芯片制造9大核心设备对比

国内光刻机技术比较先进，已经量产的应该是上海微电子装备有限责任公司（简称SMEE)，已经实现90nm的量产，目前正在研究65nm的工艺。其他的包括 合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电科技有限公司、无锡影速半导体科技有限公司等一些企业，在光刻机上衣和有自己的成果。但这些光刻机企业，目前还是在原来的道路上一步一步往前走，相信只要努力，未来也能达到很高的水平。但对于光刻机行业来说，他们的追赶速度虽然很快，但技术进步的速度也是很快。所以，他们只能持续在低端方面，占有一定的市场份额。如果要进入高端市场，目前国内最先进的光刻机技术，应该是中科院光电技术研究所的技术成果。2018年11月29日，新华社报道称，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。据悉，该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片。也就是中国科学院光电技术研究所的这个成果，直接将中国光刻机技术向前推进好几代。当然，这个科研成果，距离完整实现量产，还有好几个关卡要过。首先是光刻分辨力达到22纳米只是一次极限测试，属于单次曝光，还制造不了芯片。其次是，能够实验室制造芯片，还要实现量产，这又是一个关卡。但总的来说，已经有了“光刻分辨力达到22纳米”，那么距离成型机，已经没有那么遥远了。

制造一枚芯片需要经历10余个步骤，且每个步骤需重复6-15遍。因为光刻机的结构很复杂，仅凭一个国家的力量是根本无法完成的。

因为它有几千种工序，每一种工具都极其复杂。因为其中很多技术都是垄断的，我们没有掌握。

由于光刻技术的水平直接决定芯片制造工艺和性能的水平，光刻已成为集成电路制造中最复杂、最关键的工艺步骤。光刻机是光刻技术的核心设备，被誉为半导体工业皇冠上的明珠。目前最先进的是第五代EUV光刻机，它利用极紫外光将最小工艺节点推到7Nm。荷兰阿斯姆制造。        我国光刻技术比较先进，上海微电子设备有限公司已经实现了90nm的批量生产。目前，65nm技术正在研究中。其他包括合肥新硕半导体有限公司、仙腾光电科技有限公司、无锡英苏半导体科技有限公司等企业，在光刻方面有自己的成就。然而，这些光刻企业仍在原有的道路上一步步前进。我们相信只要我们努力，我们就能在未来达到一个很高的水平。但对于平版印刷行业来说，虽然他们的追赶速度很快，但技术进步的速度也很快。因此，他们只能在低端保持一定的市场份额。         要想进入高端市场，中国最先进的光刻技术应该是中科院光电技术研究所的技术成果。2018年11月29日，新华社报道，国家重大科研装备研制项目“超分辨率光刻设备研制”于11月29日通过验收。据悉，该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制。光刻分辨率达到22nm。结合双曝光技术，未来还可以用于制造10nm级芯片。          也就是说，中国科学院光电技术研究所的这一成果，直接推动了中国光刻技术的几代人的发展。当然，要使这一科研成果在量产中得到充分实现，还有几个障碍。一是光刻分辨率达到22nm，这只是一个极限测试。它属于一次曝光，不能做芯片。其次，要能够在实验室制造芯片，还要实现量产，这是另一个关卡。但总的来说，已经有了22纳米的光刻分辨率，所离成型机的距离，还没有那么远。另外，目前的紫外光刻技术需要在7Nm芯片问世后有一个新的技术突破。就像从液体浸泡到EUV的技术飞跃一样。