高密度反应烧结SIC的耐化学腐蚀性能相关文档【论文】高密度烧结-硬化材料的性能与应用高密度烧结-硬化材料的性能与应用_材料科学_工程科技_专业资料暂无评价碳化硅烧结压烧结工艺,于2020℃成功地获得高密度SiC陶瓷...静压烧结和反应烧结的SiC陶瓷具有各异的性能特点...陶瓷的耐化学...
【摘要】:正反应烧结碳化硅是由碳-硅反应生成的一种高硬度、高刚度、耐磨损的结构陶瓷。随着现代光学技术的发展,航天航空领域对大尺寸、超轻量化、复杂形状反射镜的需要日益迫切。反应烧结碳化硅由于具有高密度、净尺寸成型、低烧结温度等优点,逐渐发展为新一代反射镜的首选材料。
热压烧结碳化硅镜坯具有致密程度好、抗弯强度高、材质均匀和性能良好等优点。它主要的局限性在于不能制成复杂形状的镜坯,因此限制了热压烧结SiC在轻型反射镜方面的应用。(2)反应烧结碳化硅(RB-SiC)。反应烧结能够出近乎完全致密的碳化硅
目前,碳化硅陶瓷的烧结工艺包括反应烧结、热压烧结、无压烧结及热等静压烧结等。反应烧结是一种近净尺寸制造技术,其工艺简单,成本较低,可以在1450~1600℃的较低温度与较短的时间内通过渗硅反应实现碳化硅的烧结,可以大尺寸、形状复杂
高密度耐腐蚀反应烧结SiC密封件(湖北省科技攻关项目)高性能硅碳棒发热元件的研究(佛山市科技发展专项资金项目...10.以淀粉为填充剂的碳坯渗硅反应烧结碳化硅陶瓷,无机材料学报。2004.3,19(2):302-306
透射组织观察显示,无压渗透法的复合材料SiC-Al界面干净,未出现明显界面反应产物,复合材料基体中存在高密度位错,复合材料的增强相SiC颗粒内存在明显的层错。热应力测试及分析表明,SiCp/Al复合材料比基体材料存在较大的热残余应力。
碳化硅(SiC)是新世纪具有广阔发展潜力的第三代新型半导体材料,SiC晶片和外延衬底在通信、汽车、电网、航空、航天、石油开采以及国防等各个领域有着广阔的应用前景[2]。01碳化硅半导体的特点及其应用1.1特点碳化硅材料具有优良的热力学和电化学
免责声明:本文整理自龙乐的《电子封装中的铝碳化硅及其应用》,其原创性以及文中表达的观点和判断不代表爱锐网,爱锐网本着传播知识、有益学习和研究的目的进行摘录,仅供读者参考交流,如有著作权人或出版方提出异议,将立即删除。
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2碳化硅反射镜表面改性技术简介目前碳化硅是用作空间相机反射镜镜体的热门材料之一,它属于陶瓷材料,表面致密程度远不如玻璃材料,且性能差。因此,要获得高质量光学表面的碳化硅反射镜,就必须对碳化硅表面进行改性。
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热压烧结碳化硅镜坯具有致密程度好、抗弯强度高、材质均匀和性能良好等优点。它主要的局限性在于不能制成复杂形状的镜坯,因此限制了热压烧结SiC在轻型反射镜方面的应用。(2)反应烧结碳化硅(RB-SiC)。反应烧结能够出近乎完全致密的碳化硅
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免责声明:本文整理自龙乐的《电子封装中的铝碳化硅及其应用》,其原创性以及文中表达的观点和判断不代表爱锐网,爱锐网本着传播知识、有益学习和研究的目的进行摘录,仅供读者参考交流,如有著作权人或出版方提出异议,将立即删除。
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