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该成果已在国际光刻领域期刊Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS发表。 超大规模集成电路先进光刻工艺中，图案尺寸越来越小、密度越来越高，显影后的残留缺陷对图案化的衬底表面越来越粘，如何有效去除显影缺陷一直是业界探讨的热点问题之一，国际上对此也尚未存在完备的解 …
2018年7月23号，爱尔兰都柏林圣三一大学殷硕教授访问中科院宁波材料所。受李华研究员邀请做先进增材制造技术的报告。殷硕博士，现就职于爱尔兰都柏林圣三一大学机械工程及制造学院，任助理教授、课题组负责人，研究方向包括冷喷涂涂层及快速成型技术、选区激光熔化金属3D打印技术以及立 …
计算光刻中心招生信息. 稿件来源：ICAC 责任编辑：ICAC 发布时间：2018-11-21. 工作地点：中国科学院微电子所. 薪金：每月定额生活补助. 研究方向：集成电路设计&工艺联合优化. 招聘岗位：联合培养研究生. 由于研究工作需要，本课题组诚招联合培养研究生2名 ...
光刻技术及其专利分析 发布时间：2020-07-18 17:10 所属平台：学报论文发表 浏览： 次 引言 光刻机是人类最精密复杂的机器，用于在芯片上刻出晶体管器件的结构和晶体管之间的连接通路。
5 月 19 日，上海微电子装备（集团）股份有限公司称，其自研的高亮度 LED 步进投影光刻机，是中国首台面向 6 英寸以下中小基底先进光刻应用领域 ...
维普中文期刊服务平台，是重庆维普资讯有限公司标准化产品之一，本平台以《中文科技期刊数据库》为数据基础，通过对国内出版发行的15000余种科技期刊、7000万篇期刊全文进行内容组织和引文分析，为高校图书馆、情报所、科研机构及企业用户提供一站式文献服务。
软光刻（soft lithography）是相对于微制造领域中占据主导地位的光刻 而言的微图形转移和微制造的新方法，以自组装单分子层、弹性印章和高聚物模塑技术为基础的微细加工新技术。它能制造复杂的三维结构及不规则曲面；能应用于生物高分子 ...
曝光波长为193nm的投影式光刻机因其技术成熟、曝光线宽可延伸至32nm节点的优势已成为目前光刻领域的主流设备。照明系统是光刻机的重要组成部分,其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明,以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外
提起光刻机，那真是中国40年的痛，我国在光刻机领域起步不落后，相信这张报纸的截图大家都看过，这是一张1977年的报纸谈国内光刻机的布局，文中对光刻机的重要性有正确的认知，这个时间比ASML成立要早了10年！可惜，我们错失了历史性机遇！
光刻胶 前段时间，中国芯片加工企业中芯国际向全球最大的芯片设备制造商—荷兰ASML订购了一台最先进的EUV光刻机，这台机器的价格高达1.2亿美元。据业内介绍，ASML一年只能生产十来台光刻机，有钱也不一定买得到。
该成果已在国际光刻领域期刊Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS发表。 超大规模集成电路先进光刻工艺中，图案尺寸越来越小、密度越来越高，显影后的残留缺陷对图案化的衬底表面越来越粘，如何有效去除显影缺陷一直是业界探讨的热点问题之一，国际上对此也尚未存在完备的解 …
2018年7月23号，爱尔兰都柏林圣三一大学殷硕教授访问中科院宁波材料所。受李华研究员邀请做先进增材制造技术的报告。殷硕博士，现就职于爱尔兰都柏林圣三一大学机械工程及制造学院，任助理教授、课题组负责人，研究方向包括冷喷涂涂层及快速成型技术、选区激光熔化金属3D打印技术以及立 …
计算光刻中心招生信息. 稿件来源：ICAC 责任编辑：ICAC 发布时间：2018-11-21. 工作地点：中国科学院微电子所. 薪金：每月定额生活补助. 研究方向：集成电路设计&工艺联合优化. 招聘岗位：联合培养研究生. 由于研究工作需要，本课题组诚招联合培养研究生2名 ...
光刻技术及其专利分析 发布时间：2020-07-18 17:10 所属平台：学报论文发表 浏览： 次 引言 光刻机是人类最精密复杂的机器，用于在芯片上刻出晶体管器件的结构和晶体管之间的连接通路。
5 月 19 日，上海微电子装备（集团）股份有限公司称，其自研的高亮度 LED 步进投影光刻机，是中国首台面向 6 英寸以下中小基底先进光刻应用领域 ...
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软光刻（soft lithography）是相对于微制造领域中占据主导地位的光刻 而言的微图形转移和微制造的新方法，以自组装单分子层、弹性印章和高聚物模塑技术为基础的微细加工新技术。它能制造复杂的三维结构及不规则曲面；能应用于生物高分子 ...
曝光波长为193nm的投影式光刻机因其技术成熟、曝光线宽可延伸至32nm节点的优势已成为目前光刻领域的主流设备。照明系统是光刻机的重要组成部分,其主要作用是提供高均匀性照明、控制曝光剂量和实现离轴照明,以提高光刻分辨率和增大焦深。论文以深紫外
提起光刻机，那真是中国40年的痛，我国在光刻机领域起步不落后，相信这张报纸的截图大家都看过，这是一张1977年的报纸谈国内光刻机的布局，文中对光刻机的重要性有正确的认知，这个时间比ASML成立要早了10年！可惜，我们错失了历史性机遇！
光刻胶 前段时间，中国芯片加工企业中芯国际向全球最大的芯片设备制造商—荷兰ASML订购了一台最先进的EUV光刻机，这台机器的价格高达1.2亿美元。据业内介绍，ASML一年只能生产十来台光刻机，有钱也不一定买得到。
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