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干涉光刻技术集激光、干涉和衍射光学及光学光刻于一体，是国家自然科学基金资助的微细加工技术和微电子领域的前沿研究课题，对其进行理论、模拟和实验研究，对推进光学光刻极限，发展我国纳米微电子和光电子器件、新型大屏幕平板显示器和新型光刻机具有重要的科学意义和广阔的应用前景。
光刻工艺论文摘要：在平面晶体管和集成电路生产中，要进行多次的光刻，以实现选择性扩散和金属膜布线的目的。光刻工艺是利用光刻胶的感光性和耐蚀性，在SIO或金属膜上复印并刻蚀出与掩模版完全对应的几何图形.由于光刻工艺是一种非常精细的表面加工技术在平面器件和集成电路生产中得到 ...
光刻技术的现状和发展，姜军,周芳,曾俊英,杨铁锋-红外技术2002年第06期杂志 在线阅读、文章下载。 全部分类 期刊 文学 艺术 科普 健康 生活 教育 财经 ...
光刻工艺流程论文.pdf,光刻,工艺流程,论文,点石文库dswenku.com 《光刻工艺流程论文.pdf》由会员分享，可在线阅读，更多相关《光刻工艺流程论文.pdf（9页珍藏版）》请在点石文库上搜索。
3.4.1 KPR 光刻胶 对于KPR 光刻胶，其组分的变化范围通常为： 聚乙烯醇肉桂酸酯5～10% 5—硝基苊0.25～1.0% 溶剂 90～95%3.4.2 聚酯类光刻胶 无锡科技职业学院毕业设计论文 半导体光刻工艺技术 10 对于聚酯类光刻胶，常用的配方为： 聚肉桂叉丙二酸乙醇
微电子工艺——光刻工艺 学生姓名 电子科学与技术指导教师 二O一三 光刻工艺南京信息工程大学电子工程系，南京 摘要：光刻 (photoetching)是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺，在此之后，晶 圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。. 被 ...
浙大伍广朋研究员课题组《应用化学》封面论文：聚碳酸环己撑酯光刻胶显影工艺 ... 电子束光刻是下一代光刻技术中的有力竞争者，曝光光源电子束突破了紫外光衍射效应的局限，具有极高的分辨率，在微纳加工，尤其是光刻掩膜 制造上有着 ...
光刻工艺论文. 摘要：在平面晶体管和集成电路生产中，要进行多次的光刻，以实现选择性扩散和金属膜布线的目的。. 光刻工艺是利用光刻胶的感光性和耐蚀性，在SIO2 或金属膜上复印并刻蚀出与 掩模版完全对应的几何图形.由于光刻工艺是一种非常精细的表面 ...
光刻技术的历史与现状. 楼祺洪 袁志军 张海波. 【摘要】： 正集成电路的飞速发展有赖于相关的制造工艺——光刻技术的发展,光刻技术是迄今所能达到的最高精度的加工技术。. 集成电路产业是现代信息社会的基石。. 集成电路的发明使电子产品成本大幅度降低 ...
光刻技术发展现状与展望论文.doc,光刻技术发展现状与展望 王安静110800902 微电子(2)班 30多年以来，集成电路技术的发展始终是随着光学光刻技术的不断创新所推进的。在摩尔定律的驱动下，光学光刻技术经历了接触／接近(Aligner)、等倍投影、缩小 ...
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微电子工艺——光刻工艺 学生姓名 电子科学与技术指导教师 二O一三 光刻工艺南京信息工程大学电子工程系，南京 摘要：光刻 (photoetching)是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺，在此之后，晶 圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。. 被 ...
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