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半导体信息杂志投稿

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核心期刊价格太高了,奖学金评定国家级就够了,如果是9月评定的话你现在要抓紧了,因为高校要求必须在知网等数据库上可查,从文章录用到网上收录都需要两三个月时间,我这边有半导体芯片相关的期刊,联系我吧。

由于半导体光电是一份学术期刊,其出版时间可能受到多种因素的影响,因此其每期刊出时间并不是固定的。但是,一般情况下,学术期刊的出版周期比较稳定,半导体光电期刊一般为每季度刊行一期,即每年刊行四期。因此,第三期一般会在每年的第三个月、第四个月或第五个月左右出版。半导体光电期刊的具体时间表,如每期的出版日期、接受稿件时间、审稿时间等信息,可能会因各种因素而有所不同,建议作者或投稿人关注该期刊的官方网站或出版商公告,以获得最新的信息和具体时间表。此外,有些学术期刊会提供在线访问服务,对于需要及时了解最新研究进展、寻找科研合作伙伴等人员来说,这可能是一个更加方便的选择。

《半导体器件应用》电子刊,主办单位:大比特资讯机构(big-bit)承办单位:半导体器件应用网这个是跟半导体相关的,看看用不用得着。

半导体杂志

跟杂志社联系一下,或去邮局订阅《半导体技术》杂志地 址: 河北省石家庄179信箱46分箱邮政编码: 050002电 话: 传 真: 电子邮件: ; 国内刊号: CN 13-1109/TN国际刊号: ISSN 1003-353X邮发代号: 18-65定 价: 15元/期《半导体技术》是由信息产业部主管,中国半导体行业协会、半导体专业情报网、中电科技集团公司十三所主办,业内权威的国家一级刊物之一。1976年创刊,它以严谨风格,权威著述,在业内深孚众望,享誉中外,对我国半导体事业的发展发挥了积极作用。“向读者提供更好资讯,为客户开拓更大市场”,是《半导体技术》的追求,本刊一如既往地坚持客户至上,服务第一,竭诚向读者提供多元化的信息。《半导体技术》是中文核心期刊、中国科学引文数据库来源期刊、中国期刊网、中国学术期刊(光盘版) 全文收录期刊、美国《剑桥科学文摘》、英国《SA,INSPEC》、和俄罗斯《AJ》来源期刊、中国学术期刊综合评价数据库来源期刊、中国科技论文统计源期刊,河北省优秀期刊。《半导体技术》的稿源及读者对象主要是全国各研究机构、大专院校和企事业单位等。月刊 .1976年创刊 .主管单位: 信息产业部主办单位: 中国半导体行业协会 半导体专业情报网 电子十三所编辑单位: 半导体技术杂志社社 长: 杨克武主 编: 周立军主 任: 顾忠良

