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根据台积电近期在各大会议期刊上发布的诸多论文推测，其中包括“ArmTechcon2019”、第65届IEEEIEDM会议、以及ISSCC2020等，5nm技术将能在芯片中实现171.3MTr/mm2的晶体管密度，相比之前7nm的91.20MTr/mm2，是差不多两倍的关系。.而在IEDM会议上，台积电报告...
一个好消息传来，中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸与国家纳米中心刘前共同在.NanoLetters上发表了一篇研究论文，论文的主要内容是他们所研发的新型5nm高精度激光光刻方法。.说到芯片这个问题，一直是我国的弱项，美国也频繁以此来卡住我国...
该论文的通讯作者博士生导师刘前特别强调，“不用EUV光刻机就能造成5nm芯片”是一个误读，超分辨率激光光刻技术与极紫外光刻技术是两回事。中科院研发的5nm超高精度激光光刻方法的主要用途是制作光掩模，因为目前国内制作的掩模板主要是中低端的，装备材料和技术大多来自国外。
该论文的通讯作者博士生导师刘前特别强调，“不用EUV光刻机就能造成5nm芯片”是一个误读，超分辨率激光光刻技术与极紫外光刻技术是两回事。中科院研发的5nm超高精度激光光刻方法的主要用途是制作光掩模，因为目前国内制作的掩模板主要是中低端的，装备材料和技术大多来自国外。
原标题：中科院突破5nm光刻技术垄断？事实残酷却又是把双刃剑该论文的通讯作者博士生导师刘前特别强调，“不用EUV光刻机就能造成5nm芯片”是...
该论文的通讯作者博士生导师刘前特别强调，“不用EUV光刻机就能造成5nm芯片”是一个误读，超分辨率激光光刻技术与极紫外光刻技术是两回事。中科院研发的5nm超高精度激光光刻方法的主要用途是制作光掩模，因为目前国内制作的掩模板主要是中低端的，装备材料和技术大多来自国外。
所以，在芯片方面，我国还有很远很远的路要走，它不仅仅是光刻机的问题。而目前来说，连光刻机的问题都需要走很久，需要很长时间的发展，那么芯片的从零到一，需要的时间是更长的。所以，这次的所谓”5nm方案“，也许没有很实际的意义。
7nm，5nm及以上-AMDRYZEN3000将成为巅峰之作吗？(7:26)简介：这是一个有趣的话题，最近被要求讨论，这是我们今天在台式机中使用的每个CPU的设计技术。
今年7月，中国科学院官网上发布的一则研究进展显示，该团队研发的新型5nm超高精度激光光刻方法获得突破。半年来这则消息被以各种形式和标题刷屏，例如解读为“突破ASML的垄断”、“不用EUV光刻机就能造成5nm芯片”。近日，相关人士不得不进行回应：真不是你们想的那样。
据推测，美国阻止了领先的光刻供应商ASML于今年早些时候将机器交付给SMIC，因此，如果5nm激光技术行之有效，这可能对真正需要在这一领域实现自给自足的中国芯片产业有很大的推动作用。尽管中国现在可能不会…
根据台积电近期在各大会议期刊上发布的诸多论文推测，其中包括“ArmTechcon2019”、第65届IEEEIEDM会议、以及ISSCC2020等，5nm技术将能在芯片中实现171.3MTr/mm2的晶体管密度，相比之前7nm的91.20MTr/mm2，是差不多两倍的关系。.而在IEDM会议上，台积电报告...
一个好消息传来，中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所张子旸与国家纳米中心刘前共同在.NanoLetters上发表了一篇研究论文，论文的主要内容是他们所研发的新型5nm高精度激光光刻方法。.说到芯片这个问题，一直是我国的弱项，美国也频繁以此来卡住我国...
该论文的通讯作者博士生导师刘前特别强调，“不用EUV光刻机就能造成5nm芯片”是一个误读，超分辨率激光光刻技术与极紫外光刻技术是两回事。中科院研发的5nm超高精度激光光刻方法的主要用途是制作光掩模，因为目前国内制作的掩模板主要是中低端的，装备材料和技术大多来自国外。
该论文的通讯作者博士生导师刘前特别强调，“不用EUV光刻机就能造成5nm芯片”是一个误读，超分辨率激光光刻技术与极紫外光刻技术是两回事。中科院研发的5nm超高精度激光光刻方法的主要用途是制作光掩模，因为目前国内制作的掩模板主要是中低端的，装备材料和技术大多来自国外。
原标题：中科院突破5nm光刻技术垄断？事实残酷却又是把双刃剑该论文的通讯作者博士生导师刘前特别强调，“不用EUV光刻机就能造成5nm芯片”是...
该论文的通讯作者博士生导师刘前特别强调，“不用EUV光刻机就能造成5nm芯片”是一个误读，超分辨率激光光刻技术与极紫外光刻技术是两回事。中科院研发的5nm超高精度激光光刻方法的主要用途是制作光掩模，因为目前国内制作的掩模板主要是中低端的，装备材料和技术大多来自国外。
所以，在芯片方面，我国还有很远很远的路要走，它不仅仅是光刻机的问题。而目前来说，连光刻机的问题都需要走很久，需要很长时间的发展，那么芯片的从零到一，需要的时间是更长的。所以，这次的所谓”5nm方案“，也许没有很实际的意义。
7nm，5nm及以上-AMDRYZEN3000将成为巅峰之作吗？(7:26)简介：这是一个有趣的话题，最近被要求讨论，这是我们今天在台式机中使用的每个CPU的设计技术。
今年7月，中国科学院官网上发布的一则研究进展显示，该团队研发的新型5nm超高精度激光光刻方法获得突破。半年来这则消息被以各种形式和标题刷屏，例如解读为“突破ASML的垄断”、“不用EUV光刻机就能造成5nm芯片”。近日，相关人士不得不进行回应：真不是你们想的那样。
据推测，美国阻止了领先的光刻供应商ASML于今年早些时候将机器交付给SMIC，因此，如果5nm激光技术行之有效，这可能对真正需要在这一领域实现自给自足的中国芯片产业有很大的推动作用。尽管中国现在可能不会…
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