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丙烯酸酯光敏共聚物的及其在碱溶性光致抗蚀剂中的应用.信息记录材料21年舅j卷第30（｝l勰研究与开发丙烯酸酯光敏共聚物的及其在碱溶性光致抗蚀剂中的应用陈宁，刘朋飞，刘仁，张胜文，刘晓亚（江南大学化学与...
用于光致抗蚀剂的聚对羟基苯乙烯的及其进展.PDF,第16卷第2期化学进展Vol.16No.22004年3月PROGRESSINCHEMISTRYMar.,2004用于光致抗蚀剂的聚对羟基苯乙烯的及其进展3孟诗云李光宪杨其黄亚江(四川大学高分子...
液态光致抗蚀剂的使用寿命（Lifespan）：其使用寿命与操作环境和时间有关。一般温度≤25℃，相对湿度≤60%，无尘室黄光下操作，使用寿命为3天，最好24小时内使用完。二．液态光致抗蚀剂图形转移液态光致抗蚀剂工艺流程：
信怠记录材料2008年第9卷第2期248nm光致抗蚀剂成膜树脂研究进展晏凯,邹应全北京师范大学化学学院,北京10087摘要:光致抗蚀剂photoresist是制造超大规模集成电路的关键性材料之一,随着集成电路集成度的不断增加,光致抗蚀剂由
原标题：【光电科普知识】一文看懂光刻胶（一）.光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。.其组成部分包括：光引发剂（包括光增感剂、光致产酸剂）、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。.光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻...
几种硫鎓盐类光产酸剂的与性质.（北京师范大学化学学院，北京100875）摘要：硫鎓盐类光产酸剂因其较高的产酸效率和好的热稳定性而广泛应用于化学增幅光致抗蚀剂中。.本论文选择不同的酚化合物为原料，使之与二亚砜和氯化氢反应，了一...
光刻工艺的研究论文.doc,毕业设计（论文）报告题目光刻工艺的研究系别专业液晶显示技术与应用班级学生姓名学号指导教师2012年3月光刻工艺的研究PAGEiv光刻工艺的研究摘要：在平面晶体管和集成电路生产中，要进行多次的光刻，以实现选择性扩散和金属膜布线的目的。
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信怠记录材料2008年第9卷第2期248nm光致抗蚀剂成膜树脂研究进展晏凯,邹应全北京师范大学化学学院,北京10087摘要:光致抗蚀剂photoresist是制造超大规模集成电路的关键性材料之一,随着集成电路集成度的不断增加,光致抗蚀剂由
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