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接近式光刻研究“精密仪器及机械”学科是精密机械、电子技术、光学、自动控制和计算机技术等学科相互交叉的综合学科。专业的主要研究方向是仪器的智能化、微型化、集成化和网络化。主要研究方向如下：..
中国科学技术大学硕士学位论文紫外深度光刻的计算机模拟及误差修正姓名：陈有梅申请学位级别：硕士专业：精密仪器及机械指导教师：郑津津20070501中国科学技术人学硕十论文0摘要摘要深度光刻是LIGA工艺的核心技术之一，是获得高精度大高宽比微结构的关键工艺。
机械电子工程光刻机结构动力学建模与机械,工程,机电,动力学,光刻机,建模与,国产光刻机,光刻机原理华中科技大学硕士学位论文光刻机结构动力学建模与姓名：谢德东申请学位级别：硕士专业：机械电子工程指导教师：陈学东20070104在集成电路制造业中，光刻机是精度最高，技术...
（光学专业优秀论文）激光干涉光刻技术光学真正形成一门科学，应该从建立反射定律和折射定律的时代算起，这两个定律奠定了几何光学的基础。17世纪，望远镜和显微镜的应用大大促进了几何光学的发展。光的本性（..
无掩模光刻技术及其曝光方案研究.摘要光刻技术是集成电路制造的核心技术，它的刻蚀线宽在半导体技术节点的推动下不断缩小，同时掩模板的成本和制作周期大幅增加，导致光刻生产的流程复杂且成本高昂。.近年来一些无需掩模板的光刻技术飞速发展...
发表高水平论文是每个科研人的目标！在所有的高水平期刊中，Nature及子刊几乎占了半壁江山，让我们膜拜一下最近发表的Nature论文吧！就在19年的第三季度中，Nature及子刊上共出现了25篇以下特征的论文：即它们…
光刻是芯片制造的核心，是IC制造的最关键步骤，在主流的微电子制造过程中，光刻是最复杂、昂贵和关键的工艺，其成本约占整个硅片成本的三分之一甚至更多。.说道芯片制造，不得不说摩尔定律，摩尔定律是由英特尔创始人之一戈登·摩尔于1965年提出来...
步进扫描光刻机模拟隔振试验平台主动减振系统研究.邓习树.【摘要】：步进扫描光刻机在工作过程中,由于工件台和掩模台等分系统具有较高的运动加速度,其运动产生的惯性力将引起光刻机工作核心部分(工作平台)的振动,进而影响曝光的质量。.在曝光过程中...
8月26日，相关论文以《用蜘蛛丝作为光刻胶优于15nm分辨率的三维电子束光刻技术》（3Delectron-beamwritingatsub-15nmresolutionusingspidersilkasaresist）为题发表在NatureCommunications上。
本学位论文围绕着电子束光刻技术直接在基片上产生高精度的垂直、曲面、微尖等三维结构等问题,借助MonteCarlo模拟方法,对电子束光刻和邻近效应校正等问题进行了较全面和较深入的研究。.论文的主要工作集中于电子束光刻的计算机模拟、工艺优化、电子束的...
接近式光刻研究“精密仪器及机械”学科是精密机械、电子技术、光学、自动控制和计算机技术等学科相互交叉的综合学科。专业的主要研究方向是仪器的智能化、微型化、集成化和网络化。主要研究方向如下：..
中国科学技术大学硕士学位论文紫外深度光刻的计算机模拟及误差修正姓名：陈有梅申请学位级别：硕士专业：精密仪器及机械指导教师：郑津津20070501中国科学技术人学硕十论文0摘要摘要深度光刻是LIGA工艺的核心技术之一，是获得高精度大高宽比微结构的关键工艺。
机械电子工程光刻机结构动力学建模与机械,工程,机电,动力学,光刻机,建模与,国产光刻机,光刻机原理华中科技大学硕士学位论文光刻机结构动力学建模与姓名：谢德东申请学位级别：硕士专业：机械电子工程指导教师：陈学东20070104在集成电路制造业中，光刻机是精度最高，技术...
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无掩模光刻技术及其曝光方案研究.摘要光刻技术是集成电路制造的核心技术，它的刻蚀线宽在半导体技术节点的推动下不断缩小，同时掩模板的成本和制作周期大幅增加，导致光刻生产的流程复杂且成本高昂。.近年来一些无需掩模板的光刻技术飞速发展...
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步进扫描光刻机模拟隔振试验平台主动减振系统研究.邓习树.【摘要】：步进扫描光刻机在工作过程中,由于工件台和掩模台等分系统具有较高的运动加速度,其运动产生的惯性力将引起光刻机工作核心部分(工作平台)的振动,进而影响曝光的质量。.在曝光过程中...
8月26日，相关论文以《用蜘蛛丝作为光刻胶优于15nm分辨率的三维电子束光刻技术》（3Delectron-beamwritingatsub-15nmresolutionusingspidersilkasaresist）为题发表在NatureCommunications上。
本学位论文围绕着电子束光刻技术直接在基片上产生高精度的垂直、曲面、微尖等三维结构等问题,借助MonteCarlo模拟方法,对电子束光刻和邻近效应校正等问题进行了较全面和较深入的研究。.论文的主要工作集中于电子束光刻的计算机模拟、工艺优化、电子束的...
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