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丙烯酸酯光敏共聚物的及其在碱溶性光致抗蚀剂中的应用.信息记录材料21年舅j卷第30（｝l勰研究与开发丙烯酸酯光敏共聚物的及其在碱溶性光致抗蚀剂中的应用陈宁，刘朋飞，刘仁，张胜文，刘晓亚（江南大学化学与...
这类抗蚀剂的化学反应如图卜3所示：图1—3化学放大抗蚀剂的反应原理Fig．1—3．TheprinciPIeofchemicaIampIifiedphotoresist．聚丙烯酸酯及其共聚物体系是出现最早的DUV光致抗蚀剂。
3.2光致抗蚀剂的种类根据光致抗蚀剂在曝光前后溶解性的变化，可以分为正性光刻胶和负性光刻胶两种。（1）负性光致抗蚀剂曝光前光致抗蚀剂在有机溶剂中是可溶解的，曝光后成为不可溶的物质，这类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂，由此组成的光刻胶称为负性胶。
引言1光学投影平版印刷术集成电路的诞生与摩尔定律；光学投影平版印刷术原理与工艺；光学投影平版印刷术材料与功能；2光致抗蚀剂成膜树脂；光敏化合物溶剂与添加剂3化学增幅抗蚀剂原理光致产酸剂4提高分辨率的途径5光学投影平板印刷的极限结束语光学投,新文库网xinwenku
本文主要就半导体核心材料光刻胶及其产业情况进行具体介绍。.1、光刻胶定义及主要成分.光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，目前被广泛用于光电信息产业的微细图形线路...
提供感光高分子材料及其实际应用(课程论文)word文档在线阅读与免费下载，摘要:感光高分子材料及其实际应用摘要：感光高分子是新型功能高分子材料的一种，在当代社会有着广泛的应用的，对它的研究也就有着深远的意义。其中的光致抗蚀材料已经在实际生活中的到了广泛的应用。
另外还要考虑对被刻蚀材料衬底层的选择比。（3）较高的刻蚀速率（HighEtchRate）为保证较高的出片率，要求获得较高的刻蚀速率，通常在刻蚀速率和其它参数之间有些矛盾。如：较高的刻蚀速率可能会降低选择比，增加损伤等。
光刻工艺的研究论文.doc,毕业设计（论文）报告题目光刻工艺的研究系别专业液晶显示技术与应用班级学生姓名学号指导教师2012年3月光刻工艺的研究PAGEiv光刻工艺的研究摘要：在平面晶体管和集成电路生产中，要进行多次的光刻，以实现选择性扩散和金属膜布线的目的。
丙烯酸酯光敏共聚物的及其在碱溶性光致抗蚀剂中的应用.信息记录材料21年舅j卷第30（｝l勰研究与开发丙烯酸酯光敏共聚物的及其在碱溶性光致抗蚀剂中的应用陈宁，刘朋飞，刘仁，张胜文，刘晓亚（江南大学化学与...
这类抗蚀剂的化学反应如图卜3所示：图1—3化学放大抗蚀剂的反应原理Fig．1—3．TheprinciPIeofchemicaIampIifiedphotoresist．聚丙烯酸酯及其共聚物体系是出现最早的DUV光致抗蚀剂。
3.2光致抗蚀剂的种类根据光致抗蚀剂在曝光前后溶解性的变化，可以分为正性光刻胶和负性光刻胶两种。（1）负性光致抗蚀剂曝光前光致抗蚀剂在有机溶剂中是可溶解的，曝光后成为不可溶的物质，这类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂，由此组成的光刻胶称为负性胶。
引言1光学投影平版印刷术集成电路的诞生与摩尔定律；光学投影平版印刷术原理与工艺；光学投影平版印刷术材料与功能；2光致抗蚀剂成膜树脂；光敏化合物溶剂与添加剂3化学增幅抗蚀剂原理光致产酸剂4提高分辨率的途径5光学投影平板印刷的极限结束语光学投,新文库网xinwenku
本文主要就半导体核心材料光刻胶及其产业情况进行具体介绍。.1、光刻胶定义及主要成分.光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料，目前被广泛用于光电信息产业的微细图形线路...
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另外还要考虑对被刻蚀材料衬底层的选择比。（3）较高的刻蚀速率（HighEtchRate）为保证较高的出片率，要求获得较高的刻蚀速率，通常在刻蚀速率和其它参数之间有些矛盾。如：较高的刻蚀速率可能会降低选择比，增加损伤等。
光刻工艺的研究论文.doc,毕业设计（论文）报告题目光刻工艺的研究系别专业液晶显示技术与应用班级学生姓名学号指导教师2012年3月光刻工艺的研究PAGEiv光刻工艺的研究摘要：在平面晶体管和集成电路生产中，要进行多次的光刻，以实现选择性扩散和金属膜布线的目的。
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