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离子刻蚀设备论文资料发表

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离子刻蚀设备论文资料发表

1、准备工作

下载想要投稿的杂志相关的最新的文献几篇,看看人家怎么写的,照葫芦画瓢,引用文献时,注意不能照抄原文,要将别人的话换种说法转成自己的话。

2、写文章

文章一般包括题目,摘要,引言,正文,结论,参考文献几部分组成。摘要部分语言要简明扼要,一般包括目的,内容手段,结论三部分。引言也要重视,一般包括:课题研究的意义;前人研究的现状和存在问题、不足之类;研究创新点,比如可以解决前人未解决的问题,或者在前人研究的比较浅,你在人家研究基础之上更深入进行研究。 正文是你要表达的内容,语句通顺结论部分,要简洁高度概括。

3、投稿

搜索准备投稿杂志的网站,网站上一般会有格式内容要求,有的还会有论文格式WORD模板,上传稿件时网站上一般有投稿指南,推荐审稿人选所引用的参考文献里的作者专家,要是了解这个领域的专家。

扩展资料:

确定核心期刊的标准可以概括为以下几项,其一主办机构的权威性,其二文章作者的权威性,其三,文章的被引用率及文献的半衰期,测定文章内容新颖性的指标,一般科技文献半衰期较短,社科文献则较。学术界通过一整套科学的方法,对于期刊质量进行跟踪评价,并以情报学理论为基础,将期刊进行分类定级。

在国际科学界,如何正确评价基础科学研究成果已引起越来越广泛的关注。而被SCI、SSCI收录的科技论文的多寡则被看作衡量一个国家的基础科学研究水平、科技实力和科技论文水平高低的重要评价指标。被它收录的论文具有较高的质量,代表了当时有关领域的先进水平。包括了全世界出版的数、理、化、农、林、医、生命科学、天文、地理、环境、材料、工程技术等自然科学各学科。

参考资料来源:百度百科-核心期刊

知网发表论文要满足的条件是论文原创性、论文质量、论文格式、论文语言、论文审稿。

1、论文必须是原创性研究成果,未被其他出版物发表或接受,也不能重复发表。

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论文的写作要求:

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3、设计研究方法和实验方案:根据所选的研究内容和目标,设计相应的研究方法和实验方案,进行实证分析和数据处理。

4、撰写论文的格式和结构:根据期刊或学术会议的要求,撰写论文的格式和结构,包括封面、摘要、引言、方法、结果、讨论、结论、参考文献等。

5、进行论文修改和完善:根据审稿人的意见和自己的反思,对论文进行修改和完善,保证论文内容和结构的合理性和完整性。

6、提交论文并进行答辩:将修改后的论文提交到相应的期刊或学术会议上,进行审稿和答辩。

刻蚀设备相关期刊投稿

半导体制造设备和材料是半导体行业最上游的环节。目前来看,集成电路设备制造是中国芯片产业链中最薄弱的环节。经过20多年的追赶,中国与世界在芯片制造领域仍有较大差距。虽然中国在该领域整体落后,但刻蚀机方面已在国际取得一席之地。

全球半导体设备市场的后起之秀

随着近些年 社会 对集成电路的重视和大批海外高端人才的回归,我国的集成电路在这几年出现了飞速的发展。在IC设计(华为海思)、IC制造(中芯国际)、IC封测(长电 科技 )、蚀刻设备(中微半导体)上出现了一批批优秀的企业。

1、半导体设备

我们的主角中微半导体所在的领域就是半导体设备细分行业,这个行业主要有两种半导体设备,一是光刻机,一个是刻蚀机。中微是以刻蚀机为主要设备的供应商,去年12月公司自主研制的5nm等离子体刻蚀机正式通过台积电验证,将用于全球首条5nm制程生产线。

芯片,这个从前被戏称为:除了水和空气,其他都是进口的行业。最近中美贸易战的焦点就是在芯片领域,美国政府对华为的封锁就是下令美国供应商没有经过国会批准不准买给华为芯片。这也是我们非常气愤的地方,为什么中微半导体有了最先进的设备还是会受人制肘呢?

