芯片制造产业离不开光刻机设备，若是没有光刻机的话，可能一颗芯片都造不出来。如果是生产普通的低端芯片，那么中低端光刻机就足够了。可是要生产5nm及以下的话，必须要用上EUV（极紫外光源）光刻机。
可是全球唯一能生产EUV光刻机的企业是荷兰ASML，台积电，三星若是要生产5nm芯片，也必须采购ASML的EUV光刻机。
其实EUV光刻机之所以重要，是因为光源的问题。波长越短，功率越大的光源，才能够制造高端芯片。EUV光源波长为13.5nm，被用在EUV光刻机上之后，工作波长只有头发直径的一万分之一。
只有精细到极致的波长光源，才能在指甲盖大小的芯片上雕刻上百亿根晶体管。光刻机波长不断缩短，已经演化到最新一代的EUV极紫外光源。
EUV光源的重要性体现在能否生产5nm芯片，光刻机一共经历过5代发展。第一代G-kien光源波长为436nm，可生产制程为800到250nm的芯片。往后发展分别经历了第二代的i-lien，第三代的KrF，第四代的ArF和第五代的EUV。
也就是说，每一代光刻机的进步其实都是光源的进阶，如果能解决光源的问题，相信大部分难题都能迎刃而解。所以在光源的问题上，清华大学传来了好消息。
2月25日，清华大学工程物理系教授唐传祥及研究所在《自然》上发表了“稳态微聚束原理的实验演示”的研究论文。其中重点指出一种新型粒子加速器光源 “稳态微聚束”（Steady-state microbunching，SSMB）的首个原理验证实验。
根据这则消息可知，清华大学在一种光刻机所用的光源上取得了重要实验验证，在SSMB光源的基础上，有望实现更高功率，高重频和窄带宽的相干辐射。最重要的波长可以覆盖到最高EUV波长。
据唐传祥表示，SSMB的潜在应用之一是未来的EUV光刻机光源，这也是国际 社会 重点关注SSMB研究的重要原因。
清华大学教授一句话道出了重点，其团队和科研人员研究的SSMB有望用作未来的EUV光刻机光源，波长可覆盖到13.5nm层次。
同时唐传祥还说到，基于SSMB的光源有望解决自研光刻机最核心“卡脖子”的难题。当然，还需要上下游产业的配合，才能获得真正成功。
清华大学传来的好消息足以振奋人心，在最关键的芯片制造设备光刻机上，已经取得光源的重要突破。看来中科院的布局初见成效。
去年中科院院长白春礼宣布要入局光刻机，当时这则消息引起了业内人员的重视。时至今日，终于在光刻机的布局上初见成效。
虽然清华大学教授也说到，还需要上下游产业的配合，但相信随着时间的推移，下一次不只是解决光刻机光源问题，而是在双工件台、曝光系统、物镜系统等方面都实现同步技术对接。
为国产光刻机迈入高端时代，奠定基础。回到此次清华大学突破光刻机光源本身，已经让光刻机的布局更进一步了。
尽管此次取得进步，但也不可太过骄傲，因为对于国产光刻机产业链来说，还有很长一段路要走。只有不断攻坚克难，坚持到底，才能迎来胜利的曙光。
国外有ASML这样的光刻机巨头，中国还有上海微电子、华卓精科、长春国科、北京国望光学等等众多的国产光刻机玩家。再加上中科院，清华大学这样国内顶级学府机构，再大的困难也会取得突破。
有一就有二，有二就有三，有了这次的突破，一定还会有下一次。期待中国再次传来光刻机产业取得进步的好消息。
对清华大学传来的好消息你有什么看法呢？
朝天辣椒smile
