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上世纪八十年代中期开始，随着微细技术和优化设计理论的完善，二元光学不断发展.进入九十年代后，微细工艺发展迅速，同时为了得到高衍射效率的二元光学器件，多个台阶的浮雕结构逐渐代替了2个台阶结构，直至近似连续分布，但由于表面分布成形技术仍然为主要的制作方法，故仍然...
二元光学元件的原理与应用中图分类号：O43文献标识码：A文章编号：1006-0278（2016）01-190-01一、引言80年代中期，美国MIT林肯实验室的威尔得坎普率先提出了“二元光学”的概念，二元光学有别于传统光学元件制造方法，基于衍射光学的原理...
微电子二元光学器件制作工艺研究论文二元光学器件的基本制作工艺是超大规模集成电路中的微电子技术，但微电子属薄膜图形，主要控制的是二维的薄膜图形，而二元光学器件则是一种表面的三维浮雕结构，因为要同时控制平面图形的精细尺寸和纵向深度，所以其难度增大。
文档格式：.doc文档页数：8页文档大小：477.5K文档热度：文档分类：论文--毕业论文文档标签：二元远红外物镜光学球差systemZEMAXStandard相位传递函数系统标签：物镜光学二元红外色差光焦度论文论文指导设计
摘要:二元光学元件用作透镜在原理上色差非常大,若不在设计上做出补偿,则会限制其在宽波段上使用。阐述了利用二元光学元件色散特性的新型超光谱成像仪的基本原理和应用前景。由于国内衍射透镜工艺条件的限制,提出利用折衍混合透镜代替衍射透镜来实现色散和成像,介绍了此透镜系统的...
导出二元光学元件表面各环带半径，为工艺提供参数。另一方面，对于二元光学技术实现消色差的远红外望远物镜的设计，本文所进行的是较为基础的设计和研究，在设计方面的工作才刚刚起步，尚有许多工作有待进一步完善和开展。
【摘要】：二元光学衍射元件具有多种应用,用作透镜,在原理上色差非常大。二元光学衍射透镜成像光谱技术就是利用二元光学衍射元件的这种特性来同时完成色散和成像的新兴超光谱成像技术,二元光学衍射透镜成像光谱仪具有光谱分辨率高、结构紧凑、重量轻、坚固耐用、价格低廉,便于实现小型...
折衍二元光学元件模压技术研究-光学工程专业论文.docx,A主份的环氧树脂的刻蚀比为1：2．78。此刻蚀速率和刻蚀比适于对微结构的刻蚀转移。在硫系红外玻璃模压部分，论文研究分析了不同的模压温度和加热方式对模压结果的影响。实验最终确定模压参数，模压部分分为升温过程和降温过程。
基于紫外压印的二元光学器件方法研究.【摘要】：随着半导体技术以及微纳工艺的蓬勃发展,二元光学器件把传统光学带入了微光学领域,实现了光、机、电、算微型仪器的高度集成,但同时也为二元光学器件的低成本、高产出工艺提出了更高的要求...
本报告主要涉及基于二元光学元件的聚焦光场整形技术及其在激光直写、光镊、成像等方面应用的初步探讨。.报告人简介.个人学习经历：.2003.9-2007.7天津工业大学理学院光信息科学与技术专业，理学学士；.2007.9-2012.6中科院上海光机所，光学工程博士...
上世纪八十年代中期开始，随着微细技术和优化设计理论的完善，二元光学不断发展.进入九十年代后，微细工艺发展迅速，同时为了得到高衍射效率的二元光学器件，多个台阶的浮雕结构逐渐代替了2个台阶结构，直至近似连续分布，但由于表面分布成形技术仍然为主要的制作方法，故仍然...
二元光学元件的原理与应用中图分类号：O43文献标识码：A文章编号：1006-0278（2016）01-190-01一、引言80年代中期，美国MIT林肯实验室的威尔得坎普率先提出了“二元光学”的概念，二元光学有别于传统光学元件制造方法，基于衍射光学的原理...
微电子二元光学器件制作工艺研究论文二元光学器件的基本制作工艺是超大规模集成电路中的微电子技术，但微电子属薄膜图形，主要控制的是二维的薄膜图形，而二元光学器件则是一种表面的三维浮雕结构，因为要同时控制平面图形的精细尺寸和纵向深度，所以其难度增大。
文档格式：.doc文档页数：8页文档大小：477.5K文档热度：文档分类：论文--毕业论文文档标签：二元远红外物镜光学球差systemZEMAXStandard相位传递函数系统标签：物镜光学二元红外色差光焦度论文论文指导设计
摘要:二元光学元件用作透镜在原理上色差非常大,若不在设计上做出补偿,则会限制其在宽波段上使用。阐述了利用二元光学元件色散特性的新型超光谱成像仪的基本原理和应用前景。由于国内衍射透镜工艺条件的限制,提出利用折衍混合透镜代替衍射透镜来实现色散和成像,介绍了此透镜系统的...
导出二元光学元件表面各环带半径，为工艺提供参数。另一方面，对于二元光学技术实现消色差的远红外望远物镜的设计，本文所进行的是较为基础的设计和研究，在设计方面的工作才刚刚起步，尚有许多工作有待进一步完善和开展。
【摘要】：二元光学衍射元件具有多种应用,用作透镜,在原理上色差非常大。二元光学衍射透镜成像光谱技术就是利用二元光学衍射元件的这种特性来同时完成色散和成像的新兴超光谱成像技术,二元光学衍射透镜成像光谱仪具有光谱分辨率高、结构紧凑、重量轻、坚固耐用、价格低廉,便于实现小型...
折衍二元光学元件模压技术研究-光学工程专业论文.docx,A主份的环氧树脂的刻蚀比为1：2．78。此刻蚀速率和刻蚀比适于对微结构的刻蚀转移。在硫系红外玻璃模压部分，论文研究分析了不同的模压温度和加热方式对模压结果的影响。实验最终确定模压参数，模压部分分为升温过程和降温过程。
基于紫外压印的二元光学器件方法研究.【摘要】：随着半导体技术以及微纳工艺的蓬勃发展,二元光学器件把传统光学带入了微光学领域,实现了光、机、电、算微型仪器的高度集成,但同时也为二元光学器件的低成本、高产出工艺提出了更高的要求...
本报告主要涉及基于二元光学元件的聚焦光场整形技术及其在激光直写、光镊、成像等方面应用的初步探讨。.报告人简介.个人学习经历：.2003.9-2007.7天津工业大学理学院光信息科学与技术专业，理学学士；.2007.9-2012.6中科院上海光机所，光学工程博士...
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