主要是我国的短板在于光刻机,与国外先进技术有非常大的差距。为什么刻蚀机技术那么好,不能弥补这个短板吗?这就是光刻机和蚀刻机的不同,有一部分人把蚀刻机与光刻机搞混。其实两者的区别非常的大,光刻机是芯片制造的灵魂,而蚀刻机是芯片制造的肉体。

光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面,刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉。光刻机把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分就是集成电路。所以说这是两个过程要用到的设备,而且这两个过程是连续的。

我国光刻机的最高水平是上海微电子的90nm制程,世界顶尖的光刻机是ASML的7nm EUV光刻机,ASM已经开始研制5nm制程的光刻机。相对来说,我国在光刻机制造领域与国际先进水平有很大的差距,高端光刻机全部依赖进口。只能说我国的刻蚀机技术领先,中微半导体的介质刻蚀机、硅通孔刻蚀机位于全球前三。但是在整个产业链的产能和技术上,与一些大型的企业差距非常的大,所以在中美贸易战中显得很吃亏。

那我们说完了中微半导体这个单独的行业领域,现在放眼整个行业,来看看半导体设备到底在这个行业中扮演者什么角色?

2、半导体产业

半导体的发展是越来越集成化,越来越小。从早期的电子管到现在的7nm器件,一个小小的芯片上需要有几百个步骤和工艺,显示出高端技术的优越性。也正是这样的行业特点,导致整个行业非常依赖技术的创新。而半导体设备是制作芯片的基石,没有这一块芯片不可能出现。

可以看到虽然产值低,但是缺这个还真的没办法发展下游。这也是贸易战在芯片领域为什么大打出手的原因,没有先进的技术,很难发展非常广大的信息系统。可以说这一行创造的价值并不高,但是不能缺少,是高端技术的积累。

大国重器:7nm芯片刻蚀机龙头

在技术含量极高的高端半导体产业中,能与美欧日韩等国际巨头同台较量的中国企业凤毛麟角,而中微半导体是其中一家。中微半导体是一家以中国为基地、面向全球的高端半导体微观加工设备公司,主要从事半导体设备的研发、生产和销售。而要了解中微这家公司,先不得不介绍一下公司创始人尹志尧。

尹志尧是一个颇具传奇色彩的硅谷技术大拿。

1980年赴美国加州大学洛杉矶分校攻读物理化学博士,毕业后进入英特尔中心研究开发部工作,担任工艺程师;1986年加盟泛林半导体,开发了包括Rainbow介质刻蚀机在内的一系列成功的等离子刻蚀机,使得陷入困境的泛林一举击败应用材料,跃升为全球最大的等离子刻蚀设备制造商,占领了全球40%以上的刻蚀设备市场。

以此同时,泛林与日本东京电子合作,东京电子从泛林这里学会了制造介质等离子体刻蚀机,复制其Rainbow设备在日本销售,后来崛起为介质刻蚀的领先公司。

1991年,泛林遭老对手美国应用材料挖角,尹志尧先后历任应用材料等离子体刻蚀设备产品总部首席技术官、总公司副总裁及等离子体刻蚀事业群总经理、亚洲总部首席技术官。

为了避免知识产权风险,尹志尧从头再来,用不同于泛林时期开发的技术,研发出性能更好的金属刻蚀、硅刻蚀和介质刻蚀设备,应用材料再次击败泛林,重返行业龙头地位,到2000年,应用材料占据了40%以上的国际刻蚀设备市场份额。

目前全球半导体刻蚀设备领域三大巨头——应用材料、泛林、东京电子,都与尹志尧的贡献密切相关。

2004年8月,已年届六旬的尹志尧带领15名硅谷资深华裔技术工程师和管理人员回国,创立了中微半导体,并在短短数年之间崛起为全球半导体设备领域的重要玩家。

中微从2004年创立时,首先着手开发甚高频去耦合的CCP刻蚀设备Primo D-RIE,到目前为止己成功开发了双反应台Primo D-RIE,双反应台Primo AD-RIE和单反应台的Primo AD-RIE三代刻蚀机产品,涵盖65nm、45nm、32nm、28nm、22nm、14nm、7nm到5nm关键尺寸的众多刻蚀应用。

