发表服务
上海交通大学硕士学位论文干法刻蚀制程工艺及相关缺陷的分析和改善姓名：张新言申请学位级别：硕士专业：平板显示指导教师：李荣玉;陈勤达20090901上海交通大学工程硕士学位论文摘要液晶显示的广泛应用已经使其取代了CRT，成为如今显示和电视设备的最主要的显示技术，丰富了人们的...
干法刻蚀技术的应用与发展.doc,干法刻蚀技术的应用与发展摘要在半导体生产中，干法刻蚀是最主要的用来去除表面材料的刻蚀方法。而干法刻蚀是一个惯称，它指的是在低气压下雨等离子体有关的腐蚀方法。经过二十多年的发展，经历了多样化的发展过程，使技术不断完善和创新。
干法刻蚀制程工艺及相关缺陷的分析和改善.上海交通大学硕士学位论文干法刻蚀制程工艺及相关缺陷的分析和改善姓名：张新言申请学位级别：硕士专业：平板显示指导教师：李荣玉;陈勤达20090901上海交通大学工程硕士学位论文摘要第II附着于装载腔室...
干法刻蚀制程工艺及相关缺陷的分析和改善.上海交通大学工程硕士学位论文摘要液晶显示的广泛应用已经使其取代了CRT，成为如今显示和电视设备的最主要的显示技术，丰富了人们的日常生活，并为信息的交流和传输做出了巨大的贡献。.随着国内新一轮高...
本文主要是对集成电路制造行业生产过程中干法刻蚀相关的工艺及设备问题的一个基本探究。.主要是想通过制造业生产现场这一平台来结合生产实际对干法刻蚀这一过程中的工艺参数及设备参数进行分析及优化，从而达到产品质量和生产效率的提升，可见干法...
干法刻蚀技术的应用与发展.doc,...干法刻蚀技术的应用与发展摘要在半导体生产中，干法刻蚀是最主要的用来去除表面材料的刻蚀方法。而干法刻蚀是一个惯称，它指的是在低气压下雨等离子体有关的腐蚀方法。经过二十多年的发展，经历了多样化的发展过程，使技术不断完善和创新。
干法刻蚀技术的应用与发展介绍.doc,干法刻蚀技术的应用与发展摘要在半导体生产中，干法刻蚀是最主要的用来去除表面材料的刻蚀方法。而干法刻蚀是一个惯称，它指的是在低气压下雨等离子体有关的腐蚀方法。经过二十多年的发展，经历了多样化的发展过程，使技术不断完善和创新。
硕士学位论文宽带隙氧化锌和氧化镓的干法刻蚀研究ReserchdryetchingwidebandgapZinxOxideGalliumOxide学号：21102082完成日期：2014－05－09大连理工大学DalianUniversityTechnology大连理工大学学位论文独创性声明作者郑重声明：所呈交的学位论文，是本人在导师的指导下进行研究工作所取得的成果。
干法刻蚀是指利用等离子体激活的化学反应或者是利用高能离子束轰击去除物质的方法。.因为在刻蚀中并不使用溶液，所以称之为干法刻蚀。.干法刻蚀因其原理不同可分为两种，一种是利用辉光放电产生的活性粒子与需要刻蚀的材料发生化学反应形成挥发性...
复旦大学硕士学位论文干法刻蚀工艺如何应对193纳米光刻胶的挑战姓名：桑伟树申请学位级别：硕士专业：电子与通信工程指导教师：於伟锋;赵甘鸣20071130论文独创性声明本论文是我个人在导师指导下进行的研究工作及取得的研究成果。
上海交通大学硕士学位论文干法刻蚀制程工艺及相关缺陷的分析和改善姓名：张新言申请学位级别：硕士专业：平板显示指导教师：李荣玉;陈勤达20090901上海交通大学工程硕士学位论文摘要液晶显示的广泛应用已经使其取代了CRT，成为如今显示和电视设备的最主要的显示技术，丰富了人们的...
干法刻蚀技术的应用与发展.doc,干法刻蚀技术的应用与发展摘要在半导体生产中，干法刻蚀是最主要的用来去除表面材料的刻蚀方法。而干法刻蚀是一个惯称，它指的是在低气压下雨等离子体有关的腐蚀方法。经过二十多年的发展，经历了多样化的发展过程，使技术不断完善和创新。
干法刻蚀制程工艺及相关缺陷的分析和改善.上海交通大学硕士学位论文干法刻蚀制程工艺及相关缺陷的分析和改善姓名：张新言申请学位级别：硕士专业：平板显示指导教师：李荣玉;陈勤达20090901上海交通大学工程硕士学位论文摘要第II附着于装载腔室...
干法刻蚀制程工艺及相关缺陷的分析和改善.上海交通大学工程硕士学位论文摘要液晶显示的广泛应用已经使其取代了CRT，成为如今显示和电视设备的最主要的显示技术，丰富了人们的日常生活，并为信息的交流和传输做出了巨大的贡献。.随着国内新一轮高...
本文主要是对集成电路制造行业生产过程中干法刻蚀相关的工艺及设备问题的一个基本探究。.主要是想通过制造业生产现场这一平台来结合生产实际对干法刻蚀这一过程中的工艺参数及设备参数进行分析及优化，从而达到产品质量和生产效率的提升，可见干法...
干法刻蚀技术的应用与发展.doc,...干法刻蚀技术的应用与发展摘要在半导体生产中，干法刻蚀是最主要的用来去除表面材料的刻蚀方法。而干法刻蚀是一个惯称，它指的是在低气压下雨等离子体有关的腐蚀方法。经过二十多年的发展，经历了多样化的发展过程，使技术不断完善和创新。
干法刻蚀技术的应用与发展介绍.doc,干法刻蚀技术的应用与发展摘要在半导体生产中，干法刻蚀是最主要的用来去除表面材料的刻蚀方法。而干法刻蚀是一个惯称，它指的是在低气压下雨等离子体有关的腐蚀方法。经过二十多年的发展，经历了多样化的发展过程，使技术不断完善和创新。
硕士学位论文宽带隙氧化锌和氧化镓的干法刻蚀研究ReserchdryetchingwidebandgapZinxOxideGalliumOxide学号：21102082完成日期：2014－05－09大连理工大学DalianUniversityTechnology大连理工大学学位论文独创性声明作者郑重声明：所呈交的学位论文，是本人在导师的指导下进行研究工作所取得的成果。
干法刻蚀是指利用等离子体激活的化学反应或者是利用高能离子束轰击去除物质的方法。.因为在刻蚀中并不使用溶液，所以称之为干法刻蚀。.干法刻蚀因其原理不同可分为两种，一种是利用辉光放电产生的活性粒子与需要刻蚀的材料发生化学反应形成挥发性...
复旦大学硕士学位论文干法刻蚀工艺如何应对193纳米光刻胶的挑战姓名：桑伟树申请学位级别：硕士专业：电子与通信工程指导教师：於伟锋;赵甘鸣20071130论文独创性声明本论文是我个人在导师指导下进行的研究工作及取得的研究成果。
发表服务