本人一直从事新型高介电栅极材料的探索以及相关新型器件的研究工作,重视规律性的探索,取得了一些重要的实验结果。特别是在铪基超薄栅的物性及其构筑硅基MOS器件性能探索方面,取得了一系列的原创性研究成果,得到了国际同行的认可和高度关注。和合作者一起,已经发表SCI学术论文55篇,包括11篇Appl. Phys. Lett, 9篇J. Appl. Phys等。受邀在Prog. Mater. Sci., Crit. Rev. Solid State Mat. Sci.,和J. Mater. Sci. Technol.,等杂志上撰写相关领域的综述论文多篇。3次应邀在国际学术会议(包括MRS年会)上作邀请报告。发表的论文共被SCI刊物正面引用450多次 (单篇最高引用达到七十余次)。此外参与撰写英文书Handbook of Innovative Nanomaterials: From Synthesis and Applications一章节。以主编的身份组织撰写英文书: High-k Gate Dielectrics for CMOS Technology, 由德国WILEY出版社出版。获得的奖励包括中国科学院院长奖(2005年度)和全国功能材料优秀论文奖(2004年度). 先后主持和参与多项包括国家973重大研究计划项目、国家自然科学基金重大研究计划项目、国家自然科学基金、中国科学院百人计划项目基金、中国科学院院长优秀奖专项基金等在内的重要研究课题。