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等离子清洗的应用与技术研究-1引言等离子清洗的应用,起源于20世纪初,随着高科技产业的快速发展,其应用越来越广,目前已在众多高科技领域中,居于关键技术的地位,等离子清洗技术对产业经济和人类...
2013年5月电子工艺技术ElectronicsProcessTechnology1332013年5月电子工艺技术ElectronicsProcessTechnology133摘要：介绍了在线等离子清洗的原理及其在微电子封装工艺中的应用，通过键合工艺后的剪切推球实验，分析在线等离子清洗对...
1.4论文的主要内容本论文通过开展微波等离子清洗技术研究，从等离子清洗工艺入手，研制微波等离子清洗机，解决集成电路制程及封装技术发展所面临的污染物问题。本论文共分七章，各章内容安排如下：第一章介绍了本课题的背景及意义...
硅片边缘等离子清洗技术及其工艺优化.pdf,删删㈣㈣㈣㈣硅片边缘等离子清洗技术及其工艺优化摘要随着超大规模电路(ULSI)的快速发展，薄膜堆叠层数远超以往。复杂的薄膜结构及较大的薄膜厚度使得薄膜在芯片工艺中在硅片边缘较易产生分层。
在线式等离子清洗工艺技术分析-analysisofon-lineplasmacleaningtechnology.docx,lIIcJeaningmechanism，andputsorwardthemediurngasmatchingprinciple，anaJyzingsurfacefreeenergyandtbecontactAngJeofcleanlinesstestmethod.Our...
论文题目电感耦合式射频等离子清洗系统设计研制专业学位类别分类号密级UDC电感耦合式射频等离子清洗系统设计研制（题名和副题名）（作者姓名）指导教师研究员中国电子科技集团公司（姓名、职称、单位名称）申请学位级别硕士专业学位类别提交论文日期2014.04论文答辩日期2014.05…
等离子体清洗技术应用.ppt,等离子体清洗技术等离子体清洗技术一、等离子体简述二、等离子体清洗三、等离子清洗技术展望一、等离子体简述物质六态常见而又稀少的固液气三态宇宙中广泛存在的第四态——等离子体物质第五态——超级大原子物质第六态——费米凝聚态一、等离子体简述...
等离子体在材料表面改性及清洁技术.1.等离子原理概述：等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下可以以第四中状态存在，如地球大气中电离层中的物质。.这类物质所处的状态称为等离子体状态，又...
这些论文讨论了等离子体处理后表面表征测量和表面成像技术的结果。更多详细信息可联系MYCRO迈可诺技术文章Sandoval-OlveraIG，González-MuñozP，PalacioL，HernándezA，Ávila-RodríguezM和PrádanosP。“通过PSS沉积和等离子处理改性的超滤膜
收稿日期1999-07-12硅片清洗原理与方法综述刘传军赵权刘春香杨洪星电子四十六所,天津300220摘要对硅片清洗的基本理论、常用工艺方法和技术进行了详细的论述,同时对一些常用的清洗方案进行了浅析,并对硅片清洗的重要性和发展前景作了简单论述。
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2013年5月电子工艺技术ElectronicsProcessTechnology1332013年5月电子工艺技术ElectronicsProcessTechnology133摘要：介绍了在线等离子清洗的原理及其在微电子封装工艺中的应用，通过键合工艺后的剪切推球实验，分析在线等离子清洗对...
1.4论文的主要内容本论文通过开展微波等离子清洗技术研究，从等离子清洗工艺入手，研制微波等离子清洗机，解决集成电路制程及封装技术发展所面临的污染物问题。本论文共分七章，各章内容安排如下：第一章介绍了本课题的背景及意义...
硅片边缘等离子清洗技术及其工艺优化.pdf,删删㈣㈣㈣㈣硅片边缘等离子清洗技术及其工艺优化摘要随着超大规模电路(ULSI)的快速发展，薄膜堆叠层数远超以往。复杂的薄膜结构及较大的薄膜厚度使得薄膜在芯片工艺中在硅片边缘较易产生分层。
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等离子体在材料表面改性及清洁技术.1.等离子原理概述：等离子体是物质的一种存在状态，通常物质以固态、液态、气态三种状态存在，但在一些特殊的情况下可以以第四中状态存在，如地球大气中电离层中的物质。.这类物质所处的状态称为等离子体状态，又...
这些论文讨论了等离子体处理后表面表征测量和表面成像技术的结果。更多详细信息可联系MYCRO迈可诺技术文章Sandoval-OlveraIG，González-MuñozP，PalacioL，HernándezA，Ávila-RodríguezM和PrádanosP。“通过PSS沉积和等离子处理改性的超滤膜
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