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等离子体在清洗中的应用浅谈中电集团公司第二研究所李俊岭余慧K【摘要】本文简单介绍了等离子体基础理论、等离子体清洗机理以及等离子体技术在清洗方面的应用‘关键词】等离子体；清争；五妒TheapplicationsplasmacleaningAbstract：Thepaperintroducesplasmatheory、plasmacleaningmechanismsplasmacleaning...
等离子清洗的应用与技术研究-1引言等离子清洗的应用,起源于20世纪初,随着高科技产业的快速发展,其应用越来越广,目前已在众多高科技领域中,居于关键技术的地位,等离子清洗技术对产业经济和人类...
在线式等离子清洗采用自动的清洗方式，适用于大规模的生产线，节省人工，降低劳动力成本，整个工艺流程50s内即可完成，使清洗效率获得极大的提高，优势最为明显。1等离子清洗原理等离子清洗分为化学清洗、物理清洗及物理化学清洗。
在线式等离子清洗工艺技术研究.杨文伟.【摘要】：在线式等离子体清洗是在低压下射频产生等离子体,粒子具有活性强、温度低和自由程较长的优点,比常压等离子清洗更适合处理高精密表面处理,加以在线的全自动模式,提高了工业生产中的效率,近年来引起了...
本论文使用等离子清洗设备对硅片边缘进行清洗刻蚀实验。实验研究了工艺隔离环直径(PEZring)、功率、极板硅片间距(Gap)、气体组分等参数对刻蚀速率曲线形状及各薄膜材料间的刻蚀速率选择比的影响。在硅片边缘等离子清洗工艺与芯片制造工艺流程的...
硅片边缘等离子清洗技术及其工艺优化.pdf,删删㈣㈣㈣㈣硅片边缘等离子清洗技术及其工艺优化摘要随着超大规模电路(ULSI)的快速发展，薄膜堆叠层数远超以往。复杂的薄膜结构及较大的薄膜厚度使得薄膜在芯片工艺中在硅片边缘较易产生分层。
等离子体清洗技术应用.ppt,等离子体清洗技术等离子体清洗技术一、等离子体简述二、等离子体清洗三、等离子清洗技术展望一、等离子体简述物质六态常见而又稀少的固液气三态宇宙中广泛存在的第四态——等离子体物质第五态——超级大原子物质第六态——费米凝聚态一、等离子体简述...
近日，哈佛大学医学院发布论文，称从百度上有关于“咳嗽”与“腹泻”的搜索数据上升，推算出新冠病毒自2019年秋天就开始在武汉传播的结论。普乐斯等离子清洗机援引人民日报报道。
等离子清洗用谐振电源及控制策略研究.丁度焓.【摘要】：等离子清洗技术作为制造业中的一种新兴的表面处理技术,因其具有的环保、无害、高效和干燥等优点,将逐渐成为表面清洗领域的主流处理手段。.论文以等离子清洗电源作为研究对象,重点研究了系统的...
论文题目电感耦合式射频等离子清洗系统设计研制专业学位类别分类号密级UDC电感耦合式射频等离子清洗系统设计研制（题名和副题名）（作者姓名）指导教师研究员中国电子科技集团公司（姓名、职称、单位名称）申请学位级别硕士专业学位类别提交论文日期2014.04论文答辩日期2014.05…
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在线式等离子清洗工艺技术研究.杨文伟.【摘要】：在线式等离子体清洗是在低压下射频产生等离子体,粒子具有活性强、温度低和自由程较长的优点,比常压等离子清洗更适合处理高精密表面处理,加以在线的全自动模式,提高了工业生产中的效率,近年来引起了...
本论文使用等离子清洗设备对硅片边缘进行清洗刻蚀实验。实验研究了工艺隔离环直径(PEZring)、功率、极板硅片间距(Gap)、气体组分等参数对刻蚀速率曲线形状及各薄膜材料间的刻蚀速率选择比的影响。在硅片边缘等离子清洗工艺与芯片制造工艺流程的...
硅片边缘等离子清洗技术及其工艺优化.pdf,删删㈣㈣㈣㈣硅片边缘等离子清洗技术及其工艺优化摘要随着超大规模电路(ULSI)的快速发展，薄膜堆叠层数远超以往。复杂的薄膜结构及较大的薄膜厚度使得薄膜在芯片工艺中在硅片边缘较易产生分层。
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等离子清洗用谐振电源及控制策略研究.丁度焓.【摘要】：等离子清洗技术作为制造业中的一种新兴的表面处理技术,因其具有的环保、无害、高效和干燥等优点,将逐渐成为表面清洗领域的主流处理手段。.论文以等离子清洗电源作为研究对象,重点研究了系统的...
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