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现代IC制造工艺下离子注入技术的研究ResearchofIonImplantationTechnologyinModernICManufacturingProcess学科专业研究生指导教师企业导师集成电路工程夏教授罗登贵经理天津大学电子信息工程学院二零一零年五月独创性声明本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作和取得的研究成果...
现代IC制造工艺下离子注入技术的研究.天津大学硕士学位论文现代IC制造工艺下离子注入技术的研究姓名：吕杨申请学位级别：硕士专业：集成电路工程指导教师：肖夏；罗登贵201005摘要离子注入是现代集成电路制造中一项非常重要的技术。.随着微电子...
现代IC制造工艺下离子注入技术的研究ResearchIonImplantationTechnologyModernICManufacturingProcess学科专业研究生指导教师企业导师集成电路工程吕杨肖夏教授罗登贵经理天津大学电子信息工程学院二零一零年五月气独创性声明本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作和取得的...
集成电路设计流程与工艺流程.doc,PAGEPAGE1超大规模集成电路课程论文题目：集成电路设计生产及工艺流程院系：物理与电子工程学院专业：电子信息科学与技术年级：三年级学号：2009111127姓名：汪星指导老师：张婧婧完成...
电子科技大学硕士学位论文IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究姓名：马万里申请学位级别：硕士专业：微电子与固体电子学指导教师：赵建明20050310电子科技大学硕士研究生学位论文本文主要针对光刻对准特性，从单项工艺和工艺集成的角度，分析了影响光刻对准的各个主要因素，主要包括...
一、复杂繁琐的芯片设计流程芯片制造的过程就如同用乐高盖房子一样，先有晶圆作为地基，再层层往上叠的芯片制造流程后，就可产出必要的IC芯片(这些会在后面介绍)。然而，没有设计图，拥有再强制造能力都没有用，因此，建筑师的角色相当重要。
光罩制作：电路完成后，再把电路制作成一片片的光罩就大功告成啰！完成后的光罩即送往IC制造公司。来看一下光罩长什么样子吧！光罩。图片来源：这里(3)IC制造IC制造的流程较复杂，但其实IC制造就只做一件事而已：把光罩上的电路图转移到晶圆上。
维持IC生产中TiSi2工艺稳定性的研究KeepTiSi2ProcessPerformanceInICManufacture工程领域研究生学校导师企业导师集成电路工程刘伟杰李玲霞教授庄富强高工天津大学电信学院二零一零年四月独创性声明本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作和取得的研究成果，除…
IC生产中ALSICU工艺稳定性研究.【摘要】：铝是仅次于银、铜以及金的第四佳电传导金属，不仅能满足金属化低电阻的要求，而且与二氧化硅之间具有良好的附着力，并且铝极易进行干式刻蚀而形成微型金属连线，因此，在IC制造中，铝金属常被作为连线使用，藉...
IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究.马万里.【摘要】：本文主要针对光刻对准特性,从单项工艺和工艺集成的角度,分析了影响光刻对准的各个主要因素,主要包括对准标记、工艺层、隔离技术等,提出了一些改善光刻对准效果的方法。.对准是衡量光刻机性能的...
现代IC制造工艺下离子注入技术的研究ResearchofIonImplantationTechnologyinModernICManufacturingProcess学科专业研究生指导教师企业导师集成电路工程夏教授罗登贵经理天津大学电子信息工程学院二零一零年五月独创性声明本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作和取得的研究成果...
现代IC制造工艺下离子注入技术的研究.天津大学硕士学位论文现代IC制造工艺下离子注入技术的研究姓名：吕杨申请学位级别：硕士专业：集成电路工程指导教师：肖夏；罗登贵201005摘要离子注入是现代集成电路制造中一项非常重要的技术。.随着微电子...
现代IC制造工艺下离子注入技术的研究ResearchIonImplantationTechnologyModernICManufacturingProcess学科专业研究生指导教师企业导师集成电路工程吕杨肖夏教授罗登贵经理天津大学电子信息工程学院二零一零年五月气独创性声明本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作和取得的...
集成电路设计流程与工艺流程.doc,PAGEPAGE1超大规模集成电路课程论文题目：集成电路设计生产及工艺流程院系：物理与电子工程学院专业：电子信息科学与技术年级：三年级学号：2009111127姓名：汪星指导老师：张婧婧完成...
电子科技大学硕士学位论文IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究姓名：马万里申请学位级别：硕士专业：微电子与固体电子学指导教师：赵建明20050310电子科技大学硕士研究生学位论文本文主要针对光刻对准特性，从单项工艺和工艺集成的角度，分析了影响光刻对准的各个主要因素，主要包括...
一、复杂繁琐的芯片设计流程芯片制造的过程就如同用乐高盖房子一样，先有晶圆作为地基，再层层往上叠的芯片制造流程后，就可产出必要的IC芯片(这些会在后面介绍)。然而，没有设计图，拥有再强制造能力都没有用，因此，建筑师的角色相当重要。
光罩制作：电路完成后，再把电路制作成一片片的光罩就大功告成啰！完成后的光罩即送往IC制造公司。来看一下光罩长什么样子吧！光罩。图片来源：这里(3)IC制造IC制造的流程较复杂，但其实IC制造就只做一件事而已：把光罩上的电路图转移到晶圆上。
维持IC生产中TiSi2工艺稳定性的研究KeepTiSi2ProcessPerformanceInICManufacture工程领域研究生学校导师企业导师集成电路工程刘伟杰李玲霞教授庄富强高工天津大学电信学院二零一零年四月独创性声明本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作和取得的研究成果，除…
IC生产中ALSICU工艺稳定性研究.【摘要】：铝是仅次于银、铜以及金的第四佳电传导金属，不仅能满足金属化低电阻的要求，而且与二氧化硅之间具有良好的附着力，并且铝极易进行干式刻蚀而形成微型金属连线，因此，在IC制造中，铝金属常被作为连线使用，藉...
IC制造工艺与光刻对准特性关系的研究.马万里.【摘要】：本文主要针对光刻对准特性,从单项工艺和工艺集成的角度,分析了影响光刻对准的各个主要因素,主要包括对准标记、工艺层、隔离技术等,提出了一些改善光刻对准效果的方法。.对准是衡量光刻机性能的...
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