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光刻工艺的研究论文.doc,毕业设计（论文）报告题目光刻工艺的研究系别专业液晶显示技术与应用班级学生姓名学号指导教师2012年3月光刻工艺的研究PAGEiv光刻工艺的研究摘要：在平面晶体管和集成电路生产中，要进行多次的光刻，以实现选择性扩散和金属膜布线的目的。
本篇论文的目的是探讨并研究针对目前半导体製程过程中,包含涂佈光阻(Coating),曝光(Exposure),与显影(Developer),烘烤(Baking)等过程中,所产生的Defect种类,产生原因的探讨并加以的区分,而且利用一些实验手法去减少产生Defect的现象发生.例如利用Exhaust的改变,製程程式的设定,HardwareModify等等均可改善...
纳米压印光刻技术原理与实验研究.华中科技大学硕士学位论文摘要本文介绍了纳米压印光刻技术的原理并进行了相关的实验研究，目的在于研究采用纳米压印光刻技术三维微结构的工艺，以促进此项技术更快的走向广泛的实际应用。.本文首先介绍了纳米...
针对搭建光刻系统实验平台时出现的DLP6500存储空间不足的问题，同时为了降低设备成本、简化曝光流程，提出了基于视频流来传输曝光数据的解决方案。.本文结合该解决方案，搭建实验平台并设计上位机软件，对所提的连续扫描曝光方案进行软硬件验证...
本论文的研究工作具体如下：实验方面：1）研究了三维曲面上的毛细力光刻技术，利用此技术制作了微米同心圆环结构和纳米衍射光栅结构，所获得的样品台阶高度分别达到了母板台阶高度的65％和83％；2）研究了去润湿辅助的毛细力光刻技术，我们
本论文在简要介绍了CMOSMEMS技术和键合技术后，设计了一套基于Au．In共晶的低温键合方案。.通过实验摸索得到了厚胶AZ4620光刻，溅射法铟膜的最佳工艺参数。.完成了铟凸点阵列的后，进行了Au．In倒装键合实验，测试了不同条件下的剪切强度。.首先...
上面简述了光刻工艺的流程，在实际工艺中，一个芯片的产生要经历几十次光刻才能完成，有些结构层甚至需要多次光刻才能形成。.光刻是芯片制造的核心，是IC制造的最关键步骤，在主流的微电子制造过程中，光刻是最复杂、昂贵和关键的工艺，其成本约占...
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本篇论文的目的是探讨并研究针对目前半导体製程过程中,包含涂佈光阻(Coating),曝光(Exposure),与显影(Developer),烘烤(Baking)等过程中,所产生的Defect种类,产生原因的探讨并加以的区分,而且利用一些实验手法去减少产生Defect的现象发生.例如利用Exhaust的改变,製程程式的设定,HardwareModify等等均可改善...
纳米压印光刻技术原理与实验研究.华中科技大学硕士学位论文摘要本文介绍了纳米压印光刻技术的原理并进行了相关的实验研究，目的在于研究采用纳米压印光刻技术三维微结构的工艺，以促进此项技术更快的走向广泛的实际应用。.本文首先介绍了纳米...
针对搭建光刻系统实验平台时出现的DLP6500存储空间不足的问题，同时为了降低设备成本、简化曝光流程，提出了基于视频流来传输曝光数据的解决方案。.本文结合该解决方案，搭建实验平台并设计上位机软件，对所提的连续扫描曝光方案进行软硬件验证...
本论文的研究工作具体如下：实验方面：1）研究了三维曲面上的毛细力光刻技术，利用此技术制作了微米同心圆环结构和纳米衍射光栅结构，所获得的样品台阶高度分别达到了母板台阶高度的65％和83％；2）研究了去润湿辅助的毛细力光刻技术，我们
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上面简述了光刻工艺的流程，在实际工艺中，一个芯片的产生要经历几十次光刻才能完成，有些结构层甚至需要多次光刻才能形成。.光刻是芯片制造的核心，是IC制造的最关键步骤，在主流的微电子制造过程中，光刻是最复杂、昂贵和关键的工艺，其成本约占...
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