发表服务
华中科技大学博士学位论文磁控溅射氮化铜薄膜研究姓名：李兴鳌申请学位级别：博士专业：材料物理与化学指导教师：刘祖黎20070126本文全面系统的研究了沉积条件对直流磁控溅射氮化铜薄膜的结构和性能的影响，以及金属铝、铁、镧掺杂对直流磁控溅射氮化铜薄膜的结构和性能...
与Cu_3N薄膜比较,Al_xCu_3N薄膜的电阻率降低了,显微硬度增加了。铝掺杂既改变了氮化铜薄膜的结构,又改变了氮化铜薄膜的电学特性,还提高了薄膜的质量。(7)用磁控双靶反应共溅射了镧掺杂氮化铜薄膜,研究了掺杂镧原子的多少对氮化铜薄膜结构和性能的
磁控溅射氮化铜薄膜及其掺杂研究.白秋飞.【摘要】：Cu_3N薄膜是一种以共价键结合的亚稳态半导体材料,具有热分解温度低、电阻率高、在红外和可见光波段反射率低等特点,成为近年来光存储和微电子半导体等领域中备受瞩目的新型应用材料。.Cu_3N晶体为...
氮化铜薄膜的及其物理性能第34人工晶体JOURNALOFSYNTHETICCRYSTALSVo1.34No.1February,2005氮化铜薄膜的及其物理性能岳光辉,闫鹏勋(兰州大学等离子体与金属材料研究所,兰州730000)摘要:氮化铜薄膜的光学性能及其突出的低温...
摘要：氮化铜薄膜是一种亚稳半导体材料，具有特殊的反三氧化铼(ReO3)结构的3d型过渡金属氧化物，即晶体中的铜原子未能紧密占据(111)面的密堆积位置，因此可以通过掺杂，如将其它原子(如铜、钯等原子)填充至晶体空位，使薄膜的电学、光学等性质发生极大的变化。
氮化铜的掺杂及其光电应用研究.【摘要】：本文主要采用磁控溅射的方法研究了过渡金属掺杂氮化铜的和光电性能以及器件的应用。.首先研究了金属Sc掺杂氮化铜薄膜的热稳定性和光学性能的影响,有效的改良了薄膜的热稳定性和调节光学带隙。.然后...
磁控溅射氮化铜及锰掺杂氮化铜薄膜的分析-analysisofpreparationofcoppernitrideandmanganese-dopedcoppernitridefilmsbymagnetronsputtering.docx,AbstractCoppernitridefilmhasagoodpropertyofphotoelectric,suchasthelow...
【摘要】：由于氮化铜薄膜潜在的光存储应用前景,成为近十年来研究的热点材料之一,许多研究小组开始了对氮化铜薄膜掺杂展开了研究。本文综述了3d型过渡金属及其他原子掺杂对氮化铜薄膜结构和性能的影响,鉴于此对其应用前景进行了展望。
【摘要】：采用反应磁控溅射法在氮气分压0.5Pa、基底温度100℃条件下,在玻璃基底上分别了氮化铜薄膜和铁掺杂氮化铜薄膜。XRD显示氮化铜薄膜择优(111)晶面生长,铁掺杂使氮化铜薄膜的结晶程度减弱。AFM显示铁掺杂使氮化铜薄膜粗糙度增加。铁掺杂不同程度地提高了氮化铜薄膜的沉积速率和电阻...
9、氮化铜薄膜及其钨掺杂的结构与性能研究，王海文，硕士论文，大连理工大学10、氮化铜薄膜的掺杂研究及进展，李晓峰，广州化工，201311、射频反应磁控溅射氮化铜（Cu3N）薄膜及其性能研究，袁晓梅，硕士论文，兰州大学12、氮化铜薄膜作为锂
华中科技大学博士学位论文磁控溅射氮化铜薄膜研究姓名：李兴鳌申请学位级别：博士专业：材料物理与化学指导教师：刘祖黎20070126本文全面系统的研究了沉积条件对直流磁控溅射氮化铜薄膜的结构和性能的影响，以及金属铝、铁、镧掺杂对直流磁控溅射氮化铜薄膜的结构和性能...
与Cu_3N薄膜比较,Al_xCu_3N薄膜的电阻率降低了,显微硬度增加了。铝掺杂既改变了氮化铜薄膜的结构,又改变了氮化铜薄膜的电学特性,还提高了薄膜的质量。(7)用磁控双靶反应共溅射了镧掺杂氮化铜薄膜,研究了掺杂镧原子的多少对氮化铜薄膜结构和性能的
磁控溅射氮化铜薄膜及其掺杂研究.白秋飞.【摘要】：Cu_3N薄膜是一种以共价键结合的亚稳态半导体材料,具有热分解温度低、电阻率高、在红外和可见光波段反射率低等特点,成为近年来光存储和微电子半导体等领域中备受瞩目的新型应用材料。.Cu_3N晶体为...
氮化铜薄膜的及其物理性能第34人工晶体JOURNALOFSYNTHETICCRYSTALSVo1.34No.1February,2005氮化铜薄膜的及其物理性能岳光辉,闫鹏勋(兰州大学等离子体与金属材料研究所,兰州730000)摘要:氮化铜薄膜的光学性能及其突出的低温...
摘要：氮化铜薄膜是一种亚稳半导体材料，具有特殊的反三氧化铼(ReO3)结构的3d型过渡金属氧化物，即晶体中的铜原子未能紧密占据(111)面的密堆积位置，因此可以通过掺杂，如将其它原子(如铜、钯等原子)填充至晶体空位，使薄膜的电学、光学等性质发生极大的变化。
氮化铜的掺杂及其光电应用研究.【摘要】：本文主要采用磁控溅射的方法研究了过渡金属掺杂氮化铜的和光电性能以及器件的应用。.首先研究了金属Sc掺杂氮化铜薄膜的热稳定性和光学性能的影响,有效的改良了薄膜的热稳定性和调节光学带隙。.然后...
磁控溅射氮化铜及锰掺杂氮化铜薄膜的分析-analysisofpreparationofcoppernitrideandmanganese-dopedcoppernitridefilmsbymagnetronsputtering.docx,AbstractCoppernitridefilmhasagoodpropertyofphotoelectric,suchasthelow...
【摘要】：由于氮化铜薄膜潜在的光存储应用前景,成为近十年来研究的热点材料之一,许多研究小组开始了对氮化铜薄膜掺杂展开了研究。本文综述了3d型过渡金属及其他原子掺杂对氮化铜薄膜结构和性能的影响,鉴于此对其应用前景进行了展望。
【摘要】：采用反应磁控溅射法在氮气分压0.5Pa、基底温度100℃条件下,在玻璃基底上分别了氮化铜薄膜和铁掺杂氮化铜薄膜。XRD显示氮化铜薄膜择优(111)晶面生长,铁掺杂使氮化铜薄膜的结晶程度减弱。AFM显示铁掺杂使氮化铜薄膜粗糙度增加。铁掺杂不同程度地提高了氮化铜薄膜的沉积速率和电阻...
9、氮化铜薄膜及其钨掺杂的结构与性能研究，王海文，硕士论文，大连理工大学10、氮化铜薄膜的掺杂研究及进展，李晓峰，广州化工，201311、射频反应磁控溅射氮化铜（Cu3N）薄膜及其性能研究，袁晓梅，硕士论文，兰州大学12、氮化铜薄膜作为锂
发表服务