从2012年开始中微开始开发ICP刻蚀设备,到目前为止己成功开发出单反应台的Primo nanova刻蚀设备,同时着手开发双反应台ICP刻蚀设备。公司的ICP刻蚀设备主要是涵盖14nm、7nm到5nm关键尺寸的刻蚀应用。

这里面看起来是几个似乎不起眼的数据,但里面蕴含了满满的技术含量。而中微到底是否掌握了5nm刻蚀技术,一时间众说纷纭。如今,中微半导体与泛林、应用材料、东京电子、日立4家美日企业一起,组成了国际第一梯队,为全球最先进芯片生产线供应刻蚀机。

随着大规模集成电路制造朝着更高集成度、更小关键尺寸以及更大晶圆半径的方向发展,对刻蚀工艺的精度要求越来越高,所以湿法刻蚀的图形保真性不理想、刻蚀线宽难以控制、表面粗糙等不适用于小尺寸器件刻蚀工艺,进而催生出 干法刻蚀工艺,本文主要为自身接触设备当今主流干法刻蚀机--RIE 的相关知识记录 。 在低气压及放电管两极电场的作用下,电子和正离子分别向阳极、阴极运动,并堆积在两极附近形成空间电荷区,但正离子的漂移速度远小于电子,所以正离子空间电荷区的电荷密度比电子空间电荷区大得多,使得整个极间电压几乎全部集中在阴极附近的狭窄区域内, 此时会产生一种现象--辉光放电 。 RIE刻蚀机又称反应离子刻蚀机,英文名为ReactiveIonEtching,作为干法刻蚀的一种,主要由真空系统、供气系统、控制系统、计算机操作系统等组成。其利用刻蚀气体进行辉光放电的等离子体进行刻蚀,低真空下刻蚀气体在高频电场的作用下产生辉光放电,使气体分子或原子发生电离,形成等离子体,在等离子体中包含正离子、负离子、游离基和自由电子,同时也包含着物理性的离子轰击,加速反应速率、快速撞击表面生成物,有选择地把没有被掩蔽的材料去除,从而得到和掩蔽层完全相同的图。内部真空系统如图一所示,一般为圆柱形真空室,托盘位于真空室的底部,上部阳极接地,底部接13.56MHz的射频功率源,要刻蚀的基片放在功率电极上,刻蚀气体通过顶部进入,按照一定的搭配比例和工作压力,刻蚀与保护同时进行,经电压加速暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,能够在一定的压力下通过电场加速垂直摄入到样品表面,会释放足够的力量对未掩蔽表面材料进行刻蚀,剩余气体及反应生成物气体通过底部抽气系统离开真空室内部, 此时若物理作用占主导则刻蚀损伤较大; 若化学作用占主导则刻蚀速率较慢、各向同性明显,容易造成表面粗糙 ,选择合适的气体组分,不仅可以获得理想的刻蚀选择性和速度,还可以使活性基团的寿命变短,有效地抑制了因这些基团在薄膜表面附近的扩散所能造成侧向刻蚀,大大提高了刻蚀的各向异性特性, 所以适当合理的选择气体比例成为干法刻蚀中重要的一环。 与湿法刻蚀之后的保真性不理想、刻蚀线宽难以控制、表面粗糙等相比 具有很好的各向同性,可以加工更加精密的器件,能够保证细小图形转移后的保真性,同时根据不同工艺要求,通过改变刻蚀气体比例、真空室内部压强、射频功率、温度等能够很好的控制侧壁的粗糙度、陡直度、刻蚀速率等。 湿法刻蚀的适应能力强、表面均匀性好、对沉底损伤小、适用范围广, 与之相比RIE设备造价高、射频等离子的离化率低、工作气压高、刻蚀后真空室残留物难以去除、离子能量损失较多。 以为当前操作的牛津RIE刻蚀设备、型号为Oxford PlasmaPro 100 RIE,主要用于微电子、光电子、通讯、微机械、新材料等领域的器件研发和制造,最大支持6寸片,主要以zep520A胶为掩膜基于CHF3+Ar、CHF3+SF6刻蚀SiO和SiN,适用于微米级和纳米级制程工艺刻蚀,同时可以根据客户不同要求,对工艺参数(包括刻蚀气体比例、真空室内部压强、射频功率、温度等)进行调整达到预期结果。 不积珪步,无以至千里;不积细流,无以成江海。做好每一份工作,都需要坚持不懈的学习。

