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磁流变抛光工艺优化及关键技术研究与应用,磁流变抛光,光学零件,去除函数,驻留时间,工艺参数。随着科学技术的快速发展,光学零件在航空、航天、宇宙探测、军事侦察以及激光核聚变等高科技领域的应用越来越广泛,对光学零件...
提供磁流变抛光(MRF)技术的发展word文档在线阅读与免费下载，摘要:磁流变抛光（MRF）技术的发展王伟;郭忠达;刘卫国;许军锋【期刊名称】《中国材料科技与设备》【年(卷),期】2007(004)001【摘要】对磁流变抛光技术20多年来的发展作了简要的回顾，介绍了磁流变液的组成、抛光机理及磁流变抛光技术的...
磁流变抛光工艺及其装备的关键技术研究与应用-光学零件被广泛应用于工程领域中,传统的光学方法无论从生产效率方面还是在精度和质量的稳定性方面,都无法满足对光学零件提出的精度和表面质量的要求,因此研究一种具有高效率和...
摘要：在磁流变平面抛光过程中,抛光力是反应磁流变抛光过程的重要物理量,而抛光机的结构限制使得抛光力无法直接被采集到。本文结合运用有限元方法、系统辨识理论和信号分析与处理等方法,针对磁流变平面抛光过程中抛光力的分析与提取展开研究。
确定性磁流变抛光的关键技术研究确定性磁流变抛光的关键技术研究[D].国防科国防科技大学，博士学位论文技大学，博士学位论文,2004,2004康桂文，磁流变抛光硬脆材料去除特性及面形控制技康桂文，磁流变抛光硬脆材料去除特性及面形控制技术研究术
磁流变抛光装置中的磁路和磁屏蔽设计口周虎口杨建国口李蓓智东华大学机械工程学院上海201620摘要：利用磁流变抛光（MRF）技术对光学零件进行是一项极具前景的超精密技术。.在论述磁流变抛光基本原理的基础上，详细讨论了该装置设计过程中...
【摘要】：磁流变抛光技术(MRF)是利用磁流变抛光液在磁场中流变性进行抛光的一种超精密方法。介绍了利用磁流变抛光技术抛光工件的过程,详细阐述了磁流变抛光技术国内外的研究现状,最后提出了下一步应该重点研究设计磁流变抛光设备和开展相关工艺参数实验。
光学工程论文开题报告范文：磁流变抛光液的研制及去除函数稳定性研究.随着现代科学技术的发展，光学系统和光学元件已广泛应用于空间相机、空间目标探测、航空相机、医疗设备、跟瞄设备、光刻系统当中[1-5]。.由于非球面光学元件在不增加像差数的...
带式磁流变抛光关键技术研究.王德康.【摘要】：光学主要可分为接触式和非接触式,接触式主要依靠各种类型的“磨头”在工件表面产生的剪切力实现去除,所以一般来说由于磨头的磨损,压力的不可控等因素会导致确定性不高,容易产生亚...
集群磁流变效应抛光垫特性及其机理研究.【摘要】：随着光电子／微电子器件应用的日益广泛,对相关元件的质量提出了更高的要求需要在过程中最大限度地提高质量,其中对以单晶硅／碳化硅为代表的硬脆材料晶片的形状精度、表面粗糙度及表面...
磁流变抛光工艺优化及关键技术研究与应用,磁流变抛光,光学零件,去除函数,驻留时间,工艺参数。随着科学技术的快速发展,光学零件在航空、航天、宇宙探测、军事侦察以及激光核聚变等高科技领域的应用越来越广泛,对光学零件...
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摘要：在磁流变平面抛光过程中,抛光力是反应磁流变抛光过程的重要物理量,而抛光机的结构限制使得抛光力无法直接被采集到。本文结合运用有限元方法、系统辨识理论和信号分析与处理等方法,针对磁流变平面抛光过程中抛光力的分析与提取展开研究。
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【摘要】：磁流变抛光技术(MRF)是利用磁流变抛光液在磁场中流变性进行抛光的一种超精密方法。介绍了利用磁流变抛光技术抛光工件的过程,详细阐述了磁流变抛光技术国内外的研究现状,最后提出了下一步应该重点研究设计磁流变抛光设备和开展相关工艺参数实验。
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带式磁流变抛光关键技术研究.王德康.【摘要】：光学主要可分为接触式和非接触式,接触式主要依靠各种类型的“磨头”在工件表面产生的剪切力实现去除,所以一般来说由于磨头的磨损,压力的不可控等因素会导致确定性不高,容易产生亚...
集群磁流变效应抛光垫特性及其机理研究.【摘要】：随着光电子／微电子器件应用的日益广泛,对相关元件的质量提出了更高的要求需要在过程中最大限度地提高质量,其中对以单晶硅／碳化硅为代表的硬脆材料晶片的形状精度、表面粗糙度及表面...
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