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酸性光亮镀铜工艺的研究（精品论文）.机械科学院硕士论文摘要酸性光亮镀铜工艺的研究在硫酸和硫酸铜组成的基础镀液中，加入合适的添加剂，可以得到表面光亮的镀铜层。.由于金属铜质地坚韧，延展性能优异，具有良好的电导率和热导率，孔隙率较低...
以次亚磷酸钠为还原剂的化学镀铜工艺研究（论文）.随着科学技术的进步，越来越多的电子产品应用到我们的日常生活，它们的生产以及产生的电磁波污染的解决都与化学镀铜工业息息相关。.电磁波污染不仅造成电子产品之间的相互干扰，而且污染人类生存...
硕士学位论文多巴胺修饰表面化学镀铜复合材料的研究材料科学与工程学院论文提交日期2016electrolesscopper-platedcompositesdopaminesurfacefunctionalizationDissertationSubmittedMasterCandidate：HuJiaxunSupervisor：Assoc.Prof...
毕业论文关键词:碱性镀铜,柠檬酸盐镀铜,辅助络合剂AlkalinecopperplatingtechnologyresearchAbstract：Withoutcyanidecopperplatingtechnology…
电镀铜和化学镀铜的性能分析和影响因素电镀铜的性能分析及影响因素(作者)摘要:关键词:英文摘要:0绪论电镀和化学镀概述在国民经济的各个生产和科学发展领域里,如机械.无线电.仪表.交通.航空及船舶工业中,在日用品的生产和医疗器械等设备的制造中,金属镀层都有极为广泛而应用.
镀法石墨粉镀铜工艺及铜含量的测定-第31卷第5期2007年5月机械工程材料MaterialsforV01．31No．52007MechanicalEngineer...首页文档视频音频文集文档
《电镀与涂饰》北大核心电力论文发表关注(次)期刊级别：国家级期刊CN刊号：1003-0085ISSN刊号：11-5417/TH主管单位：中国机电日报社;深圳中机实业开发中心
毕业论文（设计）成果归武昌工学院所有。特此声明作者专业环境工程作者学号wastewatertreatmentdesignelectroplatingfactoryLi,hao2014我国电镀行业日趋发展，电镀废水作为世界三大污染之一，对于提倡环保的时代来说是需要特别强调的处理项目。
本论文首先研究了以次磷酸钠为还原剂,柠檬酸钠为单一络合剂的体系中,镀液中各组分和镀液pH对化学镀铜的影响.沉积速率随镀液中硫酸铜,硫酸镍,次磷酸钠浓度的增加而增大,而沉积速率随柠檬酸钠浓度的增加而减小.溶液中Ni~(2+)浓度的增加随会提高沉积速度,但
介绍了一种新型镀铜银纳米线导电薄膜技术:以磁控溅射法在涂布了OC（保护胶）的银纳米线（AgNWs）薄膜表面覆盖纳米铜层来替代银浆,再通过黄光制程中的蚀刻工艺将铜层进行图案化蚀刻。研究了蚀刻液中过硫酸钠和磷酸用量对铜层蚀刻效果的影响,得到较佳的铜蚀刻液为:磷
酸性光亮镀铜工艺的研究（精品论文）.机械科学院硕士论文摘要酸性光亮镀铜工艺的研究在硫酸和硫酸铜组成的基础镀液中，加入合适的添加剂，可以得到表面光亮的镀铜层。.由于金属铜质地坚韧，延展性能优异，具有良好的电导率和热导率，孔隙率较低...
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硕士学位论文多巴胺修饰表面化学镀铜复合材料的研究材料科学与工程学院论文提交日期2016electrolesscopper-platedcompositesdopaminesurfacefunctionalizationDissertationSubmittedMasterCandidate：HuJiaxunSupervisor：Assoc.Prof...
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电镀铜和化学镀铜的性能分析和影响因素电镀铜的性能分析及影响因素(作者)摘要:关键词:英文摘要:0绪论电镀和化学镀概述在国民经济的各个生产和科学发展领域里,如机械.无线电.仪表.交通.航空及船舶工业中,在日用品的生产和医疗器械等设备的制造中,金属镀层都有极为广泛而应用.
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《电镀与涂饰》北大核心电力论文发表关注(次)期刊级别：国家级期刊CN刊号：1003-0085ISSN刊号：11-5417/TH主管单位：中国机电日报社;深圳中机实业开发中心
毕业论文（设计）成果归武昌工学院所有。特此声明作者专业环境工程作者学号wastewatertreatmentdesignelectroplatingfactoryLi,hao2014我国电镀行业日趋发展，电镀废水作为世界三大污染之一，对于提倡环保的时代来说是需要特别强调的处理项目。
本论文首先研究了以次磷酸钠为还原剂,柠檬酸钠为单一络合剂的体系中,镀液中各组分和镀液pH对化学镀铜的影响.沉积速率随镀液中硫酸铜,硫酸镍,次磷酸钠浓度的增加而增大,而沉积速率随柠檬酸钠浓度的增加而减小.溶液中Ni~(2+)浓度的增加随会提高沉积速度,但
介绍了一种新型镀铜银纳米线导电薄膜技术:以磁控溅射法在涂布了OC（保护胶）的银纳米线（AgNWs）薄膜表面覆盖纳米铜层来替代银浆,再通过黄光制程中的蚀刻工艺将铜层进行图案化蚀刻。研究了蚀刻液中过硫酸钠和磷酸用量对铜层蚀刻效果的影响,得到较佳的铜蚀刻液为:磷
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