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二元光学元件的原理与应用中图分类号：O43文献标识码：A文章编号：1006-0278（2016）01-190-01一、引言80年代中期，美国MIT林肯实验室的威尔得坎普率先提出了“二元光学”的概念，二元光学有别于传统光学元件制造方法，基于衍射光学的原理...
二元光学在光学系统方面的设计应用.王德熙魏亚东.【摘要】：由像差理论可知,普通光学系统的二级光谱可以近似地表示为L'FCD=0．00052f'因此在长焦距折射式光学系统中,二级光谱色差是影响成像分辨率的主要因数。.相对于同样的波长间隔,绝大部分折射材料...
【摘要】：二元光学衍射元件具有多种应用,用作透镜,在原理上色差非常大。二元光学衍射透镜成像光谱技术就是利用二元光学衍射元件的这种特性来同时完成色散和成像的新兴超光谱成像技术,二元光学衍射透镜成像光谱仪具有光谱分辨率高、结构紧凑、重量轻、坚固耐用、价格低廉,便于实现小型...
MATLAB在二元光学元件设计中的应用徐满平,周杰(嘉应学院物理系,广东梅州5140015)摘要:本文提出利用MATLAB的FFT函数和IFFT函数,对高斯分布进行傅立叶变换,利用G-S迭代法,得到巴特沃斯(近似矩形)分布,从而获得二元光学元件的设计...
二元光学的应用按其发展可以分为三个层次：单个二元元件的应用；阵列二元元件的应用；光机电系统（MOEMS）集成器件的应用。（1）单个二元元件的应用[46－50】华中科技大学博士学位论文单个二元元件的应用开始得最早，面也最广。
本报告主要涉及基于二元光学元件的聚焦光场整形技术及其在激光直写、光镊、成像等方面应用的初步探讨。.报告人简介.个人学习经历：.2003.9-2007.7天津工业大学理学院光信息科学与技术专业，理学学士；.2007.9-2012.6中科院上海光机所，光学工程博士...
近年来二元光学的研究重点集中在以下三个领域：超精细衍射结构的分析理论设计和特殊波面的算法研究；激光束或电子束直写技术及高分辨率刻蚀技术；将二元光学元件广泛拓展应用于国防、工农业及生产消费领域。
微电子二元光学器件制作工艺研究论文二元光学器件的基本制作工艺是超大规模集成电路中的微电子技术，但微电子属薄膜图形，主要控制的是二维的薄膜图形，而二元光学器件则是一种表面的三维浮雕结构，因为要同时控制平面图形的精细尺寸和纵向深度，所以其难度增大。
折衍二元光学元件模压技术研究-光学工程专业论文.docx,A主份的环氧树脂的刻蚀比为1：2．78。此刻蚀速率和刻蚀比适于对微结构的刻蚀转移。在硫系红外玻璃模压部分，论文研究分析了不同的模压温度和加热方式对模压结果的影响。实验最终确定模压参数，模压部分分为升温过程和降温过程。
本文第一章概述了二元光学的发展概况，二元光学元件的特点和应用，及成像光谱技术的基本原理、基本仪器类型。通过把光谱层析技术和窄带滤波技术相结合，实现了一种新的成像光谱原理，即利用二元光学元件轴向色散的凝视成像光谱技术，从而确定了论文的总体研究方向和基本方案。
二元光学元件的原理与应用中图分类号：O43文献标识码：A文章编号：1006-0278（2016）01-190-01一、引言80年代中期，美国MIT林肯实验室的威尔得坎普率先提出了“二元光学”的概念，二元光学有别于传统光学元件制造方法，基于衍射光学的原理...
二元光学在光学系统方面的设计应用.王德熙魏亚东.【摘要】：由像差理论可知,普通光学系统的二级光谱可以近似地表示为L'FCD=0．00052f'因此在长焦距折射式光学系统中,二级光谱色差是影响成像分辨率的主要因数。.相对于同样的波长间隔,绝大部分折射材料...
【摘要】：二元光学衍射元件具有多种应用,用作透镜,在原理上色差非常大。二元光学衍射透镜成像光谱技术就是利用二元光学衍射元件的这种特性来同时完成色散和成像的新兴超光谱成像技术,二元光学衍射透镜成像光谱仪具有光谱分辨率高、结构紧凑、重量轻、坚固耐用、价格低廉,便于实现小型...
MATLAB在二元光学元件设计中的应用徐满平,周杰(嘉应学院物理系,广东梅州5140015)摘要:本文提出利用MATLAB的FFT函数和IFFT函数,对高斯分布进行傅立叶变换,利用G-S迭代法,得到巴特沃斯(近似矩形)分布,从而获得二元光学元件的设计...
二元光学的应用按其发展可以分为三个层次：单个二元元件的应用；阵列二元元件的应用；光机电系统（MOEMS）集成器件的应用。（1）单个二元元件的应用[46－50】华中科技大学博士学位论文单个二元元件的应用开始得最早，面也最广。
本报告主要涉及基于二元光学元件的聚焦光场整形技术及其在激光直写、光镊、成像等方面应用的初步探讨。.报告人简介.个人学习经历：.2003.9-2007.7天津工业大学理学院光信息科学与技术专业，理学学士；.2007.9-2012.6中科院上海光机所，光学工程博士...
近年来二元光学的研究重点集中在以下三个领域：超精细衍射结构的分析理论设计和特殊波面的算法研究；激光束或电子束直写技术及高分辨率刻蚀技术；将二元光学元件广泛拓展应用于国防、工农业及生产消费领域。
微电子二元光学器件制作工艺研究论文二元光学器件的基本制作工艺是超大规模集成电路中的微电子技术，但微电子属薄膜图形，主要控制的是二维的薄膜图形，而二元光学器件则是一种表面的三维浮雕结构，因为要同时控制平面图形的精细尺寸和纵向深度，所以其难度增大。
折衍二元光学元件模压技术研究-光学工程专业论文.docx,A主份的环氧树脂的刻蚀比为1：2．78。此刻蚀速率和刻蚀比适于对微结构的刻蚀转移。在硫系红外玻璃模压部分，论文研究分析了不同的模压温度和加热方式对模压结果的影响。实验最终确定模压参数，模压部分分为升温过程和降温过程。
本文第一章概述了二元光学的发展概况，二元光学元件的特点和应用，及成像光谱技术的基本原理、基本仪器类型。通过把光谱层析技术和窄带滤波技术相结合，实现了一种新的成像光谱原理，即利用二元光学元件轴向色散的凝视成像光谱技术，从而确定了论文的总体研究方向和基本方案。
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