刻蚀设备相关期刊投稿要求

文章在投稿的时候首先就是必须要和杂志社征稿的内容相符合才可以,要符合主题的要求,比如说是庆祝建国多少周年的一些文章,那么你的论文内容就要向这方面靠拢。杂志社征稿,相对竞争也是比较激烈的,尤其是一些知名度比较高的杂志社,在正稿的时候会有很多投稿者,所以在这种情况下,竞争自然也会增加,那么就要求你的文章内容质量一定要高。文章的质量是非常重要的,但是吸引审核者才是最关键的。所以在这种情况下,就要想办法让你的文章更加具有吸引力,可以在开头或者是引言的部分埋下伏笔。

石油化工方向有哪些期刊审稿快发表容易怎么投稿 石油化工类的期刊杂志有: 2.《中国标准化》:《中国标准化》创刊于1958年,由国家质监局主管,中国标准化研究院和中国标准化协会共同主办的标准行业权威学术期刊。宣传重点是政府的标准化方针和政策;标准化基础理论;标准化技术动向;介绍呼类标准制定、实施的情况和经验;报道国内外标准化动态和热点;企业在生产、经销、检验工作中的标准化情况;合格评定工作动态;质量检验和抽查;科技和标准化基础知识等。 3.《石化技术》:是由中国石化集团资产经营管理有限公司北京燕山石化分公司主办的石油化工综合性技术期刊,创刊于1980年,1994年1月经国家科委批准国内外公开发行。本刊国内统一连续出版物号:CN11-3477/TE,国际标准连续出版物号:ISSN1006-0235,由中国国际图书贸易总公司国外发行,国外代号1352Q。 4.《石油和化工设备》:本刊是国家一级协会——中国化工机械动力技术协会会刊,是国家级科技信息型刊物,现为月刊,国内外公开发行。主要报道石油、化工设备及防腐技术的最新动态;交流设备管理经验;介绍石油、石化、化工设备设计、制造、使用、维修、管理和防腐技术,石油、石化、化工设备和防腐蚀方面的新产品、新技术、新材料、新设备,是一本全面反映石油、石化、化工设备及防腐技术的综合性专业期刊。 …………评职称发表论文需要注意些什么呢? 1、发表论文前首先是要了解当地职称政策或者是学校的有关规定,比如对发表论文是否有特殊要求(字符数、文章类型、刊物要求等) 2、 注意时间,不要耽误递交材料的时间。 一般学术期刊从投稿到出刊再到邮递杂志到手,之间需要1-2个月的时间。杂志一般为定期出刊,但不定期截稿,部分投稿较多的杂志截稿会比出刊时间提前2-4个月。 3、鉴别杂志,非法的期刊杂志发表的论文无效。 正规期刊当在国家新闻出版总署查询系统里可以查询到,凡查询不到的,均为非法期刊。作者选择杂志的时候,应当先在新闻出版总署的查询系统里查询后再决定,以防发表论文到非法期刊上而使论文发表无效。 4、控制字符数,杂志都有版面字符要求。 普刊一般在2400-3000字符数1版,如果论文字符数太多,版面要增加,费用就要翻倍。字符数太少,内容不够,审稿通不过。投稿前了解杂志的字符数要求是必要的。 5、论文写作应规范。 论文要有标题,作者,作者单位,摘要,关键词,正文,参考文献(没有可无)等。论文内容要有论点,一些解题类,课堂备案类的文章是最不容易通过审核的。 6、注明联系方式,让编辑能随时与你沟通。 一般情况下,作者投稿需要说明自己的联系方式及通讯地址,这涉及到了杂志邮递,文章沟通等问题。这类联系方式内容是不会被刊登出来的,但必须要添加,一般都添加在文章的最后。

刻蚀设备相关期刊投稿经验

不同工种的工艺工程师差不少呢。我觉得光刻相关的最值钱,毕竟目前人工湿法刻蚀还很难被机器完全取代。出师呢,至少2-3年才有资本说自己干过。一个有经验的工艺工程师大约需要5-10年的时间吧。毕竟很多异常状况少见,需要时间和经验。

