从化学刻蚀和反应离子刻蚀技术的讨论可知,化学刻蚀的腐蚀速率快,各向异性好且成本低,反应离子刻蚀的腐蚀速度较慢,成本较高。我们要加工的振子厚度为几百微米,且要求腐蚀速度的各向异性大,因此,利用化学刻蚀技术来加工振子。包括:基片加工、沉积保护膜、光刻、化学各向异性刻蚀等工序。每一步都很重要,如果基片表面缺陷多,表面有划痕,腐蚀后这些划痕会加宽加深,影响振子的表面平整度。如果基片清洗不干净,基片表面的尘埃会减小石英与保护膜之间的附着力。保护膜附着力不好,会导致刻蚀振子的失败。但是,所有工序中最关键的还是化学各向异性刻蚀工艺。 腐蚀速度取决于腐蚀液的组成及温度,温度越高,腐蚀速度越快。我们以HF、NH4F、 NH4HF、KF为腐蚀液的主要组分,对各种不同组分及不同浓度的腐蚀液在不同温度下进行了大量试验。实验中遇到的主要问题是腐蚀后石英音叉振子的±X的侧壁形状不一致,如图2所示,由于X侧壁只有一个方向很陡,而另外一方有凸出边缘,造成后道工序无法完成。分析了SiO2在HF中的