改善了折反射光学系统的性能波长为157nm的F2准分子激光器的特点是带宽很窄,Cymer公司的产品,其带宽为0.6~0.7 pm,窄带宽改善了折反射光学系统的性能。折反射光学系统的关键是分束器立方体,它使用CaF2材料,能有效地减少束程和系统的体积,大尺寸易碎的CaF2一直是157nm曝光的制约因素,现在SVGL已展出了12~15英寸的CaF2单晶锭,这为制造大数值孔径的折反射分束器设计扫清了道路。同时对单层抗蚀剂和在辐照下透明、持久、可靠的掩模保护膜进行了研究,去年春SEMATECH在加州召开的157nm曝光研讨会上,宣布这方面已取得了重大进展,现在美国的SVGL、ltratech和英国的Exilech公司都在研制整机,SVGL公司准备今年底出样机,明年底出生产型设备。首台售价约1300万美元。比利时的微电子研究中心(IMEC)与ASML公司合作建立了157nm基地,这个基地于今年开始工作,计划在2003年生产,它要求各种相关工艺配套,为70nm CMOS流片创造条件。此外,日本SELETE也在加紧工作。SEMATECH则购买Exitech公司的曝光机开展针对掩模光胶、胶的处理工艺、匀胶显影轨道系统、胶的刻蚀性能和相关测量技术等方面的研究。极紫外曝光欧洲和日本诸公司正在研究1997年由Intel、AMD、Micron、Motorola、SVGL、USAL、ASML组成极紫外有限公司(EUVLLC)和在加州的三个国家实验室参加,共同研发波长为13nm的极紫外(EUV)光刻机样机,今年4月在加州Livermore的Sandia国家实验室推出的样机被视为光刻的一个重要里程碑。据国际半导体杂志Aaron Hand介绍,光源是几个研究单位联合研制的;13nm的波长太短,几乎所有材料都能吸收它,研制捕获这种光的装置十分困难;反射镜光学表面为非球面,表面形貌及粗糙度小于一个原子;所有光学元件表面涂有达40层的多层反射层,每层厚约λ/4,控制在0.1埃精度;EUV光刻采取新的环境控制,来抑制沾污;短波长,无缺陷掩模制作难度极大;样机采用nm级精度无摩擦的磁悬浮工作台。据EUVLLC项目经理Chuck Gwyn介绍,样机是第一步,下一步要研制生产机型为今后几年的生产做准备。现在更多用户表示要采用,并希望参与其中。在欧洲,蔡司、ASML和牛津公司在共同研究;在日本,Nikon、Canon和MC在共同研究。限角散射电子束投影曝光被众多厂家看好限角散射电子束投影曝光(SCALPEL)是高亮度电子源,经磁透镜聚焦产生电子束对掩模进行均匀照明,掩模是在低原子序数材料膜上覆盖高原子序数材料层组成,图形制作在高原子序数材料上。掩模是4倍放大,用格栅支撑。低原子序数的膜,电子散射弱,散射角度小,高原子序数的图形层,电子散射强,散射角度大,在投影光学装置的背焦面上有光阑,小散射角度电子通过光阑,在片子上形成缩小4倍的图像,再经过工作台步进实现大面积曝光。SCALPEL的优点是:分辨率高、焦深长、不需要邻近效应校正,生产率高,它没有EUV系统中昂贵的光学系统,也不需要X光的高成本光源,而且掩模成本比其它方法要低,故被众多厂家看好,Lucent、Motorola、Samsung、TI、eLith、ASAT、ASML等公司都参与其中共同开发,并计划在2002年推出<100nm大生产设备。但目前来看计划有所延迟,有些参与者转而看好PREVAIL。

半导体技术杂志投稿

该期刊非SCI收录,下面的影响因子属于《引证报告》的影响因子 半导体技术 [ISSN:1003-353X] 本刊收录在: 中国科学引文数据库(CSCD)来源期刊(2009-2010) 提示: CSCD扩展库(E) 本刊收录在: 中国科学引文数据库(CSCD)来源期刊库(2013-2014) 提示: CSCD扩展库(E) 本刊收录在: 中国科技期刊引证报告(2012年版) 本刊收录在: 中国科技期刊引证报告(2013年版) 提示: 《引证报告》2013年版影响因子:0.165 本刊收录在: 中国科技期刊引证报告(2014年版) 提示: 《引证报告》2014年版影响因子:0.135 本刊收录在: 中文核心期刊要目总览(2008年版) 提示: 排序:无线电电子学、电信技术 - 第25位 本刊收录在: 中文核心期刊要目总览(2011年版) 提示: 排序:电子技术、通信技术类 - 第23位 主题分类: Material Science and Metallurgy: General and Others TN:电子技术、通信技术: TN:电子技术、通信技术

这个问题 可能不是某个 并不知名的BBS 就可以解决的

石家庄河北半导体研究所主办的“半导体技术”;重庆市声光电研究院主办的“微电子学”。

半导体技术杂志

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石家庄河北半导体研究所主办的“半导体技术”;重庆市声光电研究院主办的“微电子学”。

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半导体光电杂志

稿费能有多少呢??还不如 版面费的 零头呢……最多二三百元吧。通常都只有一百多点

该期刊一直以来都是核心期刊来的。没有改变---品 优刊 文章发表网*

无线电电子学、电信技术类核心期刊一览,排名靠后的应该比较好发文章。 1.电子学报 2.半导体学报 3.通信学报4.电波科学学报 5.北京邮电大学学报 6 .光电子、激光 7.液晶与显示8.电子与信息学报9.系统工程与电子技术10.西安电子科技大学学报11.现代雷达12. 红外与毫米波学报13. 信号处理14. 红外与激光工程15. 半导体光电16.激光与红外17.红外技术18.光电工程19.电路与系统学报20.微电子学21.激光技术22.电子元件与材料23. 固体电子学研究与进展24. 电信科学25. 半导体技术26. 微波学报27.电子科技大学学报28.光通信技术29.激光杂志30.光通信研究31.重庆邮电学院学报.自然科学版(改名为:重庆邮电大学学报.自然科学版)32.功能材料与器件学报33.光电子技术34.应用激光35.电子技术应用36.数据采集与处理37.压电与声光38.电视技术39.电讯技术40.应用光学41.激光与光电子学进展42.微纳电子技术43.电子显微学报

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