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多弧离子镀等离子体镀膜技术应用及其计算机控制.本文综述了多弧离子镀沉积技术的原理和发展，阐述了多弧离子镀沉积技术在：｜二业方潮的应用。.介绍了多弧离子镀设备构成，以Cr靶为例，测量了实验系统中影响沉积薄膜性能的有关参数。.采用多弧离子...
多弧离子镀技术及其应用.PDF,2006年lO月重庆大学学报(自然科学版)0ct．2006第29卷第1O期JournalofChongqingUniversity(NaturalScienceEdition)Vol_29No．10文章编号：1000—582X(2006)lO一0055一O3多弧离子镀技术及其应用姜雪峰，刘清...
东北大学硕士学位论文多弧离子镀膜过程中几个参数的研究姓名：谢元华申请学位级别：硕士专业：流体机械及工程指导教师：徐成海20040201东北大学硕士学位论文摘要多弧离子镀膜过程中几个参数的研究多弧离子镀是在真空电弧和离子镀技术基础上发展起来的一门镀膜技术。
【摘要】：本文综述了多弧离子镀沉积技术的原理和发展,阐述了多弧离子镀沉积技术在工业方面的应用。介绍了多弧离子镀设备构成,以Cr靶为例,测量了实验系统中影响沉积薄膜性能的有关参数。采用多弧离子镀沉积Cr-N硬质薄膜,分析了不同参数对薄膜结构和性能的影响,例如氮气—氩气气氛比,衬底偏...
本文基于多弧离子镀技术探讨线齿轮表面的涂层方法,通过大量试验及相关结果的理论分析,研究线齿轮副表面TiAlN涂层和DLC涂层的工艺方法及其对线齿轮副摩擦学性能的影响,为线齿轮表面有效、可靠的固体润滑涂层提供指导,从而为线齿轮在特殊工况...
真空真空镀膜机行业最长见的镀膜技术有电阻蒸发镀膜,多弧离子镀膜,磁控溅射镀膜,也是日常最常用的镀膜技术,三种镀膜技术,各自有各自的优势,像电阻蒸发镀膜技术一般镀熔点低,易汽化的膜材,多弧离子镀膜技术的对工件材料就是要求比较的严格,而磁控溅射镀膜技术几乎什么材料都能,应用非常...
多弧离子镀设备与技术研究进展多弧离子镀设备一般比较简单，整个设备主要由真空镀膜室、弧源、真空获得系统、偏压源等几大部分组成。弧源是多弧离子镀设备的关键部件，现在国内一般使用小弧源，直径为60～80mm，厚度为直径的1/2。
磁控溅射和多弧离子镀的根本差异是什么啊？磁控溅射的磁场主要是用来电子，保持辉光效应持续存在，多弧离子镀的磁场主要是为了控制弧斑点的移动，使靶材被均匀利用，这样理解对吗？磁控溅射溅射出来的主要是原子，而离子镀经过离化后到达基本附近的主要是离子，这样的理解对不？
1.3多弧离子镀技术概述1.3.1多弧离子镀的原理图1.1多弧离子镀示意图Figure1.1Schematicdiagrammulti-arcionplatingtechnology多弧离子镀又称电弧离子镀，是离子镀技术中应用最广泛的一种先进技术，上世纪80年代苏联率先提出了这种技术的雏形
本论文第一部分为多弧离子镀技术TiN薄膜的研究,通过对影响镀膜过程的重要因素:负偏压、氮气分压、弧电流、基体温度等的研究,得出他们对涂层厚度和性能影响的规律,实验证明,靶电流80A、基体温度500℃(高速钢)、偏压50V、氮气分压1Pa、沉积时间40min
多弧离子镀等离子体镀膜技术应用及其计算机控制.本文综述了多弧离子镀沉积技术的原理和发展，阐述了多弧离子镀沉积技术在：｜二业方潮的应用。.介绍了多弧离子镀设备构成，以Cr靶为例，测量了实验系统中影响沉积薄膜性能的有关参数。.采用多弧离子...
多弧离子镀技术及其应用.PDF,2006年lO月重庆大学学报(自然科学版)0ct．2006第29卷第1O期JournalofChongqingUniversity(NaturalScienceEdition)Vol_29No．10文章编号：1000—582X(2006)lO一0055一O3多弧离子镀技术及其应用姜雪峰，刘清...
东北大学硕士学位论文多弧离子镀膜过程中几个参数的研究姓名：谢元华申请学位级别：硕士专业：流体机械及工程指导教师：徐成海20040201东北大学硕士学位论文摘要多弧离子镀膜过程中几个参数的研究多弧离子镀是在真空电弧和离子镀技术基础上发展起来的一门镀膜技术。
【摘要】：本文综述了多弧离子镀沉积技术的原理和发展,阐述了多弧离子镀沉积技术在工业方面的应用。介绍了多弧离子镀设备构成,以Cr靶为例,测量了实验系统中影响沉积薄膜性能的有关参数。采用多弧离子镀沉积Cr-N硬质薄膜,分析了不同参数对薄膜结构和性能的影响,例如氮气—氩气气氛比,衬底偏...
本文基于多弧离子镀技术探讨线齿轮表面的涂层方法,通过大量试验及相关结果的理论分析,研究线齿轮副表面TiAlN涂层和DLC涂层的工艺方法及其对线齿轮副摩擦学性能的影响,为线齿轮表面有效、可靠的固体润滑涂层提供指导,从而为线齿轮在特殊工况...
真空真空镀膜机行业最长见的镀膜技术有电阻蒸发镀膜,多弧离子镀膜,磁控溅射镀膜,也是日常最常用的镀膜技术,三种镀膜技术,各自有各自的优势,像电阻蒸发镀膜技术一般镀熔点低,易汽化的膜材,多弧离子镀膜技术的对工件材料就是要求比较的严格,而磁控溅射镀膜技术几乎什么材料都能,应用非常...
多弧离子镀设备与技术研究进展多弧离子镀设备一般比较简单，整个设备主要由真空镀膜室、弧源、真空获得系统、偏压源等几大部分组成。弧源是多弧离子镀设备的关键部件，现在国内一般使用小弧源，直径为60～80mm，厚度为直径的1/2。
磁控溅射和多弧离子镀的根本差异是什么啊？磁控溅射的磁场主要是用来电子，保持辉光效应持续存在，多弧离子镀的磁场主要是为了控制弧斑点的移动，使靶材被均匀利用，这样理解对吗？磁控溅射溅射出来的主要是原子，而离子镀经过离化后到达基本附近的主要是离子，这样的理解对不？
1.3多弧离子镀技术概述1.3.1多弧离子镀的原理图1.1多弧离子镀示意图Figure1.1Schematicdiagrammulti-arcionplatingtechnology多弧离子镀又称电弧离子镀，是离子镀技术中应用最广泛的一种先进技术，上世纪80年代苏联率先提出了这种技术的雏形
本论文第一部分为多弧离子镀技术TiN薄膜的研究,通过对影响镀膜过程的重要因素:负偏压、氮气分压、弧电流、基体温度等的研究,得出他们对涂层厚度和性能影响的规律,实验证明,靶电流80A、基体温度500℃(高速钢)、偏压50V、氮气分压1Pa、沉积时间40min
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