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ASML公司光学光刻技术最新进展 2002年9月微细加工技术M1CROFABRICA＇I、IoNT’ECHNoLOGYNo3Sep．2002文章编号： 1003—8213（2002）03－0008—04 ASML公司光学光刻技术最新进展 张强，胡松，姚汉民，刘业异 （中国科学院光电技术研究所，成都610209） …
上海光机所计算光刻技术研究取得进展 稿件来源：上海光学精密机械研究所 责任编辑：ICAC 发布时间：2021-06-10 近日，中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于虚拟边（Virtual Edge）与双采样率像素化掩模图形（Mask pixelation with two-phase …
主要介绍了大规模集成电路制造中光刻工艺的技术现状和发展趋势.首先,在调研光刻机的研发和生产情况的基础上讨论了国内外光刻技术的现状;其次,重点分析了目前用于提高光刻机性能的各种关键技术;最后,简要介绍了下一代光刻技术的研究进展和发展方向 ...
计算机中文核心期刊 1.计算机科学与技术英文版: 《Journal of Computer Science and Technology》（双月刊） SCI-E源期刊，中文重要期刊，EI Compendex源期刊，中文核心期刊 主办单位：中国科学院计算技术研究所 地址：北京2704信箱 邮编：100080 …
原文地址：电子通信类核心期刊作者：拈花的佛 无线电电子学、电信技术 该类共有41种核心期刊： 序号 期刊刊名 ISSN号 统一刊号 1光学学报 0253-2239 31-1252 2中国激光 0258-7025
实验技术与装置光学光刻中的离轴照明技术 （中国科学院上海光学精密机械研究所，上海201800） 提要：本文讨论了光学光刻中的离轴照明技术。主要从改善光刻分辨率、增大焦深、提高空间像对比度等方面对离轴照 明与传统照明作了比较，并用Prolith 仿真软件进行了模拟分析。
光刻技术及其应用的状况和未来发展. 摘要 光刻技术及其在产业中的开发应用一直是业界人们关注的焦点之一,概述了目前几种具有潜力的光刻机技术及其应用的状况,同时通过对相关光刻的技术性和经济性比较,简述了其未来的发展。. Lithography and it＇s development has ...
计算光刻课题组. 稿件来源：ICAC 责任编辑： 发布时间：2018-11-08. 集成电路计算光刻与设计优化实验室依托于中国科学院微电子研究所，成立于2013年7月，由韦亚一博士组建。. 实验室下设如下主要方向：集成电路计算光刻方向、设计与工艺协同优化方向、先进 ...
光刻技术在半导体器件大规模生产中发挥重要作用.今天,多数先进半导体生产都已经应用ArF准分子激光浸润光刻技术.双重图像曝光和侧壁图像转移技术使ArF准分子激光浸润光刻技术延伸到32纳米半节距(HP)器件的制造成为可能.为了制造更小尺寸的器件,必须开发新的制造工艺.极端紫外线光刻是制造22 ...
光刻技术的原理,就是用光学复制的手段,在半导体中形成图像,进而用来制作电路和为微电子设备服务。近年来,我国的光刻技术发展非常迅速,在集成电路的生产中应用非常广泛,已经具备了较为独立和成熟的光刻能力。 …
ASML公司光学光刻技术最新进展 2002年9月微细加工技术M1CROFABRICA＇I、IoNT’ECHNoLOGYNo3Sep．2002文章编号： 1003—8213（2002）03－0008—04 ASML公司光学光刻技术最新进展 张强，胡松，姚汉民，刘业异 （中国科学院光电技术研究所，成都610209） …
上海光机所计算光刻技术研究取得进展 稿件来源：上海光学精密机械研究所 责任编辑：ICAC 发布时间：2021-06-10 近日，中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于虚拟边（Virtual Edge）与双采样率像素化掩模图形（Mask pixelation with two-phase …
主要介绍了大规模集成电路制造中光刻工艺的技术现状和发展趋势.首先,在调研光刻机的研发和生产情况的基础上讨论了国内外光刻技术的现状;其次,重点分析了目前用于提高光刻机性能的各种关键技术;最后,简要介绍了下一代光刻技术的研究进展和发展方向 ...
计算机中文核心期刊 1.计算机科学与技术英文版: 《Journal of Computer Science and Technology》（双月刊） SCI-E源期刊，中文重要期刊，EI Compendex源期刊，中文核心期刊 主办单位：中国科学院计算技术研究所 地址：北京2704信箱 邮编：100080 …
原文地址：电子通信类核心期刊作者：拈花的佛 无线电电子学、电信技术 该类共有41种核心期刊： 序号 期刊刊名 ISSN号 统一刊号 1光学学报 0253-2239 31-1252 2中国激光 0258-7025
实验技术与装置光学光刻中的离轴照明技术 （中国科学院上海光学精密机械研究所，上海201800） 提要：本文讨论了光学光刻中的离轴照明技术。主要从改善光刻分辨率、增大焦深、提高空间像对比度等方面对离轴照 明与传统照明作了比较，并用Prolith 仿真软件进行了模拟分析。
光刻技术及其应用的状况和未来发展. 摘要 光刻技术及其在产业中的开发应用一直是业界人们关注的焦点之一,概述了目前几种具有潜力的光刻机技术及其应用的状况,同时通过对相关光刻的技术性和经济性比较,简述了其未来的发展。. Lithography and it＇s development has ...
计算光刻课题组. 稿件来源：ICAC 责任编辑： 发布时间：2018-11-08. 集成电路计算光刻与设计优化实验室依托于中国科学院微电子研究所，成立于2013年7月，由韦亚一博士组建。. 实验室下设如下主要方向：集成电路计算光刻方向、设计与工艺协同优化方向、先进 ...
光刻技术在半导体器件大规模生产中发挥重要作用.今天,多数先进半导体生产都已经应用ArF准分子激光浸润光刻技术.双重图像曝光和侧壁图像转移技术使ArF准分子激光浸润光刻技术延伸到32纳米半节距(HP)器件的制造成为可能.为了制造更小尺寸的器件,必须开发新的制造工艺.极端紫外线光刻是制造22 ...
光刻技术的原理,就是用光学复制的手段,在半导体中形成图像,进而用来制作电路和为微电子设备服务。近年来,我国的光刻技术发展非常迅速,在集成电路的生产中应用非常广泛,已经具备了较为独立和成熟的光刻能力。 …
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