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机械工程学院课程名称：微制造与微机械电子系统考试时间：类别标准分数实得分数平时成绩10作业成绩90总分100授课教师签字PDMS软光刻技术的研究现状摘要：软光刻技术作为一种新型的微图形复制技术，和传统的光刻技术相比，软光刻技术更加灵活，而且有许多技术方面的优势。
（光学专业优秀论文）激光干涉光刻技术光学真正形成一门科学，应该从建立反射定律和折射定律的时代算起，这两个定律奠定了几何光学的基础。17世纪，望远镜和显微镜的应用大大促进了几何光学的发展。光的本性（..
论文:摘要：微电子技术的发展一直是光刻设备和技术变革的动力，21世纪光刻技术将继续居于诸多技术之首。本文通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战，揭示下一代光刻设备的发展潜力，通过比较浸没式光刻、极紫外光刻机和电子束曝光机的开发现状和特点，预言将来利用极紫外光刻机、电子束...
本篇论文的目的是探讨并研究针对目前半导体製程过程中,包含涂佈光阻(Coating),曝光(Exposure),与显影(Developer),烘烤(Baking)等过程中,所产生的Defect种类,产生原因的探讨并加以的区分,而且利用一些实验手法去减少产生Defect的现象发生.例如利用Exhaust的改变,製程程式的设定,HardwareModify等等均可改善...
Lithography是一个非常古老的技术，有点像我们中国的活字印刷或者是版画，就是一个模板（光刻我们叫掩模版），然后你可以复制无数次。那photolithography（光刻）是什么呢？这就要从芯片的制作谈起了。首先通过高温溶解沙子（二氧化硅），提纯得到晶体
刻蚀工艺技术应用研究分析毕业设计论文.doc基于光刻工艺对分立器件的图像转移应用分析毕业设计论文.doc离子注入工艺的应用及其影响分析毕业设计论文.doc离子注入及其退火工艺技术应用分析毕业设计论文.docx士兰DIF工程BTU站点工艺技术在芯片制造中
它使得生物学、医学等领域研究快速发展，与之相关的科学论文数以万记（未统计具体数字，表示很多的意思）。而且，这项产生于上个世纪的基因芯片技术目前仍然是生物科学领域最具应用价值的技术之一（80年代-克隆，90年代-PCR，21世纪-芯片）。
第六章光刻与刻蚀工艺.ppt,1、在涂胶后的光刻胶薄膜中，溶剂质量一般占总质量的20－40％，而经前烘的光刻胶薄膜中一般只含有3－8％的溶剂。2、如果光刻胶中的溶剂含量较高，显影时其溶解速度相应较快。对于正胶来说，就会导致非曝光区的光刻胶因溶解而变薄，使光刻胶的掩蔽能力…
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本篇论文的目的是探讨并研究针对目前半导体製程过程中,包含涂佈光阻(Coating),曝光(Exposure),与显影(Developer),烘烤(Baking)等过程中,所产生的Defect种类,产生原因的探讨并加以的区分,而且利用一些实验手法去减少产生Defect的现象发生.例如利用Exhaust的改变,製程程式的设定,HardwareModify等等均可改善...
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第六章光刻与刻蚀工艺.ppt,1、在涂胶后的光刻胶薄膜中，溶剂质量一般占总质量的20－40％，而经前烘的光刻胶薄膜中一般只含有3－8％的溶剂。2、如果光刻胶中的溶剂含量较高，显影时其溶解速度相应较快。对于正胶来说，就会导致非曝光区的光刻胶因溶解而变薄，使光刻胶的掩蔽能力…
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