自主可控。在2020年的时候,中微公司就已经推出了5nm的刻蚀机,这也得到了芯片制造的巨头公司台积电、三星等的大量订购。目前情况下,中微公司已经成为全球刻蚀机产业的中流砥柱。从制程设备到系统,全部都是中微公司独立自主制作。中微半导体设备(上海)股份有限公司(证券简称“中微公司”)是一家以中国为基地、面向全球的微观加工高端设备公司,为集成电路和泛半导体行业提供具竞争力的高端设备和高质量的服务。

蚀刻机和光刻机其实就是完全不同的两种设备,不论从功能还是结构上来说都是天差地别,光刻机是整个芯片制造过程中最为核心的设备,芯片的制程是由光刻机决定的,而不是蚀刻机。具体如下:

1、工作原理

如果把制造芯片比喻成盖房子,那么光刻机的作用就是把房子的结构标注在地上。刻蚀机就是在光刻完成以后才登场的设备,也是光刻完成以后最为重要的设备之一。刻蚀机最主要的作用就是按照光刻机已经标注好的线去做基础建设,把不需要的地方给清除掉,只留下光刻过程中标注好的线路。

光刻机相当于画匠,刻蚀机是雕工。前者投影在硅片上一张精细的电路图(就像照相机让胶卷感光),后者按这张图去刻线(就像刻印章一样,腐蚀和去除不需要的部分)。

2、结构

光刻机的最主要的核心技术就是光源和光路,其光源和光路的主要组成部分有四个,光源、曝光、检测、和其他高精密机械组成。对比之下,蚀刻机的结构组成就要简单很多,主要是等离子体射频源、反应腔室和真空气路等组成。

