。表征 粉末X -射线衍射（ XRD ）数据收集 X射线和飞利浦diffractometers利用衍射仪？辐射。 谱之前和之后焙烧（图1 ）可 索引的六角晶格如预期的MCM - 41的[ 20 ] 并显示出一些收缩的结构经焙烧， 所指出的减少，晶胞参数， 的A0 （表1 ） 。氮吸附和解吸等温线 测量的煅烧样品77K下使用BELSORP 28SA和麦克ASAP的2000系统。那个 样品被加热到约200 ◦ c根据在真空 至少2小时删除任何水吸附等温前 被记录在案。的形状等温线，图所示。 2 ， 也如预期的MCM - 41的一个步骤一个相对 压力约 [ 20 ] 。表面积（ SBET ）的计算模型的比表面积[ 21,22 ]和大于 800平方米/克的所有样品。孔径和孔体积 估计使用多利莫尔和治疗（卫生署）方法 [ 23,24 ] 。 元素分析的MCM - 41的是用 一个电感耦合等离子体原子发射光谱仪 （精工仪器，千叶，日本） 。数额 硅被确定为 ％ （宽/ w ）和钠这是 ％ （瓦特/瓦特） 。数额的碳被确定为 ％ （瓦特/ W型）使用总碳分析仪（瑞格，美国） ，这表明 该煅烧过程中有效地消除了 表面活性剂。 。氨基酸吸附 该程度的赖氨酸吸附到MCM - 41的下 一系列的解决方案浓度， pH值，离子强度 和接触时间确定一批利用吸附 测试在25 ± 1 ◦ C和解决枯竭的分析。多芯片组件， 41个样品（ 〜 40毫克）和解决方案的消旋盐酸赖氨酸 在水（ 10毫升）混合装在密封的塑料 小瓶使用旋转混合器（ Heto Rotamix公园）操作系统 在40转。 pH值的解决办法进行了调整之前 混合使用氢氧化钠或盐酸。经过选择 接触时间的溶液pH值是衡量和禁赛 被离心分离之前分析 上清使用总有机碳（ TOC ）分析仪 （岛津总有机碳- 5000A ） 。标准曲线产生 赖氨酸超过适当的浓度范围为每一套 样本和标准的解决方案是用来检查 分析仪的性能定期在分析。 确定的浓度，纠正的（小） 影响残炭的MCM - 41上的目录分析， 确定一个控制一批试运行在同一 实验条件，但没有办法赖氨酸存在于溶液中。(仅供参考)
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