机制造出一个芯片，需要在极其细微的结构上进行上百次套刻...
论文:摘要：微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。本文通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战，揭示下一代光刻设备的发展潜力，通过比较浸没式光刻、极紫外光刻机和电子束曝光机的开发现状和特点，预言将来利用极紫外光刻机、电子束...
如果这些问题解决得好，就有可能实现DUV光刻机下从40nm、50nm到14nm的突破，那我们依次来谈一谈。提到光刻胶，大家的第一反应可能是日本和的半导体贸易摩擦，日本一卡，就只能退步，可见光刻胶等光刻材料的重要性。
光刻机是集成电路制造的核心装备，其技术水平决定了集成电路的集成度，关乎摩尔定律的生命力。王向朝研究员谈光刻机难在哪儿（视频来自中国激光微信公众号“五分钟光学”专栏）光刻机是迄今为止人类所能制造的最精密的装备。
中科院这套光刻机使用的365nm光源就能制造出22nm工艺的芯片，未来通过多重曝光等手段可以制造出10nm以下的芯片，技术上很牛，但是对于它的期望不要太高，这种光刻机跟现在的ASML体系的光刻机不一样，用于大规模生产的话需要改变工艺流程，所以真正用于...
本论文重点针对65nm逻辑MOS电路实际生产中各道工艺对关键尺寸测量的方法和重要性予以阐述和研究。通过实际的案例，说明OCD测量在各工艺制程中扮演的角色，并通过数据追踪和分析，重点研究和分析了通过OCD测量帮助工艺工程师及时判断并解决工艺制程中发生的问题，从而降低缺陷，提…
在整个光刻工艺中，光刻机是核心要素，光刻胶则是实现精细图形集成电路的关键材料。光刻工艺的发展主要依靠光源波长的不断缩小，从g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）再到如今的极紫外（EUV，13.5nm），集成电路的制程工艺在不断进步，光刻胶也随之不断更新换代。
中国光刻机开发50年，为什么还落后国际7代以上？,光刻机,半导体设备,微电子,半导体,光刻文|AI财经社唐煜编辑|赵艳秋本文由《财经天下》周刊旗下账号AI财经社原创出品，未经许可，任何渠道、平台请勿转载。
友情提醒，不看完文章就评论，见即删。29日，大家的朋友圈被”国产光刻机“刷屏，不明所以的吃瓜群众从一开始的“厉害了，我的国”，迅速反转到指责中国科学院光电技术研究所（以下称光电所）经费。那么，这台自主研发的超分辨光刻装备到底是真牛还是吹牛？
中国芯片制造迈出一大步！中科院造出最强紫外超分辨光刻机通常情况下，想要用光刻机制造出一个芯片，需要在极其细微的结构上进行上百次套刻...
发表服务