3、售价

ASML的EUV光刻机单台售价很高,蚀刻机的售价要低很多了。

4、工艺

刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉,光刻机是将图形刻到硅片上。

5、难度

光刻机的难度和精度大于刻蚀机。

刻蚀设备相关期刊投稿邮箱

大刊?我就当稿费高的就是大刊了。楼主给我的感觉是和机电一样的写手级别吧。呵呵……说正事要紧。校园类《花火》A、B版 千字100元,编辑很多,一般A版跟 夏七夕 邮箱: 没有回复,但是过了初审会有回复的。会主动加亲的QQ。B版跟 正直的松小树 邮箱:(飞魔幻和飞言情都收,稿费千字80)同上米过就米回复。还有《男生女生》金、银版,千字100元,跟的编辑也多我跟的是四叶草姐姐 邮箱 三天内会回复初审。一般金版(魔幻、悬疑)20号截稿,银版(校园)10号截稿还有很多千字80的校园杂志就不写了。如果有需要可以PM我,我是一个小写手。(*^__^*) 嘻嘻……我有开百度HI的。青春小说类《最小说》这个小四的杂志不用说了。《漫女生》饶雪漫主笔的杂志,稿费千字150(MS现在降了是120,也有说的100的,不是很明白,因为稿子看质量定的。)编辑跟今惜,邮箱我忘了,楼主可以自己搜索一下。《知音女孩》故事版、校园版和《知音》是一家的。稿费很高3000字内,450——600块一篇。我跟德芙的,她是个很好的编辑哟。邮箱样稿和约稿函请见:成人杂志最红的是《知音》千字千元。最牛的杂志了。我米写过,因为怕死无全尸。亲可以谢谢。邮箱是:《打工》也是《知音》家的杂志《闺房》这个杂志好过稿一点,稿费千字150。邮箱 发个约稿函给你看看《闺房》下半月(蜜糖版)约稿函杂志定位:给所有在恋爱中或者向往恋爱的女人,满足女人对爱情的所有幻想。宗旨:爱情,是所有女人的结和劫。滚滚红尘中,哪个女人不曾爱过,哪个女人不曾为爱痴心,为爱疯狂,为爱留下,屡屡创伤?那么,我们的杂志,就是给她们,爱的感觉,爱的氛围,爱的幻想,爱的。卷首:每期一个与诗词有关的荡气回肠的爱的故事。可以是古代的,也可以是现代的,但必须是轰轰烈烈的是历史上曾经发生过或者有名的传说,并一定有相关诗词。比如说陆游与唐婉,关盼盼和张愔,要有震撼人心的事件,要有死去活来的感觉。看完后要让读者,羡慕,嫉妒,憧憬,感动。可把爱情观点溶入。诗词可以单独列出来或者将其中最有名的诗句列出来,并注释其含义。1000字以内。版权页:每期封面上有一个小别号,在版权页上讲一个小小的与别号有关的小故事或小知识。比如如果是天鹅号,就可以写写天鹅是怎么对配偶至死不渝的。200字。每期的封面上可以有一句善意提醒,是句经典的话,比如:纵使伤心,也不要流泪,因为你不知道有谁会爱上你的笑容。名人蜜糖坊:名人不为人知的爱情、婚恋故事。温暖、伤情、浪漫、家常都可以。3000-3500字。爱情痕迹夜色倾城:性感小说,可以很情色,也可以很幽默,可以令人心碎,可以生离死别,也可以让人温暖,但一定要时尚性感。字数限定:5000字以内。零下50度:都市爱情故事。写都市里的纷扰、挣扎、欲望而生的残酷爱情,沿袭《闺房》的风格。字数限定:5000字以内。幻城时光:悬疑、悬幻类。类似于郭敬明小说的风格。语言要非常非常唯美,非常非常打动人。3000-4500字。薄凉之恋:一些爱情,因为世俗,让人伤感。因为人与人的差异而交错,因为人与人的误会而分开。这个故事,就是写爱情里的薄凉的。类似于雪小禅稿子的风格。字数:3500-4500字。栀子花开:与青春岁月有关的爱情故事。有些淡淡的校园感觉和暗恋感觉的爱情故事,读完有淡淡的伤感、惋惜和叹息。类似于安妮宝贝或者宁子的稿子。3000-4500字。阳光背后:口述的关于少女的经历的小故事。1000字左右。青春里的呐喊:青春隐私故事。要真实,感人,现场感强,可以与性有关,但是一定不能色情。3000-4500字。爱情蜜谋(本版块编辑独立完成,不接受投稿)新鲜线人:最前卫时尚流行的一类人。组成:故事、点评、知识链接,名词解释等。情敌CLUB:与情敌有关的种种。用故事的形式讲出来。可以讲计策,也可以讲感情,或者情敌教会自己的人生道理。身体宝贝:女孩子最想知道的生理知识。辣妹信箱:关于情感的问答,回答要犀利幽默,让对方在刺痛中醒悟。魔法苹果:星座、塔罗牌、解梦等。分在各栏目中。淑女课堂:教女孩子礼仪知识的栏目。奢华传说:教给女孩子名牌知识、奢侈品常识或传说故事。)甜蜜测试:与爱有关的测试。穿插在文章中间。奇情乐园:动物之间忠贞不渝的、有趣的爱情,奇怪的爱情故事资讯,新闻等。绯言绯语:议论明星的最新情事动向的栏目。幽默风趣调侃,博人一笑,娱乐大众。以上稿件需原创,稿费千字150元。稿费发放及时,请大家多多赐稿编辑:朱颜晓镜 投稿信箱: 联系方式:115026987(已满) 979564373(请注明:作者) 样稿博客: 稿酬标准:150/千字 截稿日期:每月13日 28号左右出终审结果还有《尤物》杂志也好过稿的,稿费千字100——300千字。杂志简介:《尤物》是一本定位在18—30岁女性之间的关注女人世界、女人梦想的大型都市女性叙事读本。为河北省《女子世界》杂志的下半月刊,全国统一刊号:CN13-1034/C。声明:子衿和沁源由于工作变动,已经离开《尤物》。请她们名下的写手与我联系!谢谢!稿费标准:千字100——300元,视不同等级而定。 发放日期:见刊后两个月内。第一板块:非常倾诉私密稿件:每期6——8篇。每篇2P,各4000字内。以第一人称讲述婚姻、爱情、家庭、生活中不为人道的隐私。要求选题新颖,故事性强,注重心理描写(注意性描写不要太直露)第二板块:时尚情感情动瞬间:2P。4——5篇,每篇400——800字。令人感动的细节、使人在情感上产生共鸣的瞬间。可以是爱情,亲情,友情等。惊声尖叫:2P,1篇,3800字左右。要求:注意气氛渲染,故事有悬念,摒弃太过血腥描写。经典爱情:令人感动的现世爱情纪实故事。2P,1篇。其余四篇:各4000字内的爱情爱情故事。要求文字要么唯美,要么沉痛,要么浪漫。第三板块:人物稿尤物说事:本刊重头纪实,5000字内,2——3 P,具有离奇色彩或警示意义的故事。可以与当下热点联系起来,情节要引人入胜,以第三人称写。零度尤物:2P,1800字内。另类的出位的边缘的女性人物。可以是搞艺术的,也可以是其他。其他板块:卷 首:1P。600——800字。有关两性情感的具有一定哲理性小故事。黑白档案:2P。情感、性方面不同寻常的经历。灰色调,第一人称叙述。青涩祭语:1P。青春年少时发生的有关身体,情感等带有私密性质的故事。绝对实录:2P。带有纪实气质、讲述女性情感私密性质的故事,要求文字朴实。尤物话吧:2P,每篇800字,共4篇左右。讲述女人观点,忌纯粹的说理。网事如烟:1P,2篇。800字以内。讲述网恋、网络中遇见的情感经历。特别提示:1.每月20号截稿,5号定稿,请作者注意时间。2.请在文头标明所投栏目,字数。3.稿件后务必注名自己的真实姓名、通讯地址、电话、EMAIL、QQ号等,以便及时联系。4.严禁剽窃,抄袭,网上下载,一旦发现稿酬全无,请勿一稿多投,也不要同时投几个编辑。编辑:流云邮箱:以上都是口碑稿费都很好的杂志,还有很多,我就不写了。因为不知道楼主喜欢写什么样的就不盲目乱写,耽误大家的时间了。韩式什么的千字40多点的就不写了,那些小杂志怕楼主看不上眼哈。大家都是写手以后可以多多交流。如楼主是大作家,就恕我冒昧了哈!

