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微电子工艺——光刻工艺学生姓名电子科学与技术指导教师二O一三光刻工艺南京信息工程大学电子工程系，南京摘要：光刻(photoetching)是通过一系列生产步骤将晶圆表面薄膜的特定部分除去的工艺，在此之后，晶圆表面会留下带有微图形结构的薄膜。.被...
光刻工艺的研究论文.doc,毕业设计（论文）报告题目光刻工艺的研究系别专业液晶显示技术与应用班级学生姓名学号指导教师2012年3月光刻工艺的研究PAGEiv光刻工艺的研究摘要：在平面晶体管和集成电路生产中，要进行多次的光刻，以实现选择性扩散和金属膜布线的目的。
实验材料：硅片、光刻胶、光刻掩膜板。四、实验步骤步骤1：硅片前烘去除水份,80摄氏度保温10分钟；步骤2：用旋涂工艺涂上光刻胶；匀胶机使用方法将设备旋转盘保护上盖旋开，选择好需要晶元配套的吸盘，将吸盘放在匀胶电机轴套上，注意吸盘的方向，务必放稳，放平。
论文格式的实验报告.doc,精品学习资料范文论文格式的实验报告篇一：实验报告论文模板实验项目论文题目班级名，作者姓名...，采用负胶光刻，电极间距和宽度相等，为50μm，整个器件尺寸大小为8*5mm2，该设计由自己完成，工艺由成都亚光...
说起人生中的第一篇小论文，对许多读过研的人来说是一件十分难忘的经历。其实“科研小论文”是研究生同本科生拉开思维方式差距的第一步，它不仅能提高学术水平，还能增强知识运用、分析和解决问题的能力。对…
恩格斯曾说过：“可以说，真正有系统的实验科学，这时候才第一次成为可能。”（《马克思恩格斯选集》第3卷人民出版社1972年版，第523-524页）。顾名思义，与SCI论文其他部分相比，论文的实验部分主要围绕实验、…
（光学专业优秀论文）激光干涉光刻技术光学真正形成一门科学，应该从建立反射定律和折射定律的时代算起，这两个定律奠定了几何光学的基础。17世纪，望远镜和显微镜的应用大大促进了几何光学的发展。光的本性（..
本篇论文的目的是探讨并研究针对目前半导体製程过程中,包含涂佈光阻(Coating),曝光(Exposure),与显影(Developer),烘烤(Baking)等过程中,所产生的Defect种类,产生原因的探讨并加以的区分,而且利用一些实验手法去减少产生Defect的现象发生.例如利用Exhaust的改变,製程程式的设定,HardwareModify等等均可改善...
光刻胶一、光刻胶的类型凡是在能量束（光束、电子束、离子束等）的照射下，以交联反应为主的光刻胶称为负性光刻胶，简称负胶。...乡村基调研报告.ppt应急事件处理.ppt1280编号温病学方歌.pdf东莞银行总行金融市场部2018年第二季度合规...
中文论文题目论文题目黑体三号，居中。下面空一行。中文摘要“摘要：“顶头，黑体四号，后面内容采用宋体小四号，摘要应简要说明毕业论文(设计)所研究的内容、目的、实验方法、主要成果和特色，一般为150-300字。
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实验材料：硅片、光刻胶、光刻掩膜板。四、实验步骤步骤1：硅片前烘去除水份,80摄氏度保温10分钟；步骤2：用旋涂工艺涂上光刻胶；匀胶机使用方法将设备旋转盘保护上盖旋开，选择好需要晶元配套的吸盘，将吸盘放在匀胶电机轴套上，注意吸盘的方向，务必放稳，放平。
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