刻蚀速率:刻蚀前后的厚度差与刻蚀时间的比。反应刻蚀快慢的量

选择比:同一种刻蚀方法刻蚀不同材料的刻蚀速率不用,选择比即为同一种可是方法刻蚀两种不同材料的刻蚀速率的比。

刻蚀是通过溶液与材料反应或其它机械方式来剥离、去除材料的一种微加工方法。刻蚀分为干法刻蚀和湿法刻蚀。(1)湿法刻蚀:是一个纯粹的化学反应过程,是指利用溶液与预刻蚀材料之间的化学反应来去除未被掩蔽膜材料掩蔽的部分而达到刻蚀目的。湿法刻蚀在半导体工艺中有着广泛应用:磨片、抛光、清洗、腐蚀 优点:选择性好、重复性好、生产效率高、设备简单、成本低 缺点:钻刻严重、对图形的控制性较差,不能用于小的特征尺寸;会产生大量的化学废液 (2)干法刻蚀种类很多,包括光挥发、气相腐蚀、等离子体腐蚀等。优点:各向异性好,选择比高,可控性、灵活性、重复性好,细线条操作安全,易实现自动化,无化学废液,处理过程未引入污染,洁净度高。缺点:成本高,设备复杂。干法刻蚀主要形式有纯化学过程(如屏蔽式,下游式,桶式),纯物理过程(如离子铣),物理化学过程,常用的有反应离子刻蚀RIE,离子束辅助自由基刻蚀ICP等。 干法刻蚀方式很多,一般有:溅射与离子束铣蚀, 等离子刻蚀(Plasma Etching),高压等离子刻蚀,高密度等离子体(HDP)刻蚀,反应离子刻蚀(RIE)。另外,化学机械抛光CMP,剥离技术等等也可看成是广义刻蚀的一些技术。单位时间内腐蚀的深度称为刻蚀速度。由于不同材料对刻蚀液/离子束的敏感程度不同,所以其刻蚀速率也不同。刻蚀的选择比定义为对于不同材质之薄膜间的蚀刻速率比。

《做人与作文》;

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